[實用新型]一種硅片自動涂源生產線

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201721239474.7
• 申請日: 2017-09-26
• 公開（公告）號: CN207398080U
• 公開（公告）日: 2018-05-22
• 發(fā)明（設計）人: 董文一;魏文博;鐘瑜;徐長坡;陳澄;梁效峰;楊玉聰;甄輝;齊風;李亞哲;黃志煥;王曉捧;王宏宇;王鵬;徐艷超
• 申請（專利權）人: 天津環(huán)鑫科技發(fā)展有限公司
• 主分類號: H01L21/67
• 分類號: H01L21/67
• 代理公司: 天津諾德知識產權代理事務所(特殊普通合伙) 12213
• 代理人: 欒志超

本實用新型提供一種硅片自動涂源生產線，包括涂硼裝置、第一烘干爐、涂磷裝置、第二烘干爐和灑粉單元，涂硼裝置與第一烘干爐之間、第一烘干爐與涂磷裝置之間、涂磷裝置與第二烘干爐之間、第二烘干爐與灑粉單元之間均設有第一轉運機械手，第一烘干爐的下游一端設有硅片翻轉機構。該硅片自動涂源生產線自動化程度高，硅片涂源的多個過程自動進行，無需配備大量專人人工操作，失誤率低，涂敷效率高，涂料均勻，產品合格率高。

技術領域

本實用新型屬于硅片生產設備領域，尤其是涉及一種硅片自動涂源生產線。

背景技術

隨著半導體行業(yè)的迅速發(fā)展，半導體硅片產能日趨擴大。半導體硅片制作過程中需要對硅片涂覆擴散源，以形成PN結，而現有技術中，多使用手動涂覆的方法完成，由于硅片生產時會涉及到多種作業(yè)流程，導致產品效率與質量都有待提高，目前手動涂敷的操作方法存在：人工作業(yè)失誤率高；需配備專人進行操作；手動涂敷效率低的問題，因此，為解決人工涂敷造成的涂料不均勻質量問題，需求一種自動化設備實現圓形硅片自動涂敷功能，使硅片進行均勻涂敷，避免由于人員問題造成的不合格產品，實現穩(wěn)定高效產出。

發(fā)明內容

本實用新型要解決的問題是提供一種硅片自動涂源生產線，硅片擴散源的涂覆自動化程度高，產品合格率高，生產效率高。

為解決上述技術問題，本實用新型采用的技術方案是：一種硅片自動涂源生產線，包括涂硼裝置、第一烘干爐、涂磷裝置、第二烘干爐和灑粉單元，涂硼裝置與第一烘干爐之間、第一烘干爐與涂磷裝置之間、涂磷裝置與第二烘干爐之間、第二烘干爐與灑粉單元之間均設有第一轉運機械手，第一烘干爐的下游一端設有硅片翻轉機構。

技術方案中，優(yōu)選的，還包括上料線，上料線與涂硼裝置之間設有第二轉運機械手，上料線包括滿載上料線、第一硅片承載裝置翻轉機構和空載流出線，第一硅片承載裝置翻轉機構設于滿載上料線的下游一端。

技術方案中，優(yōu)選的，還包括下料線，下料線與灑粉單元之間設有第三轉運機械手，下料線包括空載流入線、滿載流出線和第二硅片承載裝置翻轉機構，空載流入線的下游一端與滿載流出線的上游一端之間設有移動軸，第二硅片承載裝置翻轉機構可移動設于移動軸上。

技術方案中，優(yōu)選的，涂硼裝置包括第一機臺、第一噴嘴、第一托盤、第一升降機構和第一旋轉機構，第一托盤底部與第一升降機構的升降軸連接，第一升降機構的底部與第一旋轉機構的旋轉軸連接，第一旋轉機構固定于第一機臺上，第一噴嘴設于第一托盤上方。

技術方案中，優(yōu)選的，涂磷裝置包括第二機臺、第二噴嘴、第二托盤、第二升降機構和第二旋轉機構，第二托盤底部與第二升降機構的升降軸連接，第二升降機構的底部與第二旋轉機構的旋轉軸連接，第二旋轉機構固定于第二機臺上，第二噴嘴設于第二托盤上方。

技術方案中，優(yōu)選的，灑粉單元包括第三機臺、第三托盤、第三升降機構和震動灑粉單元，第三升降機構設于第三機臺上，第三升降機構的升降軸與第三托盤底部連接，震動灑粉單元設于第三托盤上方。

技術方案中，優(yōu)選的，第一烘干爐包括第一爐體和第一傳送帶，第一傳送帶設于第一爐體內，第一爐體上設有第一送風馬達和第一排風馬達。

技術方案中，優(yōu)選的，第二烘干爐包括第二爐體和第二傳送帶，第二傳送帶設于第二爐體內，第二爐體上設有第二送風馬達和第二排風馬達。

技術方案中，優(yōu)選的，涂硼裝置與上料線之間還設有第一碎片篩選裝置，第一碎片篩選裝置包括來料提升機、第一光源、第一圖像采集裝置和第一碎片收集盒，來料提升機設于花籃翻轉機構翻轉之后下游一端，來料提升機與第一碎片收集盒之間設有第四轉運機械手。

技術方案中，優(yōu)選的，硅片翻轉機構與涂磷裝置之間還設有第二碎片篩選裝置，第二碎片篩選裝置包括第二光源、第二圖像采集裝置和第二碎片收集盒，硅片翻轉機構與第二碎片收集盒之間設有第五轉運機械手。