[實(shí)用新型]適宜不同規(guī)格硅晶圓片的保護(hù)裝置

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201721271454.8
• 申請(qǐng)日: 2017-09-29
• 公開（公告）號(hào): CN207497300U
• 公開（公告）日: 2018-06-15
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 張俊杰
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 上海圖雙精密裝備有限公司
• 主分類號(hào): B65D81/03
• 分類號(hào): B65D81/03;B65D85/86
• 代理公司: 北京挺立專利事務(wù)所(普通合伙) 11265
• 代理人: 倪鉅芳

1.適宜不同規(guī)格硅晶圓片的保護(hù)裝置，包含底座，所述底座上層設(shè)置有氣囊層，其特征在于：所述氣囊層上設(shè)置有多個(gè)凹口，所述凹口內(nèi)設(shè)置有氣袋，所述氣袋的口部為椎體結(jié)構(gòu)，所述底座上設(shè)置有氣嘴。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的適宜不同規(guī)格硅晶圓片的保護(hù)裝置，其特征在于：所述底座為氣囊底座。

3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的適宜不同規(guī)格硅晶圓片的保護(hù)裝置，其特征在于：所述凹口之間的距離恒定。

4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的適宜不同規(guī)格硅晶圓片的保護(hù)裝置，其特征在于：所述氣袋的下部為柱體結(jié)構(gòu)。

5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的適宜不同規(guī)格硅晶圓片的保護(hù)裝置，其特征在于：以底座中心點(diǎn)為準(zhǔn)，在同一圓周上的凹口為一組，同組凹口下方的底座互相導(dǎo)通，不同組之間的凹口下方的底座不導(dǎo)通，同組凹口下方的底座上均設(shè)置有氣嘴。