[實(shí)用新型]一種磁場可調(diào)的磁控濺射鍍膜陰極機(jī)構(gòu)

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201721246910.3
• 申請日: 2017-09-27
• 公開（公告）號(hào): CN207483841U
• 公開（公告）日: 2018-06-12
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 王振東;何萬能
• 申請（專利權(quán)）人: 蘇州諾耀光電科技有限公司
• 主分類號(hào): C23C14/35
• 分類號(hào): C23C14/35
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

本實(shí)用新型揭示了一種磁場可調(diào)的磁控濺射鍍膜陰極機(jī)構(gòu)，包括濺射陰極底座，濺射陰極底座上固定設(shè)有第一永磁體和第二永磁體，以提供固定磁場，第一永磁體為四根永磁體拼接成的矩形框狀，第二永磁體為長條狀且位于第一永磁體中心位置，第一永磁體的S極朝向?yàn)R射陰極底座設(shè)置，第二永磁體的N極朝向?yàn)R射陰極底座設(shè)置；還包括若干磁力線圈，磁力線圈靠近第二永磁體且沿長度方向間隔均勻設(shè)置在第二永磁體兩側(cè)，磁力線圈的軸線垂直于濺射陰極底座設(shè)置，以調(diào)節(jié)磁場大小。本實(shí)用新型在靠近第二永磁體的位置設(shè)有若干個(gè)可以調(diào)節(jié)磁場大小的磁力線圈，靶材消耗后通過磁力線圈調(diào)整濺射靶面處的磁場大小，可以使鍍膜厚度更加均勻。

技術(shù)領(lǐng)域

本實(shí)用新型涉及真空鍍膜技術(shù)領(lǐng)域，具體涉及一種磁場可調(diào)的磁控濺射鍍膜陰極機(jī)構(gòu)。

背景技術(shù)

大面積磁控濺射技術(shù)廣泛應(yīng)用于光學(xué)、半導(dǎo)體、光電顯示、納米材料、集成線路和建筑裝飾等行業(yè)的鍍膜作業(yè)。其中，磁控濺射鍍膜陰極機(jī)構(gòu)是鍍膜的關(guān)鍵機(jī)構(gòu)，用于將靶材上分離的原子或分子濺射到基材上。

現(xiàn)有的磁控濺射鍍膜陰極機(jī)構(gòu)上用于提供磁場的部件為永磁體，磁場大小不能改變。但是在鍍膜過程中隨著時(shí)間推移，靶材會(huì)逐漸消耗，濺射靶面的位置會(huì)發(fā)生變化，濺射靶面處的磁場大小隨之改變，最終造成鍍膜厚度不勻。

實(shí)用新型內(nèi)容

本實(shí)用新型的目的在于提供一種磁場可調(diào)的磁控濺射鍍膜陰極機(jī)構(gòu)。

為實(shí)現(xiàn)上述實(shí)用新型目的，本實(shí)用新型采用如下技術(shù)方案：

一種磁場可調(diào)的磁控濺射鍍膜陰極機(jī)構(gòu)，包括濺射陰極底座，所述濺射陰極底座上固定設(shè)有第一永磁體和第二永磁體，以提供固定磁場，所述第一永磁體為四根永磁體拼接成的矩形框狀，所述第二永磁體為長條狀且位于第一永磁體中心位置，所述第一永磁體的S極朝向?yàn)R射陰極底座設(shè)置，第二永磁體的N極朝向?yàn)R射陰極底座設(shè)置；

還包括若干磁力線圈，所述磁力線圈靠近所述第二永磁體且沿長度方向間隔均勻設(shè)置在所述第二永磁體兩側(cè)，所述磁力線圈的軸線垂直于所述濺射陰極底座設(shè)置，以調(diào)節(jié)磁場大小。

進(jìn)一步的，所述第一永磁體和所述第二永磁體粘接固定在所述濺射陰極底座上。

相對(duì)于現(xiàn)有技術(shù)，本實(shí)用新型的技術(shù)效果在于：

本實(shí)用新型在靠近第二永磁體的位置設(shè)有若干個(gè)可以調(diào)節(jié)磁場大小的磁力線圈，靶材消耗后通過磁力線圈調(diào)整濺射靶面處的磁場大小，可以使鍍膜厚度更加均勻。

附圖說明

圖1是本實(shí)用新型實(shí)施方式中一種磁場可調(diào)的磁控濺射鍍膜陰極機(jī)構(gòu)的結(jié)構(gòu)示意圖。

具體實(shí)施方式

以下將結(jié)合附圖所示的具體實(shí)施方式對(duì)本實(shí)用新型進(jìn)行詳細(xì)描述。但這些實(shí)施方式并不限制本實(shí)用新型，本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員根據(jù)這些實(shí)施方式所做出的結(jié)構(gòu)、方法、或功能上的變換均包含在本實(shí)用新型的保護(hù)范圍內(nèi)。

以下提供本實(shí)用新型的一種實(shí)施方式：

請參見圖1，一種磁場可調(diào)的磁控濺射鍍膜陰極機(jī)構(gòu)，包括濺射陰極底座1，所述濺射陰極底座1上固定設(shè)有第一永磁體2和第二永磁體3，以提供固定磁場，所述第一永磁體2為四根永磁體拼接成的矩形框狀，所述第二永磁體3為長條狀且位于第一永磁體2中心位置，所述第一永磁體2的S極朝向?yàn)R射陰極底座1設(shè)置(也即是第一永磁體2的N極朝向靶材設(shè)置)，第二永磁體3的N極朝向?yàn)R射陰極底座1設(shè)置(也即是第二永磁體3的S極朝向靶材設(shè)置)；

還包括若干磁力線圈6，所述磁力線圈6靠近所述第二永磁體3且沿長度方向間隔均勻設(shè)置在所述第二永磁體3兩側(cè)，所述磁力線圈6的軸線垂直于所述濺射陰極底座1設(shè)置，以調(diào)節(jié)磁場大小。