[實用新型]一種掩模板邊角殘留鉻的清除裝置

有效

• 申請號: 201721329399.3
• 申請日: 2017-10-14
• 公開（公告）號: CN207281464U
• 公開（公告）日: 2018-04-27
• 發明（設計）人: 葉小龍;侯廣杰
• 申請（專利權）人: 深圳市龍圖光電有限公司
• 主分類號: G03F1/82
• 分類號: G03F1/82
• 代理公司: 深圳市徽正知識產權代理有限公司44405
• 代理人: 李想

技術領域

本實用新型涉掩模板的制作輔助設備領域，尤其涉及的是一種掩模板邊角殘留鉻的清除裝置。

背景技術

在光學掩模板制版行業，通常都需要對掩模板周邊殘留的多余的金屬鉻層進行清除，以免影響到掩模板的實際應用。所謂的掩模板指的是一種由表面金屬薄膜記載圖形、文字等信息的介質載板(例如玻璃載板)。而本文中的殘留的多余的金屬鉻層指的是掩模板在生產制造過程中受材料、環境、工藝等諸多因素的影響，在其四邊角所形成無意義但會影響到掩模板實際應用的多余金屬鉻層殘留。

傳統的清除方法或者采用棉簽沾溶劑和藥水手工逐邊去除，或者采用無塵布沾溶劑和藥水手工逐邊去除。但是，這些傳統的清除方法不僅處理速度慢，而且當光刻膠上的有效(或有用)圖形與無效邊沿距離過近時，手工去除都會影響到有效圖形區域；同時，在手工清除的過程中，因部分溶劑和藥水的揮發或不小心濺射到光刻膠上，還會造成產品的報廢。

因此，現有技術尚有待改進和發展。

實用新型內容

為解決上述技術問題，本實用新型提供一種掩模板邊角殘留鉻的清除裝置，可快速精確地清除掩模板邊角殘留鉻層，提升工作時效。

本實用新型的技術方案如下：一種掩模板邊角殘留鉻的清除裝置，包括：支架、寬度調整組件、密封活塞和滲透棉；其中，所述支架設置有側定位面，用于與掩模板的側面相接觸，所述支架中設置有用于盛裝藥液的容腔，所述滲透棉設置在容腔的底部，用于被盛裝在該容腔中的藥液浸泡，所述寬度調整組件設置在支架上，所述密封活塞連接在該寬度調整組件上，用于調整所述滲透棉的寬度。

所述的掩模板邊角殘留鉻的清除裝置，其中：所述支架的頂部設置有一連通至所述容腔的藥液添加口，該藥液添加口上設置有一可拆裝的蓋子。

所述的掩模板邊角殘留鉻的清除裝置，其中：所述支架的縱向斷面呈L形，其容腔的部分底面低于掩模板的上表面。

所述的掩模板邊角殘留鉻的清除裝置，其中：所述支架上設置有觀察窗，用于觀察容腔內藥液的容積。

本實用新型所提供的一種掩模板邊角殘留鉻的清除裝置，由于在支架上采用了與掩模板側面相接觸的側定位面，結合浸泡有藥液的滲透棉以及可調整其寬度的密封活塞，不僅實現了對待清除的殘留鉻層寬度的精確調整，而且只需將該清除裝置沿掩模板側面進行前后勻速移動，即可快速精確地清除掩模板邊角殘留鉻層，大大提升了工作時效；同時，即使光刻膠上的有效圖形與無效邊沿距離過近，也不會對有效圖形造成任何影響，也避免了因部分藥液的揮發或濺射而導致產品的報廢。

附圖說明

圖1是本實用新型掩模板邊角殘留鉻的清除裝置實施例的結構示意圖。

具體實施方式

以下將結合附圖，對本實用新型的具體實施方式和實施例加以詳細說明，所描述的具體實施例僅用以解釋本實用新型，并非用于限定本實用新型的具體實施方式。

如圖1所示，圖1是本實用新型掩模板邊角殘留鉻的清除裝置實施例的結構示意圖，該清除裝置包括支架210、寬度調整組件230(圖中標號所指為該調整組件的旋鈕位置)、密封活塞250和滲透棉260；其中，所述支架210設置有側定位面211，用于與掩模板100的側面120相接觸，所述支架210中設置有用于盛裝藥液的容腔220，所述滲透棉260設置在容腔220的底部，用于被盛裝在該容腔200中的藥液浸泡，所述寬度調整組件230設置在支架210上，所述密封活塞250連接在該寬度調整組件230上，用于調整所述滲透棉260的寬度。

本實用新型掩模板邊角殘留鉻的清除裝置由于在支架210上采用了與掩模板100側面120相接觸的側定位面211，結合浸泡有藥液的滲透棉260以及可調整滲透棉260寬度的密封活塞250，不僅實現了對待清除的殘留鉻層130寬度的精確調整，而且只需將該清除裝置沿掩模板100側面120進行前后勻速移動，即可快速精確地清除掩模板邊角殘留鉻層130，大大提升了工作時效；同時，即使光刻膠上的有效圖形與無效邊沿距離過近，也不會對有效圖形造成任何影響，也避免了因部分藥液的揮發或濺射而導致產品的報廢。

在本實用新型掩模板邊角殘留鉻的清除裝置的具體實施方式中，所述支架210的頂部設置有一連通至所述容腔220的藥液添加口240，該藥液添加口240上設置有一可拆裝的蓋子241，以進一步避免容腔220中的藥液揮發或在支架210移動的過程中產生濺射。