[實(shí)用新型]一種硅片自動(dòng)涂源生產(chǎn)線

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201721239474.7
• 申請日: 2017-09-26
• 公開（公告）號(hào): CN207398080U
• 公開（公告）日: 2018-05-22
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 董文一;魏文博;鐘瑜;徐長坡;陳澄;梁效峰;楊玉聰;甄輝;齊風(fēng);李亞哲;黃志煥;王曉捧;王宏宇;王鵬;徐艷超
• 申請（專利權(quán)）人: 天津環(huán)鑫科技發(fā)展有限公司
• 主分類號(hào): H01L21/67
• 分類號(hào): H01L21/67
• 代理公司: 天津諾德知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(特殊普通合伙) 12213
• 代理人: 欒志超

1.一種硅片自動(dòng)涂源生產(chǎn)線，其特征在于：包括涂硼裝置、第一烘干爐、涂磷裝置、第二烘干爐和灑粉單元，所述涂硼裝置與所述第一烘干爐之間、所述第一烘干爐與所述涂磷裝置之間、所述涂磷裝置與所述第二烘干爐之間、所述第二烘干爐與所述灑粉單元之間均設(shè)有第一轉(zhuǎn)運(yùn)機(jī)械手，所述第一烘干爐的下游一端設(shè)有硅片翻轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的硅片自動(dòng)涂源生產(chǎn)線，其特征在于：還包括上料線，所述上料線與所述涂硼裝置之間設(shè)有第二轉(zhuǎn)運(yùn)機(jī)械手，所述上料線包括滿載上料線、第一硅片承載裝置翻轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)和空載流出線，所述第一硅片承載裝置翻轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)設(shè)于所述滿載上料線的下游一端。

3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的硅片自動(dòng)涂源生產(chǎn)線，其特征在于：還包括下料線，所述下料線與所述灑粉單元之間設(shè)有第三轉(zhuǎn)運(yùn)機(jī)械手，所述下料線包括空載流入線、滿載流出線和第二硅片承載裝置翻轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)，所述空載流入線的下游一端與所述滿載流出線的上游一端之間設(shè)有移動(dòng)軸，所述第二硅片承載裝置翻轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)可移動(dòng)設(shè)于所述移動(dòng)軸上。

4.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的硅片自動(dòng)涂源生產(chǎn)線，其特征在于：所述涂硼裝置包括第一機(jī)臺(tái)、第一噴嘴、第一托盤、第一升降機(jī)構(gòu)和第一旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)，所述第一托盤底部與所述第一升降機(jī)構(gòu)的升降軸連接，所述第一升降機(jī)構(gòu)的底部與所述第一旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)的旋轉(zhuǎn)軸連接，所述第一旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)固定于所述第一機(jī)臺(tái)上，所述第一噴嘴設(shè)于所述第一托盤上方。

5.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的硅片自動(dòng)涂源生產(chǎn)線，其特征在于：所述涂磷裝置包括第二機(jī)臺(tái)、第二噴嘴、第二托盤、第二升降機(jī)構(gòu)和第二旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)，所述第二托盤底部與所述第二升降機(jī)構(gòu)的升降軸連接，所述第二升降機(jī)構(gòu)的底部與所述第二旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)的旋轉(zhuǎn)軸連接，所述第二旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)固定于所述第二機(jī)臺(tái)上，所述第二噴嘴設(shè)于所述第二托盤上方。

6.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的硅片自動(dòng)涂源生產(chǎn)線，其特征在于：所述灑粉單元包括第三機(jī)臺(tái)、第三托盤、第三升降機(jī)構(gòu)和震動(dòng)灑粉單元，所述第三升降機(jī)構(gòu)設(shè)于所述第三機(jī)臺(tái)上，所述第三升降機(jī)構(gòu)的升降軸與所述第三托盤底部連接，所述震動(dòng)灑粉單元設(shè)于所述第三托盤上方。

7.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的硅片自動(dòng)涂源生產(chǎn)線，其特征在于：所述第一烘干爐包括第一爐體和第一傳送帶，所述第一傳送帶設(shè)于所述第一爐體內(nèi)，所述第一爐體上設(shè)有第一送風(fēng)馬達(dá)和第一排風(fēng)馬達(dá)。

8.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的硅片自動(dòng)涂源生產(chǎn)線，其特征在于：所述第二烘干爐包括第二爐體和第二傳送帶，所述第二傳送帶設(shè)于所述第二爐體內(nèi)，所述第二爐體上設(shè)有第二送風(fēng)馬達(dá)和第二排風(fēng)馬達(dá)。

9.根據(jù)權(quán)利要求2所述的硅片自動(dòng)涂源生產(chǎn)線，其特征在于：所述涂硼裝置與所述上料線之間還設(shè)有第一碎片篩選裝置，所述第一碎片篩選裝置包括來料提升機(jī)、第一光源、第一圖像采集裝置和第一碎片收集盒，所述來料提升機(jī)設(shè)于所述第一硅片承載裝置翻轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)翻轉(zhuǎn)之后的下游一端，所述來料提升機(jī)與所述第一碎片收集盒之間設(shè)有第四轉(zhuǎn)運(yùn)機(jī)械手。

10.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的硅片自動(dòng)涂源生產(chǎn)線，其特征在于：所述硅片翻轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)與所述涂磷裝置之間還設(shè)有第二碎片篩選裝置，所述第二碎片篩選裝置包括第二光源、第二圖像采集裝置和第二碎片收集盒，所述硅片翻轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)與所述第二碎片收集盒之間設(shè)有第五轉(zhuǎn)運(yùn)機(jī)械手。