[實用新型]一種抗紫外線減反射膜層有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201721233164.4 | 申請日： | 2017-09-25 |
| 公開（公告）號： | CN207164279U | 公開（公告）日： | 2018-03-30 |
| 發(fā)明（設(shè)計）人： | 李建根;徐伯永 | 申請（專利權(quán)）人： | 四川南玻節(jié)能玻璃有限公司;中國南玻集團股份有限公司 |
| 主分類號： | G02B1/115 | 分類號： | G02B1/115;C03C17/34 |
| 代理公司： | 四川力久律師事務(wù)所51221 | 代理人： | 陳明龍,韓洋 |
| 地址： | 610213 四川省成*** | 國省代碼： | 四川;51 |
| 權(quán)利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 一種 紫外線 減反射膜 | ||
1.一種抗紫外線減反射膜層，其特征在于，由高折射率介質(zhì)材料層（21）和低折射率介質(zhì)材料層（22）交替組成；所述高折射率介質(zhì)材料層（21）和低折射率介質(zhì)材料層（22）的總層數(shù)不少于8層；所述高折射率介質(zhì)材料層（21）對波長為550nm可見光的折射率不小于2.10；所述低折射率介質(zhì)材料層（22）對波長為550nm可見光的折射率不大于1.52。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的膜層，其特征在于，所述高折射率介質(zhì)材料層（21）對波長為330nm的紫外線的折射率不小于2.50。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的膜層，其特征在于，所述高折射率介質(zhì)材料層（21）為氧化鈮，氮化硅層中的一種或兩種；所述低折射率介質(zhì)材料層（22）為氧化硅層、氮氧化硅層、氧化鋯層中的一種或多種。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的膜層，其特征在于，所述高折射率介質(zhì)材料層（21）均為氮化硅層；所述低折射率介質(zhì)材料層（22）均為氧化硅層。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的膜層，其特征在于，所述膜層自內(nèi)向外依次為：厚度為5-20nm的第一氮化硅層（211）、厚度為48-80nm的第一氧化硅層（221）、厚度為20-30nm的第二氮化硅層（212）、厚度為64-95nm的第二氧化硅層（222）、厚度為15-25nm的第三氮化硅層（213）厚度為52-80nm的第三氧化硅層（223）、厚度為17-30nm的第四氮化硅層（214）、厚度為110-130nm的第四氧化硅層（224）。
6.根據(jù)權(quán)利要求1-5任一項所述的膜層，其特征在于，還包括一層或多層功能材料層。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的膜層，其特征在于，所述的功能材料層包括保護層、紅外線反射層、紅外線吸收層、藍光反射層、抗電磁輻射層中的一種或多種。
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