[實用新型]一種旋轉靶的布氣裝置

有效

• 申請號: 201721242030.9
• 申請日: 2017-09-26
• 公開（公告）號: CN207581916U
• 公開（公告）日: 2018-07-06
• 發明（設計）人: 宋光耀;葉平
• 申請（專利權）人: 深圳市鼎力真空科技有限公司
• 主分類號: C23C14/35
• 分類號: C23C14/35
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

本實用新型適用于磁控濺射真空鍍膜技術領域。本實用新型公開了一種旋轉靶的布氣裝置，包括進氣管(10)、第一分管頭(20)、兩個同步出氣管結構(30)，其特征在于，所述第一分管頭(20)為T形，進氣管(10)連接第一分管頭(20)，分管頭(20)另兩頭分別連接著同步出氣管結構，所述同步出氣管結構(30)設有直管(31)、第二分管頭(32)、兩個分氣管(33)、出氣管(34)、套管(35)；本實用新型的有益效果在于：磁控濺射真空鍍膜，需要通入反應氣體，本方案讓出氣口到氣孔的距離相同，每個孔能同時出氣，保障出每個孔的出氣量相同，保障膜層顏色均勻。

技術領域

本實用新型涉及磁控濺射真空鍍膜技術領域，特別涉及一種旋轉靶的布氣裝置。

背景技術

目前磁控濺射鍍膜領域基本都是采用平面陰極和旋轉陰極(陰極有時也稱為靶)方式進行，而在一定的真空環境下，通過磁場和電場的綜合作用，使靶材表面的局部區域形成輝光，將靶材粒子從靶材表面濺射出來，此時在輝光區放置基片，就可以在基片表面形成由靶材粒子形成的膜層。而一定的真空環境是通過通入惰性氣體來實現；如果需要形成介質膜層，則需要通入反應氣體，例如形成TiN膜層，需要使用Ti靶，且通入Ar氣和N₂氣。

由于批量生產的要求，一般使用的是矩形的平面陰極和長筒型的旋轉陰極，氣體一般采用不銹鋼氣管通入到陰極附近；由于氣管是通過一端進入，而將另一端堵死，在氣管壁上均勻開同樣大小的氣孔；這樣就會導致通過氣孔出來的氣體是不一樣的量，靠近氣管通入口的氣孔氣量會偏多，遠離通入口的氣孔氣量就偏少；氣孔氣量多的，所對應基片的表面膜層顏色就會偏深。這就需要一種能讓出氣孔同時排出一樣量氣體的裝置。

實用新型內容

本實用新型主要解決的技術問題是提供一種旋轉靶的布氣裝置，該一種旋轉靶的布氣裝置，讓出氣口到氣孔的距離相同，每個孔能同時出氣，且出氣量相同，保障膜層顏色均勻。

為了解決上述問題，本實用新型提供一種旋轉靶的布氣裝置，包括進氣管、第一分管頭、兩個同步出氣管結構，所述第一分管頭為T形，進氣管連接第一分管頭，第一分管頭另兩頭分別連接著同步出氣管結構，所述同步出氣管結構設有直管、第二分管頭、兩個分氣管、出氣管、套管；所述分氣管為L形，直管連接第二分管頭，第二分管頭的另兩頭分別連接分氣管的一端，兩分氣管的另一端穿過套管的通孔，插入出氣管的側孔里，出氣管的兩端設有塞頭，且出氣管的兩側各有一排出氣孔，出氣管在套管里，套管的一側設有一排終出氣孔，套管的兩端設有套管塞頭。

進一步地說，所述每個終出氣孔對應每個出氣孔。

進一步地說，所述每個終出氣孔到出氣管的距離相等。

進一步地說，所述在分氣管的另一端穿過套管的通孔處設有第一采取焊接處，采取焊接密封。

進一步地說，所述兩分氣管的另一端插入出氣管的側孔處設有第二焊接處，采取焊接密封。

進一步地說，所述第二分管頭與兩分氣管連接形成U形。

使用時，旋轉靶通過電場和磁場的相互作用，使得靶面粒子被濺射出來，沉積在靶面前的產品表面上，形成膜層；如果需要形成介質膜層，則需要通入反應氣體；氣體從進氣管到第一分管頭分別進入兩個同步出氣管結構，進入同步出氣管結構后，氣體從直管到第二分管頭，再到兩分氣管，又從兩分氣管的另一端輸送到出氣管，再從出氣管的出氣孔出來，從出氣孔出氣到套管，最終由終出氣孔排出氣體；由于終出氣孔到出氣孔的距離相等，所以終出氣孔能同時排氣，排出等量的氣體，保障膜層顏色均勻。

本實用新型的有益效果在于：磁控濺射真空鍍膜，需要通入反應氣體，本方案讓出氣口到氣孔的距離相同，每個孔能同時出氣，保障出每個孔的出氣量相同，保障膜層顏色均勻。

附圖說明