[實(shí)用新型]一種抗紫外線減反射膜層

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201721233164.4
• 申請(qǐng)日: 2017-09-25
• 公開（公告）號(hào): CN207164279U
• 公開（公告）日: 2018-03-30
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 李建根;徐伯永
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 四川南玻節(jié)能玻璃有限公司;中國(guó)南玻集團(tuán)股份有限公司
• 主分類號(hào): G02B1/115
• 分類號(hào): G02B1/115;C03C17/34
• 代理公司: 四川力久律師事務(wù)所51221
• 代理人: 陳明龍,韓洋

技術(shù)領(lǐng)域

本實(shí)用新型涉及光學(xué)膜層材料領(lǐng)域，特別涉及一種抗紫外線減反射膜層。

背景技術(shù)

太陽光譜是一種具有不同波長(zhǎng)的連續(xù)光譜，分為可見光與不可見光兩部分。可見光的波長(zhǎng)為400～760nm，散射后可分為紅、橙、黃、綠、青、藍(lán)、紫七色，集中起來則為白光。不可見光可分為兩種：位于紅光之外區(qū)的叫紅外線，波長(zhǎng)大于760nm；位于紫光之外區(qū)的叫紫外線，波長(zhǎng)290～400nm。嚴(yán)格的紫外線的波長(zhǎng)范圍劃分從100nm到400nm，分為三個(gè)波段，即波長(zhǎng)為100-290nm的短波紫外線（UVC）、波長(zhǎng)為290-320nm的中波紫外線（UVB）和波長(zhǎng)為320-400nm的長(zhǎng)波紫外線（UVA）。然而，短波紫外光很難穿透大氣層照射到地面，因此，太陽光譜中照射到地球表面的紫外光波長(zhǎng)主要集中在290nm-400nm。

眾所周知，普通玻璃可以完全阻擋UVB，卻不能阻擋UVA；因此，長(zhǎng)期的紫外光照射不僅會(huì)使藝術(shù)品、古董以及攝影類作品造成變色或者老化，還會(huì)對(duì)人體造成損傷。因此，為了降低紫外線帶來的傷害，人們采取很多方法和措施來阻擋紫外線。其中，利用不同材料對(duì)紫外線的吸收作用來阻擋紫外線是最常用的方法之一：如，在兩片玻璃之間夾雜一層PVB膠片形成的復(fù)合夾層玻璃，就對(duì)紫外線具有很好的吸收阻擋效果；如，在玻璃的制備過程中參入氧化鈰得到的玻璃，也對(duì)紫外線具有吸收作用，且能通過控制氧化鈰的含量，來實(shí)現(xiàn)對(duì)紫外線的吸收率進(jìn)行控制。然而，采用PVB膠片的復(fù)合夾層玻璃雖然可以實(shí)現(xiàn)紫外線阻隔作用，但卻增加了使用成本，提高了使用門檻，另外未經(jīng)處理的PVP夾膠玻璃表面存在可見光反射率高的缺陷，某些場(chǎng)合并不適用。而氧化鈰具有一定的著色作用，加入氧化鈰的玻璃，不僅玻璃外觀有所改變，也同樣存在可見光反射率高的缺陷，同時(shí)還兼有可見光透過率偏低的缺陷。

實(shí)用新型內(nèi)容

本實(shí)用新型的目的在于克服現(xiàn)有紫外線阻擋材料存在的使用成本高、可見光透過率低、可見光反射率高的缺陷，提供一種抗紫外線減反射膜層，該膜層是將具有不同折射率的介質(zhì)材料層交替疊加而成，利用波長(zhǎng)不同的光波在不同介質(zhì)材料層間界面的反射和折射效果的不同，使其對(duì)紫外光具有了優(yōu)異的反射效果，同時(shí)降低了可見光的反射率，提升單片玻璃的可見光透過率，從而使該膜層實(shí)現(xiàn)了抗紫外線減反射的作用。

為了實(shí)現(xiàn)上述目的，本實(shí)用新型提供了以下技術(shù)方案：一種抗紫外線減反射膜層，所述膜層由高折射率介質(zhì)材料層21和低折射率介質(zhì)材料層22交替組成；所述膜層中的高折射率介質(zhì)材料層21和低折射率介質(zhì)材料層22的總層數(shù)不少于8層；所述膜層中高折射率介質(zhì)材料層21對(duì)波長(zhǎng)為550nm的可見光的折射率不小于2.10；所述膜層中低折射率介質(zhì)材料層22對(duì)波長(zhǎng)為550nm的可見光的折射率不大于1.52。

一種抗紫外線減反射膜層，利用不同光波在不同的材料層層間界面上產(chǎn)生的折射和反射效果的不同，針對(duì)性的選擇具有特定折射率的材料層進(jìn)行特定組合，形成對(duì)特定波段的光波具有特定效果的膜層；本實(shí)用新型膜層對(duì)紫外光的反射率高，而對(duì)可見光的反射率低，且對(duì)可見光的透過率也高。

上述一種抗紫外線減反射膜層，所述膜層中的高折射率介質(zhì)材料層21對(duì)波長(zhǎng)為330nm的紫外線的折射率不小于2.50；高折射率介質(zhì)材料層21對(duì)紫外線的折射率越大，層間界面對(duì)紫外線的反射效果越好。

上述一種抗紫外線減反射膜層，所述高折射率介質(zhì)材料層21為氧化鈮層、氮化硅層中的一種或多種；所述低折射率介質(zhì)材料層22為氧化硅層、氮氧化硅層、氧化鋯層中的一種或多種；多個(gè)不同折射率介質(zhì)材料層的組合可以進(jìn)一步提高膜層的效果。

其中，優(yōu)選的，所述高折射率介質(zhì)材料層21均為氮化硅層；所述低折射率介質(zhì)材料層22均為氧化硅層；最優(yōu)選的，所述膜層自靠近基底面向外依次為：厚度為5-20nm的第一氮化硅層（211）、厚度為48-80nm的第一氧化硅層（221）、厚度為20-30nm的第二氮化硅層（212）、厚度為64-95nm的第二氧化硅層（222）、厚度為15-25nm的第三氮化硅層（213）厚度為52-80nm的第三氧化硅層（223）、厚度為17-30nm的第四氮化硅層（214）、厚度為110-130nm的第四氧化硅層（224）；通過優(yōu)選，得到的抗紫外線減反射膜層各項(xiàng)性能更好。

上述一種抗紫外線減反射膜層，所述膜層可通過磁控濺射、離子束沉積、化學(xué)氣相沉積或原子沉積技術(shù)等方法制備而成；本實(shí)用新型膜層可采用多種現(xiàn)有技術(shù)制備得到，制備方法簡(jiǎn)單、多樣，適合抗紫外線減反射膜層的大規(guī)模生產(chǎn)、應(yīng)用。