[實(shí)用新型]一種曝光機(jī)

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201721282428.5
• 申請(qǐng)日: 2017-09-30
• 公開（公告）號(hào): CN207181952U
• 公開（公告）日: 2018-04-03
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 張康;渠謙;盧兵;徐鐘國(guó);房曉梅
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 京東方科技集團(tuán)股份有限公司;成都京東方光電科技有限公司
• 主分類號(hào): G03F7/20
• 分類號(hào): G03F7/20;G02F1/13;G02F1/1335;G02F1/1343
• 代理公司: 北京同達(dá)信恒知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司11291
• 代理人: 郭潤(rùn)湘

技術(shù)領(lǐng)域

本實(shí)用新型涉及半導(dǎo)體工藝技術(shù)領(lǐng)域，尤指一種曝光機(jī)。

背景技術(shù)

隨著顯示技術(shù)的不斷發(fā)展，顯示屏或觸摸屏已經(jīng)廣泛應(yīng)用于人們的生活中，其中，液晶顯示器(Liquid Crystal Display，LCD)具有體積小、功耗低、無(wú)輻射等特點(diǎn)，在市場(chǎng)中占據(jù)重要地位。有機(jī)電致發(fā)光器件(Organic Light-Emitting Diode，OLED)具有自發(fā)光、反應(yīng)快、視角廣、亮度高、色彩艷、輕薄等優(yōu)點(diǎn)，也已經(jīng)被廣泛應(yīng)用于市場(chǎng)中。

在制造平板顯示的黃光制程中，圖案的尺寸受掩膜版(Mask)，光刻膠厚度，烘烤時(shí)間，溫度，濃度以及顯影時(shí)間等多種因素影響，因此，實(shí)際形成的圖案的線寬與設(shè)計(jì)的線寬存在一定的偏差，例如，對(duì)于同一張基板，雖然掩膜版上不同位置的線寬一樣，但實(shí)際得到的圖案的線寬是不一樣的。偏差太大會(huì)導(dǎo)致后續(xù)檢測(cè)困難，以及出貨品質(zhì)的不穩(wěn)定，甚至?xí)?dǎo)致產(chǎn)品報(bào)廢。

在工藝中對(duì)線寬都有一個(gè)公差范圍，隨著高分辨率的發(fā)展，世面上2K，4K，8K屏幕越來(lái)越多，對(duì)線寬的要求越來(lái)越高，設(shè)計(jì)公差越來(lái)越小，很多時(shí)候達(dá)到這個(gè)公差很困難。

現(xiàn)有技術(shù)中，現(xiàn)最常用的方法是在掩膜版上進(jìn)行補(bǔ)正，但當(dāng)工藝參數(shù)及設(shè)備能力變化時(shí)，補(bǔ)正量也會(huì)變化，而且，烘烤時(shí)間，溫度，濃度和顯影時(shí)間等因素會(huì)隨時(shí)間及環(huán)境等因素變化，可控性較低，也會(huì)導(dǎo)致補(bǔ)正量發(fā)生變化，這時(shí)就需要重新制作掩膜版，經(jīng)濟(jì)成本及時(shí)間成本都較高，并且靈活性太差。此外，掩膜版一旦制造完成，補(bǔ)償值就確定了，如果其它因素的影響下，補(bǔ)償量發(fā)生變化，需要重新制作掩膜版。

實(shí)用新型內(nèi)容

本實(shí)用新型實(shí)施例提供一種曝光機(jī)，用以解決現(xiàn)有技術(shù)中存在的不能對(duì)曝光量進(jìn)行合理補(bǔ)償?shù)膯栴}。

本發(fā)明實(shí)施例提供了一種曝光機(jī)，包括：光源，掩膜版，以及位于所述光源和所述掩膜版之間的光強(qiáng)調(diào)節(jié)器；其中，

所述光強(qiáng)調(diào)節(jié)器，用于調(diào)節(jié)所述光源射向所述掩膜版上不同位置處的光線的光強(qiáng)。

在一種可能的實(shí)現(xiàn)方式中，在本實(shí)用新型實(shí)施例提供的上述曝光機(jī)中，所述光強(qiáng)調(diào)節(jié)器，包括：第一透明基板，位于所述第一透明基板遠(yuǎn)離所述光源一側(cè)的第二透明基板，位于所述第一透明基板和所述第二透明基板之間的液晶層，以及用于調(diào)節(jié)所述液晶層上不同位置處的光透過(guò)率的控制單元；

所述第一透明基板遠(yuǎn)離所述液晶層的一側(cè)設(shè)有第一偏光層；

所述第二透明基板遠(yuǎn)離所述液晶層的一側(cè)設(shè)有第二偏光層；

所述第一偏光層與所述第二偏光層的光軸相互垂直。

在一種可能的實(shí)現(xiàn)方式中，在本實(shí)用新型實(shí)施例提供的上述曝光機(jī)中，所述控制單元，包括：位于所述第一透明基板與所述第一偏光層之間的第一透明電極層，位于所述第二透明基板與所述第二偏光層之間的第二透明電極層，以及信號(hào)源；其中，

所述第一透明電極層，包括：多個(gè)第一透明電極；各所述第一透明電極分別通過(guò)導(dǎo)線與所述信號(hào)源連接；

所述第二透明電極層，包括：多個(gè)與所述第一透明電極一一對(duì)應(yīng)的第二透明電極；各所述第二透明電極分別通過(guò)導(dǎo)線與所述信號(hào)源連接。

在一種可能的實(shí)現(xiàn)方式中，在本實(shí)用新型實(shí)施例提供的上述曝光機(jī)中，所述第一透明電極與對(duì)應(yīng)的所述第二透明電極形狀一致。

在一種可能的實(shí)現(xiàn)方式中，在本實(shí)用新型實(shí)施例提供的上述曝光機(jī)中，各所述第一透明電極為并排設(shè)置的條狀電極。

在一種可能的實(shí)現(xiàn)方式中，在本實(shí)用新型實(shí)施例提供的上述曝光機(jī)中，各所述第一透明電極為呈陣列排布的塊狀電極。

在一種可能的實(shí)現(xiàn)方式中，在本實(shí)用新型實(shí)施例提供的上述曝光機(jī)中，所述光強(qiáng)調(diào)節(jié)器，還包括：位于所述第二偏光層與所述掩膜版之間的第一準(zhǔn)直元件。

在一種可能的實(shí)現(xiàn)方式中，在本實(shí)用新型實(shí)施例提供的上述曝光機(jī)中，還包括：位于所述光源與所述光強(qiáng)調(diào)節(jié)器之間的第二準(zhǔn)直元件。

在一種可能的實(shí)現(xiàn)方式中，在本實(shí)用新型實(shí)施例提供的上述曝光機(jī)中，還包括：位于所述掩膜版遠(yuǎn)離所述光強(qiáng)調(diào)節(jié)器一側(cè)的成像元件。

在一種可能的實(shí)現(xiàn)方式中，在本實(shí)用新型實(shí)施例提供的上述曝光機(jī)中，所述曝光機(jī)為投影式曝光機(jī)。

本實(shí)用新型有益效果如下：