[實用新型]一種磁場可調的磁控濺射鍍膜陰極機構有效

申請號：	201721246910.3	申請日：	2017-09-27
公開（公告）號：	CN207483841U	公開（公告）日：	2018-06-12
發明（設計）人：	王振東;何萬能	申請（專利權）人：	蘇州諾耀光電科技有限公司
主分類號：	C23C14/35	分類號：	C23C14/35
代理公司：	暫無信息	代理人：	暫無信息
地址：	215000 江蘇省蘇州市工業園區金雞***	國省代碼：	江蘇;32
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摘要：
搜索關鍵詞：	永磁體磁力線圈濺射陰極底座磁場磁控濺射鍍膜本實用新型磁場可調陰極機構長度方向間隔固定磁場矩形框狀均勻設置軸線垂直長條狀濺射靶靶材鍍膜拼接消耗
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【權利要求書】：

1.一種磁場可調的磁控濺射鍍膜陰極機構，其特征在于，包括濺射陰極底座，所述濺射陰極底座上固定設有第一永磁體和第二永磁體，以提供固定磁場，所述第一永磁體為四根永磁體拼接成的矩形框狀，所述第二永磁體為長條狀且位于第一永磁體中心位置，所述第一永磁體的S極朝向濺射陰極底座設置，第二永磁體的N極朝向濺射陰極底座設置；

還包括若干磁力線圈，所述磁力線圈靠近所述第二永磁體且沿長度方向間隔均勻設置在所述第二永磁體兩側，所述磁力線圈的軸線垂直于所述濺射陰極底座設置，以調節磁場大小。

2.根據權利要求1所述的一種磁場可調的磁控濺射鍍膜陰極機構，其特征在于，所述第一永磁體和所述第二永磁體粘接固定在所述濺射陰極底座上。

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