[實(shí)用新型]一種有機(jī)真空鍍膜掩膜裝置

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201721226927.2
• 申請(qǐng)日: 2017-09-19
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN207435532U
• 公開(kāi)（公告）日: 2018-06-01
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 周焱文
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 武漢普迪真空科技有限公司
• 主分類號(hào): C23C14/04
• 分類號(hào): C23C14/04;C23C14/12;C23C14/24;C23C14/50
• 代理公司: 上海精晟知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 31253
• 代理人: 馮子玲

本實(shí)用新型涉及一種有機(jī)真空鍍膜掩膜裝置，包括樣品架和若干均布設(shè)置在樣品架上的掩膜板系統(tǒng)；所述樣品架包括樣品旋轉(zhuǎn)軸和旋轉(zhuǎn)盤(pán)，所述樣品旋轉(zhuǎn)軸上端通過(guò)通孔貫穿真空室上蓋，所述通孔上設(shè)置有磁流體密封裝置，所述樣品旋轉(zhuǎn)軸上端連接有步進(jìn)電機(jī)，所述步進(jìn)電機(jī)上設(shè)置有定位裝置；所述掩膜板系統(tǒng)包括升降軸、掩膜板座和掩膜板，所述升降軸從下往上依次設(shè)置有掩膜板座、旋轉(zhuǎn)盤(pán)、導(dǎo)向套、彈簧和機(jī)械手引導(dǎo)塊，所述真空室上蓋還貫穿設(shè)置有真空機(jī)械手；本實(shí)用新型采用公轉(zhuǎn)系統(tǒng)與自轉(zhuǎn)系統(tǒng)相結(jié)合，能夠保證掩模板與被鍍膜樣品的緊密接觸且在切換過(guò)程中不刮傷樣品及膜層，可以一次制備多個(gè)樣品，極大的提高了樣品制備效率。

技術(shù)領(lǐng)域

本實(shí)用新型涉及鍍膜裝置領(lǐng)域，尤其涉及一種有機(jī)真空鍍膜掩膜裝置。

背景技術(shù)

有機(jī)真空鍍膜掩膜裝置，目前主要應(yīng)用于有機(jī)物真空蒸發(fā)鍍膜中，如在制備有機(jī)電致發(fā)光材料膜層時(shí)，需要在樣品表面利用真空鍍膜的方式沉積多層不同材料成分的膜層，且各膜層需按照特定圖案沉積，這就需要在真空環(huán)境下進(jìn)行掩膜板切換。在切換時(shí)需要保證樣品表面不被刮傷，在切換的前、后，樣品與掩模板之間能夠緊密接觸。目前，常用于有機(jī)真空鍍膜的掩膜結(jié)構(gòu)均采用水平插入的方式。這種結(jié)構(gòu)在實(shí)際操作中，若是將掩模板與樣品接觸過(guò)于緊密，在切換時(shí)容易造成對(duì)膜層的損傷，如刮痕等；若為了在切換掩模板時(shí)避免刮傷樣品，將樣品與掩模板間留有一定空隙，這樣在鍍膜時(shí)，會(huì)使得圖案邊界模糊，分界不清晰，難以獲得優(yōu)質(zhì)膜層。關(guān)于真空機(jī)械手，目前常用的是采用波紋管或膠圈密封的方式獲得：波紋管本身具有一定的變形量，通過(guò)其變形量獲得位移，這種方式不僅結(jié)構(gòu)復(fù)雜，需增加導(dǎo)向等裝置，而且位移量有限；膠圈密封結(jié)構(gòu)可以獲得大的位移量，但真空密封性能不好，難以獲得超高真空。此外，這兩種結(jié)構(gòu)均不能同時(shí)實(shí)現(xiàn)直線運(yùn)動(dòng)和旋轉(zhuǎn)運(yùn)動(dòng)。

基于此，需要一種防止切換時(shí)損傷膜層并且便于操作能夠獲得優(yōu)質(zhì)膜層的有機(jī)真空鍍膜掩膜裝置被設(shè)計(jì)出來(lái)。

實(shí)用新型內(nèi)容

本實(shí)用新型的目的是為了克服現(xiàn)有技術(shù)的不足，得到一種防止切換時(shí)損傷膜層并且便于操作能夠獲得優(yōu)質(zhì)膜層的有機(jī)真空鍍膜掩膜裝置。

本實(shí)用新型是通過(guò)以下技術(shù)方案實(shí)現(xiàn)：

一種有機(jī)真空鍍膜掩膜裝置，包括樣品架和若干均布設(shè)置在樣品架上的掩膜板系統(tǒng)；

所述樣品架包括樣品旋轉(zhuǎn)軸和設(shè)置在樣品旋轉(zhuǎn)軸下端的旋轉(zhuǎn)盤(pán)，所述樣品旋轉(zhuǎn)軸上端通過(guò)通孔貫穿真空室上蓋，所述通孔上設(shè)置有磁流體密封裝置，所述樣品旋轉(zhuǎn)軸上端連接有步進(jìn)電機(jī)，所述步進(jìn)電機(jī)上設(shè)置有定位裝置，所述旋轉(zhuǎn)盤(pán)上設(shè)置有與掩膜板系統(tǒng)對(duì)應(yīng)的若干樣品座，所述樣品座內(nèi)放置樣品，所述樣品上方放置有壓塊；

所述掩膜板系統(tǒng)包括升降軸、與樣品座相配合并設(shè)置在旋轉(zhuǎn)盤(pán)下方的掩膜板座和放置在掩膜板座內(nèi)的掩膜板，所述升降軸從下往上依次設(shè)置有掩膜板座、旋轉(zhuǎn)盤(pán)、導(dǎo)向套、彈簧和機(jī)械手引導(dǎo)塊，所述升降軸與掩膜板座和旋轉(zhuǎn)盤(pán)可轉(zhuǎn)動(dòng)連接，所述機(jī)械手引導(dǎo)塊固定在升降軸上端；

其中，所述真空室上蓋還貫穿設(shè)置有真空機(jī)械手，所述真空機(jī)械手到樣品旋轉(zhuǎn)軸的距離與機(jī)械手引導(dǎo)塊到樣品旋轉(zhuǎn)軸的距離等距。

進(jìn)一步地，所述定位裝置由光電開(kāi)關(guān)控制。

進(jìn)一步地，所述真空機(jī)械手采用磁力驅(qū)動(dòng)結(jié)構(gòu)。

更進(jìn)一步地，所述磁力驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)由內(nèi)磁環(huán)與外磁環(huán)組成。

進(jìn)一步地，所述機(jī)械手引導(dǎo)塊與升降軸上端為過(guò)盈配合。

與現(xiàn)有的技術(shù)相比，本實(shí)用新型的有益效果是：

1、本實(shí)用新型通過(guò)磁流體密封裝置作為真空動(dòng)密封，傳遞動(dòng)力，滿足了真空鍍膜對(duì)超高真空的要求；

2、本實(shí)用新型利用步進(jìn)電機(jī)作為動(dòng)力源、光電開(kāi)關(guān)組成定位系統(tǒng)，使得系統(tǒng)運(yùn)行穩(wěn)定、可靠；