[實用新型]陰極弧靶裝置及真空多弧離子鍍膜機

有效

• 申請號: 201721333587.3
• 申請日: 2017-10-17
• 公開（公告）號: CN207347652U
• 公開（公告）日: 2018-05-11
• 發明（設計）人: 王軍紅;車少鋒;鄭衛民;王珍
• 申請（專利權）人: 東莞市典雅五金制品有限公司
• 主分類號: C23C14/32
• 分類號: C23C14/32;C23C14/56
• 代理公司: 東莞眾業知識產權代理事務所(普通合伙) 44371
• 代理人: 何恒韜

1.一種陰極弧靶裝置，其特征在于：包括弧靶體、靶材、引弧系統、滑動桿、滑動密封機構及滑動氣缸；所述靶材安裝于弧靶體一側，所述滑動桿可滑動地安裝于弧靶體一端，所述滑動氣缸與滑動桿相連接，并通過滑動桿帶動引弧系統靠近或遠離靶材；所述滑動密封機構設置于滑動桿之外，用于對滑動桿進行真空密封；所述滑動密封機構包括波紋管及波紋管架體，所述波紋管架體安裝于弧靶體上，所述波紋管的兩端焊接于波紋管架體上。

2.一種真空多弧離子鍍膜機，其特征在于，包括：

真空多弧離子鍍膜系統，包括真空鍍膜室及真空鍍膜室內的陰極弧靶裝置和工件架，在真空多弧離子鍍膜系統啟動之后，陰極弧靶裝置的靶材表面產生電弧，發射金屬蒸氣，金屬蒸氣中的原子電離成正離子，正離子在真空鍍膜室內運行時與反應氣體離子結合，沉積在工件架的工件表面形成薄膜；所述陰極弧靶裝置包括弧靶體、靶材、引弧系統、滑動桿、滑動密封機構及滑動氣缸；所述靶材安裝于弧靶體一側，所述滑動桿可滑動地安裝于弧靶體一端，所述滑動氣缸與滑動桿相連接，并通過滑動桿帶動引弧系統靠近或遠離靶材；所述滑動密封機構設置于滑動桿之外，用于對滑動桿進行真空密封；所述滑動密封機構包括波紋管及波紋管架體，所述波紋管架體安裝于弧靶體上，所述波紋管的兩端焊接于波紋管架體上；

抽真空系統，包括第一旋片泵、羅茨泵和分子泵；所述第一旋片泵用于對真空鍍膜室進行一級抽真空，第一旋片泵的進氣口連通羅茨泵的出氣口；所述羅茨泵用于對真空鍍膜室進行二級抽真空，羅茨泵的進氣口連通分子泵的出氣口；所述分子泵用于對真空鍍膜室進行三級抽真空，分子泵的進氣口連通真空鍍膜室的出氣口；

控制系統，用于控制真空多弧離子鍍膜系統及抽真空系統的工作運轉。

3.根據權利要求2所述的真空多弧離子鍍膜機，其特征在于：所述真空鍍膜室設有真空室門，真空室門通過鉸鏈安裝在真空鍍膜室一側，真空室門上設置有觀察窗及把手。

4.根據權利要求2所述的真空多弧離子鍍膜機，其特征在于：所述陰極弧靶裝置包括圓柱磁控靶裝置和/或平面磁控靶裝置。

5.根據權利要求2所述的真空多弧離子鍍膜機，其特征在于：所述真空鍍膜室設有若干加熱器，用于鍍膜時對真空鍍膜室加熱。

6.根據權利要求2所述的真空多弧離子鍍膜機，其特征在于：所述抽真空系統還包括第二旋片泵，所述第二旋片泵用于為分子泵提供真空工作環境，所述分子泵設置有三組。

7.根據權利要求2所述的真空多弧離子鍍膜機，其特征在于：所述分子泵與真空鍍膜室之間設置有截流閥。

8.根據權利要求2～7中任意一項所述的真空多弧離子鍍膜機，其特征在于：還包括水冷系統，用于對真空多弧離子鍍膜系統及抽真空系統進行散熱降溫。