[實用新型]一種帶磁性電極器的柔性覆銅板卷繞鍍膜系統(tǒng)

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201721311879.7
• 申請日: 2017-10-11
• 公開（公告）號: CN207418855U
• 公開（公告）日: 2018-05-29
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 朱剛勁;朱剛毅;黃慶梅
• 申請（專利權(quán)）人: 肇慶兆達(dá)光電科技有限公司
• 主分類號: C23C14/56
• 分類號: C23C14/56;C23C14/35;C23C14/20
• 代理公司: 廣州市華學(xué)知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 44245
• 代理人: 官國鵬

本實用新型涉及一種帶磁性電極器的柔性覆銅板卷繞鍍膜系統(tǒng)，包括真空室和均設(shè)置在真空室內(nèi)的第一隔板、第一電極器、多個第一磁控靶、基材、用于控制基材運行的路徑控制機構(gòu)；路徑控制機構(gòu)包括沿著基材運行路徑依次設(shè)置的放卷輥、第一檢測輥、第一導(dǎo)輥、第一水冷鼓、第二導(dǎo)輥、第二檢測輥、收卷輥；多個第一磁控靶以第一水冷鼓的軸線為中心線沿著圓周方向布置，帶磁性的第一電極器設(shè)置在相鄰的兩個第一磁控靶之間，第一水冷鼓的兩側(cè)均設(shè)置一塊第一隔板。卷繞鍍膜系統(tǒng)能有效改善金屬薄層的沉積質(zhì)量，大幅度提升金屬薄層和基材的結(jié)合力，屬于基材鍍膜的技術(shù)領(lǐng)域。

技術(shù)領(lǐng)域

本實用新型涉及基材鍍膜的技術(shù)領(lǐng)域，尤其涉及一種帶磁性電極器的柔性覆銅板卷繞鍍膜系統(tǒng)。

背景技術(shù)

目前，磁控濺射柔性超薄覆銅板卷繞鍍膜設(shè)備的離子處理都是采用線性離子源進行鍍膜前處理，即在基材進行鍍膜前采用線性離子源進行鍍膜前處理，但是這樣容易引起基材表面溫度升高，引起基材表面起皺，且在鍍膜過程中因基材放氣，會導(dǎo)致膜層沉積質(zhì)量變差，膜層結(jié)合力無法提高。

實用新型內(nèi)容

針對現(xiàn)有技術(shù)中存在的技術(shù)問題，本實用新型的目的是：提供一種帶磁性電極器的柔性覆銅板卷繞鍍膜系統(tǒng)，有效改善金屬薄層的沉積質(zhì)量，大幅度提升金屬薄層和基材的結(jié)合力。

為了達(dá)到上述目的，本實用新型采用如下技術(shù)方案：

一種帶磁性電極器的柔性覆銅板卷繞鍍膜系統(tǒng)，包括真空室和均設(shè)置在真空室內(nèi)的第一隔板、第一電極器、多個第一磁控靶、基材、用于控制基材運行的路徑控制機構(gòu)；路徑控制機構(gòu)包括沿著基材運行路徑依次設(shè)置的放卷輥、第一檢測輥、第一導(dǎo)輥、第一水冷鼓、第二導(dǎo)輥、第二檢測輥、收卷輥；多個第一磁控靶以第一水冷鼓的軸線為中心線沿著圓周方向布置，帶磁性的第一電極器設(shè)置在相鄰的兩個第一磁控靶之間，第一水冷鼓的兩側(cè)均設(shè)置一塊第一隔板；放卷輥、第一檢測輥、第一導(dǎo)輥、第二導(dǎo)輥、第二檢測輥、收卷輥均位于第一隔板的上方，第一電極器、第一磁控靶均位于第一隔板的下方。

進一步的是：第一磁控靶的數(shù)量有兩個，兩個第一磁控靶對稱設(shè)置在真空室內(nèi)；第一電極器的數(shù)量為一個，第一電極器位于第一水冷鼓的正下方。

進一步的是：第一電極器內(nèi)設(shè)有磁鐵，磁鐵傾斜式地布置。

進一步的是：第一磁控靶為平面磁控靶或圓柱磁控靶。

進一步的是：放卷輥和收卷輥對稱設(shè)置在真空室內(nèi)，第一導(dǎo)輥和第二導(dǎo)輥對稱設(shè)置在真空室內(nèi)，第一檢測輥和第二檢測輥對稱設(shè)置在真空室內(nèi)。

進一步的是：所述的基材為聚酰亞胺薄膜或金屬卷材。

進一步的是：真空室呈圓形或方形。

一種帶磁性電極器的柔性覆銅板卷繞鍍膜系統(tǒng)，包括真空室和均設(shè)置在真空室內(nèi)的隔板機構(gòu)、第一電極器、第二電極器、多個第一磁控靶、多個第二磁控靶、基材、用于控制基材運行的路徑控制機構(gòu)；路徑控制機構(gòu)包括沿著基材運行路徑依次設(shè)置的放卷輥、第一檢測輥、第一導(dǎo)輥、第一水冷鼓、第二導(dǎo)輥、第三導(dǎo)輥、第二水冷鼓、第四導(dǎo)輥、第二檢測輥、收卷輥；

至少兩個以上的第一磁控靶以第一水冷鼓的軸線為中心線沿著圓周方向布置，至少兩個以上的第二磁控靶以第二水冷鼓的軸線為中心線沿著圓周方向布置，帶磁性的第一電極器設(shè)置在相鄰的兩個第一磁控靶之間，帶磁性的第二電極器設(shè)置在相鄰的兩個第二磁控靶之間；