[實用新型]光阻涂布機

有效

• 申請號: 201721317031.5
• 申請日: 2017-10-13
• 公開（公告）號: CN207271550U
• 公開（公告）日: 2018-04-27
• 發明（設計）人: 聶行健;陳聰文;汪杰;趙敏
• 申請（專利權）人: 東旭（昆山）顯示材料有限公司;東旭集團有限公司;東旭科技集團有限公司
• 主分類號: B05C5/02
• 分類號: B05C5/02;B05C11/10;B05C13/02
• 代理公司: 北京潤平知識產權代理有限公司11283
• 代理人: 李健,鄺圓暉

技術領域

本實用新型涉及一種光阻涂布機。

背景技術

目前，行業內使用的光阻旋轉涂布機，在對標準基板進行涂布時，約使用90立方厘米的光阻，但只有大約30立方厘米的光阻留在基板上，光阻利用率較低。另外，由于涂布機旋轉時的慣性，容易導致基板邊緣膜厚較厚，造成在之后的顯影工藝中，邊緣處顯影不良的問題。

實用新型內容

本實用新型的目的是為了克服現有的光阻涂布機存在的光阻利用率低、且基板邊緣處顯影不良的問題。

為了解決上述技術問題，本實用新型提供了一種光阻涂布機，所述光阻涂布機包括：用于固定放置基板的涂布平臺、設置于所述涂布平臺上的縫隙以及與所述縫隙連通的回收裝置；其中，所述基板的邊緣與所述縫隙對齊或位于所述縫隙內。

優選地，所述縫隙上下貫穿所述涂布平臺。

優選地，所述縫隙為環狀。

優選地，所述縫隙的橫截面為直角梯形，所述直角梯形的直腰與所述基板的側壁共面或平行。

優選地，所述縫隙的頂部開口大于所述縫隙的底部開口。

優選地，縫隙的頂部開口寬度為40-60mm，底部開口寬度為10-30mm。

優選地，所述回收裝置包括與所述縫隙連通的用于吸取光阻的真空泵。

優選地，所述回收裝置包括與所述真空泵的出口連通的光阻儲存單元。

優選地，所述光阻涂布機包括：設置于涂布平臺上方的用于對所述基板的上表面進行光阻涂布的旋轉單元；所述旋轉單元的旋轉范圍覆蓋所述縫隙。

優選地，所述基板為矩形的玻璃基板，所述縫隙沿所述矩形的玻璃基板的四個邊設置。

通過上述技術方案，不僅可以實現光阻的回收利用，還可以降低基板邊緣的涂布膜厚，進而解決基板邊緣處顯影不良的問題。

附圖說明

圖1是本實用新型的一種實施方式的旋轉涂布機的部分結構示意圖；

圖2是圖1的俯視圖。

附圖標記說明

100涂布平臺101縫隙

102連接管200旋轉單元

300真空泵400光阻存儲單元

500玻璃基板

具體實施方式

以下結合附圖對本實用新型的具體實施方式進行詳細說明。應當理解的是，此處所描述的具體實施方式僅用于說明和解釋本實用新型，并不用于限制本實用新型。

在本實用新型中，在未作相反說明的情況下，使用的方位詞如“上、下、頂、底”通常是針對附圖所示的方向而言的或者是針對豎直、垂直或重力方向上而言的各部件相互位置關系描述用詞；“豎直方向”指的是圖示的紙面上下方向；“內、外”通常指的是相對于腔室而言的腔室內外或相對于圓心而言的徑向內外。

本實用新型提供了一種光阻涂布機，如圖1所示，光阻涂布機包括：用于固定放置基板500的涂布平臺100、設置于涂布平臺100上的縫隙101以及與縫隙101連通的回收裝置，其中，基板500的邊緣與縫隙101對齊或位于縫隙101內。在這種情況下，涂覆在基板500上的多余的光阻劑，尤其是基板500邊緣處的光阻劑，可以通過縫隙101被回收裝置收集。一方面，降低了基板500邊緣處的光阻劑的膜厚，有利于基板500邊緣處的顯影；另一方面，被回收的光阻劑可以重復利用，節約了成本。

在本實用新型的一個具體的實施例中，縫隙101上下貫穿涂布平臺100。在這種情況下，回收裝置可以直接設置在涂布平臺100的底部，并對涂布平臺100上表面的光阻劑進行回收。

為了便于光阻劑從涂布平臺100的上表面漏到涂布平臺100的下方，縫隙101的頂部開口可以設置成大于縫隙101的底部開口。優選地，縫隙101的頂部開口寬度為40-60mm，更優選為50mm；縫隙101的底部開口寬度為10-30mm，更優選為20mm。進一步地，縫隙101為可以環繞整個基板500的環狀縫隙。縫隙101的橫截面優選為直角梯形，直角梯形的直腰與基板500的側壁共面或平行。在這種情況下，基板500邊緣處的光阻，會在重力的作用下沿著基板500的側壁直接流入縫隙101中，進而有效防止了由于基板500邊緣處的光阻膜厚度較大導致的顯影不良的問題。