[實用新型]硅片清洗架

有效

• 申請號: 201721241832.8
• 申請日: 2017-09-26
• 公開（公告）號: CN207250475U
• 公開（公告）日: 2018-04-17
• 發明（設計）人: 王會敏;張浩強;李立偉;張穩
• 申請（專利權）人: 邢臺晶龍電子材料有限公司
• 主分類號: H01L21/673
• 分類號: H01L21/673
• 代理公司: 石家莊國為知識產權事務所13120
• 代理人: 米文智

技術領域

本實用新型涉及硅片清洗裝置技術領域，尤其涉及一種硅片清洗架。

背景技術

隨著大規模集成電路的發展,集成度的不斷提高,線寬的不斷減小,對硅片的質量要求也越來越高,特別是對硅片的表面質量要求越來越嚴。這主要是因為硅片拋光面的顆粒和金屬雜質沾污會嚴重影響器件的質量和成品率。在目前的集成電路生產中,硅片清洗不徹底,可能使全部硅片報廢,或者制造出來的器件性能低劣,穩定性和可靠性很差。

目前，硅片清洗多采用物理清洗方法。一是刷洗或擦洗：可去除硅片表面的顆粒污染和大多數粘在硅片上的薄膜，但是如果操作不當會在硅片表面產生劃痕而影響硅片表面質量，而且工作效率低下，勞動強度較大。二是高壓清洗：靠噴射作用清洗硅片不易產生劃痕和損傷，但高壓噴射會產生靜電作用。三是采用超聲波清洗，超聲波能傳入溶液，靠氣蝕作用洗掉硅片上的污染物。但是，如果去除硅片上小于1微米的顆粒則比較困難，需要通過提高超聲波頻率才能去除，而現有的清洗設備由于設計不合理，盛放硅片的清洗籃是放置在鋼絲網上的，若提高超聲波頻率，清洗籃會振動加劇，反而會對硅片造成損壞，智能以較低的頻率進行清洗。

實用新型內容

本實用新型是提供一種硅片清洗架，旨在解決上述現有技術中提高超聲波清洗頻率會對硅片造成損壞的技術問題。

為解決上述技術問題，本實用新型所采取的技術方案是：

一種硅片清洗架，包括能夠放置到超聲波清洗池內的清洗筐，所述清洗筐內設若干個硅片放置區，所述硅片放置區上下為敞口狀，相鄰硅片放置區間設有支撐臺，用于盛放硅片的清洗籃兩側凸檐能夠放置在支撐臺上。

優選地，所述硅片放置區并列設置在清洗筐的內部空間內，所述支撐臺為若干個、且設置在硅片放置區兩側。

優選地，所述清洗筐為矩形框架式結構，所述清洗筐的四邊均包括上邊框和下邊框，所述上邊框與下邊框的對應四角部位通過立柱固定相連，所述支撐臺的左右兩端與清洗筐的左右兩側上邊框固定相連。

優選地，所述清洗筐底部對應的下邊框間水平設有交叉相連的橫向加強筋和縱向加強筋，所述橫向加強筋和縱向加強筋端部分別與四周下邊框焊接固定，所述支撐臺對應設置在橫向加強筋上方。

優選地，所述支撐臺包括水平上托架和下支撐桿，所述上托架為中部鏤空的長方形，所述上托架為兩個以上、且沿橫向加強筋長度方向間隔設置，所述清洗筐的左右兩側上邊框通過上連接桿與上托架短邊相連；所述下支撐桿上端與上托架的短邊相連、下端與橫向加強筋固定相連；相鄰上托架間距離小于清洗籃寬度。

優選地，所述清洗筐的前后兩側上邊框內側設有端部托架，所述端部托架為中部鏤空的長方形，所述端部托架短邊寬度為上托架短邊的一半。

優選地，所述清洗筐的左右兩側上邊框與下邊框之間設有垂直加強筋。

優選地，所述清洗筐的前后兩側外部均設有兩個以上的把手。

優選地，所述把手固定在安裝板上，所述安裝板兩側焊接固定在立桿上，所述立桿上下兩端分別與上邊框、下邊框焊接固定。

優選地，所述把手下方設有肋板，所述肋板兩端與立柱固定相連，所述肋板中部與立桿焊接固定。

采用上述技術方案所產生的有益效果在于：與現有技術相比，本實用新型通過硅片放置區兩側的支撐臺對盛放硅片的清洗籃進行支撐，可將清洗籃架空在清洗筐內，清洗筐置于敞口狀的硅片放置區內，使清洗籃內硅片置于超聲波清洗池內的清洗液中，能夠利用高頻率超聲波對硅片進行清洗，使清洗池底部超聲波更好地作用到硅片表面，提升了硅片清洗的潔凈度，保證了硅片清洗質量。

附圖說明

圖1是本實用新型實施例提供的一種硅片清洗架的結構示意圖；

圖2是圖1中硅片清洗架的使用狀態示意圖；

圖中：1-硅片放置區，2-支撐臺，3-清洗籃，4-上邊框，5-下邊框，6-立柱，7-橫向加強筋，8-縱向加強筋，9-上托架，10-下支撐桿，11-上連接桿，12-端部托架，13-垂直加強筋，14-把手，15-安裝板，16-立桿，17-水平立板。

具體實施方式

為了使本實用新型的目的、技術方案及優點更加清楚明白，以下結合附圖及具體實施例，對本實用新型作進一步詳細的說明。應當理解，此處所描述的具體實施例僅僅用以解釋本實用新型，并不用于限定本實用新型。