[實(shí)用新型]一種有機(jī)真空鍍膜掩膜裝置有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201721226927.2 | 申請(qǐng)日: | 2017-09-19 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN207435532U | 公開(kāi)(公告)日: | 2018-06-01 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 周焱文 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 武漢普迪真空科技有限公司 |
| 主分類號(hào): | C23C14/04 | 分類號(hào): | C23C14/04;C23C14/12;C23C14/24;C23C14/50 |
| 代理公司: | 上海精晟知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 31253 | 代理人: | 馮子玲 |
| 地址: | 430000 湖北省武漢市東湖新技術(shù)*** | 國(guó)省代碼: | 湖北;42 |
| 權(quán)利要求書(shū): | 查看更多 | 說(shuō)明書(shū): | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 掩膜板 旋轉(zhuǎn)軸 樣品架 有機(jī)真空鍍膜 本實(shí)用新型 步進(jìn)電機(jī) 掩膜裝置 上端 升降軸 旋轉(zhuǎn)盤(pán) 真空室 上蓋 通孔 磁流體密封裝置 真空機(jī)械手 定位裝置 公轉(zhuǎn)系統(tǒng) 均布設(shè)置 樣品制備 依次設(shè)置 自轉(zhuǎn)系統(tǒng) 機(jī)械手 導(dǎo)向套 掩模板 彈簧 貫穿 鍍膜 刮傷 膜層 制備 保證 | ||
1.一種有機(jī)真空鍍膜掩膜裝置,其特征在于,包括樣品架和若干均布設(shè)置在樣品架上的掩膜板系統(tǒng);
所述樣品架包括樣品旋轉(zhuǎn)軸和設(shè)置在樣品旋轉(zhuǎn)軸下端的旋轉(zhuǎn)盤(pán),所述樣品旋轉(zhuǎn)軸上端通過(guò)通孔貫穿真空室上蓋,所述通孔上設(shè)置有磁流體密封裝置,所述樣品旋轉(zhuǎn)軸上端連接有步進(jìn)電機(jī),所述步進(jìn)電機(jī)上設(shè)置有定位裝置,所述旋轉(zhuǎn)盤(pán)上設(shè)置有與掩膜板系統(tǒng)對(duì)應(yīng)的若干樣品座,所述樣品座內(nèi)放置樣品,所述樣品上方放置有壓塊;
所述掩膜板系統(tǒng)包括升降軸、與樣品座相配合并設(shè)置在旋轉(zhuǎn)盤(pán)下方的掩膜板座和放置在掩膜板座內(nèi)的掩膜板,所述升降軸從下往上依次設(shè)置有掩膜板座、旋轉(zhuǎn)盤(pán)、導(dǎo)向套、彈簧和機(jī)械手引導(dǎo)塊,所述升降軸與掩膜板座和旋轉(zhuǎn)盤(pán)可轉(zhuǎn)動(dòng)連接,所述機(jī)械手引導(dǎo)塊固定在升降軸上端;
其中,所述真空室上蓋還貫穿設(shè)置有真空機(jī)械手,所述真空機(jī)械手到樣品旋轉(zhuǎn)軸的距離與機(jī)械手引導(dǎo)塊到樣品旋轉(zhuǎn)軸的距離等距。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種有機(jī)真空鍍膜掩膜裝置,其特征在于:所述定位裝置由光電開(kāi)關(guān)控制。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種有機(jī)真空鍍膜掩膜裝置,其特征在于:所述真空機(jī)械手采用磁力驅(qū)動(dòng)結(jié)構(gòu)。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的一種有機(jī)真空鍍膜掩膜裝置,其特征在于:所述磁力驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)由內(nèi)磁環(huán)與外磁環(huán)組成。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種有機(jī)真空鍍膜掩膜裝置,其特征在于:所述機(jī)械手引導(dǎo)塊與升降軸上端為過(guò)盈配合。
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C23C 對(duì)金屬材料的鍍覆;用金屬材料對(duì)材料的鍍覆;表面擴(kuò)散法,化學(xué)轉(zhuǎn)化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆
C23C14-00 通過(guò)覆層形成材料的真空蒸發(fā)、濺射或離子注入進(jìn)行鍍覆
C23C14-02 .待鍍材料的預(yù)處理
C23C14-04 .局部表面上的鍍覆,例如使用掩蔽物
C23C14-06 .以鍍層材料為特征的
C23C14-22 .以鍍覆工藝為特征的
C23C14-58 .后處理





