[實(shí)用新型]圖像傳感器封裝有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201721297593.8 | 申請(qǐng)日: | 2017-10-09 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN207425857U | 公開(kāi)(公告)日: | 2018-05-29 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 拉里·D·金斯曼;S·伯薩克;馬克·艾倫·撒弗里奇;斯科特·唐納德·初科韋爾;布萊恩·瓦特斯特拉 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 半導(dǎo)體元件工業(yè)有限責(zé)任公司 |
| 主分類號(hào): | H01L27/146 | 分類號(hào): | H01L27/146 |
| 代理公司: | 北京派特恩知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11270 | 代理人: | 呂艷英;姚開(kāi)麗 |
| 地址: | 美國(guó)亞*** | 國(guó)省代碼: | 美國(guó);US |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 透鏡 光阻隔層 圖像傳感器封裝 耦合 半導(dǎo)體晶圓 模塑化合物 像素陣列 包封層 周界 本實(shí)用新型 臨時(shí)保護(hù)層 濾色器陣列 凈室 開(kāi)口 施加 污染 加工 | ||
本實(shí)用新型涉及一種圖像傳感器封裝,所述圖像傳感器封裝可包括具有像素陣列的半導(dǎo)體晶圓,形成像素陣列之上的濾色器陣列(CFA)和形成在所述CFA之上的一個(gè)或多個(gè)透鏡。光阻隔層可耦合在半導(dǎo)體晶圓之上圍繞所述透鏡的周界,和包封層可耦合在透鏡周界的周圍且在所述光阻隔層之上。光阻隔層可形成提供通向透鏡的開(kāi)口。模塑化合物層可耦合在包封層和光阻隔層之上。臨時(shí)保護(hù)層可在施加模塑化合物期間和/或在凈室環(huán)境之外進(jìn)行加工期間用于保護(hù)一個(gè)或多個(gè)透鏡不被污染。
技術(shù)領(lǐng)域
本實(shí)用新型大體涉及圖像傳感器封裝。更具體的實(shí)施方式涉及模塑的和/ 或疊層的圖像傳感器封裝。
背景技術(shù)
圖像傳感器通過(guò)傳輸響應(yīng)于入射電磁輻射的信號(hào)來(lái)傳送與圖像有關(guān)的信息。圖像傳感器用于各種設(shè)備,包括智能手機(jī)、數(shù)碼相機(jī)、夜視設(shè)備、醫(yī)療成像儀及許多其他設(shè)備。利用電荷耦合器件(CCD)和CMOS結(jié)構(gòu)的常規(guī)半導(dǎo)體成像器目前正在使用中。圖像傳感器有時(shí)封裝在涉及模塑工藝的半導(dǎo)體封裝中。
實(shí)用新型內(nèi)容
圖像傳感器封裝(也稱封裝)的實(shí)施方式可包括:包括像素陣列的半導(dǎo)體晶圓;形成在所述像素陣列之上的濾色器陣列(CFA);形成在所述CFA之上的一個(gè)或多個(gè)透鏡;和耦合在所述半導(dǎo)體晶圓之上圍繞所述一個(gè)或多個(gè)透鏡周界的光阻隔層。所述封裝可包括包封層,所述包封層耦合在圍繞所述一個(gè)或多個(gè)透鏡的周界且在所述光阻隔層之上,所述光阻隔層形成有提供通向所述一個(gè)或多個(gè)透鏡的開(kāi)口;和模塑化合物層,該模塑化合物層耦合在所述包封層之上且在所述光阻隔層之上。所述包封層垂直于所述半導(dǎo)體晶圓的最大平整表面的高度可配置為防止臨時(shí)保護(hù)層沉積在所述包封層之上,所述臨時(shí)保護(hù)層在施加所述模塑化合物層之前施加在所述一個(gè)或多個(gè)透鏡之上。
所述圖像傳感器封裝的實(shí)施方式可包括以下之一、全部或任意組合:
所述包封層可位于/定位于所述模塑化合物層和所述一個(gè)或多個(gè)透鏡之間。
可耦合在所述一個(gè)或多個(gè)透鏡之上的透明罩,并且所述透明罩可至少部分限定在所述透明罩和所述一個(gè)或多個(gè)透鏡之間的腔室。
所述包封層的垂直于所述半導(dǎo)體晶圓的最大平整表面的高度可至少為10 微米。
所述模塑化合物層可接觸所述包封層。
抗反射涂層(ARC層)可耦合在所述包封層之上且在所述一個(gè)或多個(gè)透鏡之上。
所述模塑化合物層可接觸所述ARC層。
所述光阻隔層垂直于所述半導(dǎo)體晶圓的最大平整表面的高度可為至少3微米。
圖像傳感器封裝(也稱封裝)的實(shí)施方式可包括:具有像素陣列的半導(dǎo)體晶圓;形成在所述像素陣列之上的濾色器陣列(CFA);形成在所述CFA之上的一個(gè)或多個(gè)透鏡;和耦合在半導(dǎo)體晶圓之上圍繞所述一個(gè)或多個(gè)透鏡的周界的光阻隔層。所述封裝還可包括包封層,所述包封層耦合在圍繞所述一個(gè)或多個(gè)透鏡的周界且在所述光阻隔層之上;壩狀結(jié)構(gòu),所述壩狀結(jié)構(gòu)耦合在所述包封層的邊緣;和模塑化合物層,所述模塑化合物層耦合在所述包封層之上、耦合在所述光阻隔層之上且耦合在所述壩狀結(jié)構(gòu)反面。所述壩狀結(jié)構(gòu)垂直于所述半導(dǎo)體晶圓最大平整表面的高度可配制為防止臨時(shí)保護(hù)層沉積在所述包封層之上,所述臨時(shí)保護(hù)層在施加所述模塑化合物層之前施加在所述一個(gè)或多個(gè)透鏡之上。
圖像傳感器封裝的實(shí)施方式可包括以下之一、全部或任意組合:
所述壩狀結(jié)構(gòu)相對(duì)于所述臨時(shí)保護(hù)層的疏離性可防止所述臨時(shí)保護(hù)層越過(guò)所述壩狀結(jié)構(gòu)朝向所述一個(gè)或多個(gè)透鏡的面。
所述壩狀結(jié)構(gòu)垂直于所述半導(dǎo)體晶圓的最大平整表面的高度可大于所述包封層垂直于所述半導(dǎo)體晶圓的最大平整表面的高度。
所述模塑化合物層可接觸包封層。
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- 同類專利
- 專利分類
H01L 半導(dǎo)體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L27-00 由在一個(gè)共用襯底內(nèi)或其上形成的多個(gè)半導(dǎo)體或其他固態(tài)組件組成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共絕緣襯底上形成的無(wú)源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有專門適用于整流、振蕩、放大或切換的半導(dǎo)體組件并且至少有一個(gè)電位躍變勢(shì)壘或者表面勢(shì)壘的;包括至少有一個(gè)躍變勢(shì)壘或者表面勢(shì)壘的無(wú)源集成電路單元的
H01L27-14 . 包括有對(duì)紅外輻射、光、較短波長(zhǎng)的電磁輻射或者微粒子輻射并且專門適用于把這樣的輻射能轉(zhuǎn)換為電能的,或適用于通過(guò)這樣的輻射控制電能的半導(dǎo)體組件的
H01L27-15 .包括專門適用于光發(fā)射并且包括至少有一個(gè)電位躍變勢(shì)壘或者表面勢(shì)壘的半導(dǎo)體組件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料結(jié)點(diǎn)的熱電元件的;包括有熱磁組件的
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