[實用新型]一種掩模板邊角殘留鉻的清除裝置

有效

• 申請號: 201721329399.3
• 申請日: 2017-10-14
• 公開（公告）號: CN207281464U
• 公開（公告）日: 2018-04-27
• 發明（設計）人: 葉小龍;侯廣杰
• 申請（專利權）人: 深圳市龍圖光電有限公司
• 主分類號: G03F1/82
• 分類號: G03F1/82
• 代理公司: 深圳市徽正知識產權代理有限公司44405
• 代理人: 李想

1.一種掩模板邊角殘留鉻的清除裝置，其特征在于，包括：支架、寬度調整組件、密封活塞和滲透棉；其中，所述支架設置有側定位面，用于與掩模板的側面相接觸，所述支架中設置有用于盛裝藥液的容腔，所述滲透棉設置在容腔的底部，用于被盛裝在該容腔中的藥液浸泡，所述寬度調整組件設置在支架上，所述密封活塞連接在該寬度調整組件上，用于調整所述滲透棉的寬度。

2.根據權利要求1所述的掩模板邊角殘留鉻的清除裝置，其特征在于：所述支架的頂部設置有一連通至所述容腔的藥液添加口，該藥液添加口上設置有一可拆裝的蓋子。

3.根據權利要求1所述的掩模板邊角殘留鉻的清除裝置，其特征在于：所述支架的縱向斷面呈L形，其容腔的部分底面低于掩模板的上表面。

4.根據權利要求1所述的掩模板邊角殘留鉻的清除裝置，其特征在于：所述支架上設置有觀察窗，用于觀察容腔內藥液的容積。