[實用新型]一種測微分析天平有效
| 申請號: | 201721168311.4 | 申請日: | 2017-09-13 |
| 公開(公告)號: | CN207197654U | 公開(公告)日: | 2018-04-06 |
| 發明(設計)人: | 賴學輝;師文慶;安芬菊;李思東;黃江;楊文虎;王文華;謝玉萍;蘇文青 | 申請(專利權)人: | 廣東海洋大學 |
| 主分類號: | G01G21/28 | 分類號: | G01G21/28;G01G19/414;G01G1/18 |
| 代理公司: | 廣州粵高專利商標代理有限公司44102 | 代理人: | 陳偉斌,劉瑤云 |
| 地址: | 524088 *** | 國省代碼: | 廣東;44 |
| 權利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 微分 天平 | ||
技術領域
本實用新型涉及分析及測量控制技術領域,具體涉及一種測微分析天平。
背景技術
分析天平是定量分析中必備儀器。其用途非常廣,質量稱量、化學反應監測,加速度測量、水分檢測、藥品的含量測定、標準溶液的標定等都需要使用分析天平。分析天平的測量靈敏度有0.1mg、0.01mg或更高,而它的稱量準確性直接影響到分析結果的準確度。目前現有技術中的天平大致分成如下幾類。
第一類:機械分析天平。它是根據杠桿原理制作的機械承重擺動平衡天平,基本上都是由刀口、刀承、懸掛系統和刻度標尺讀數裝置組成。它的結構比較簡單,但稱量質量的精度低。
第二類:光電天平。它是在天平基礎加裝有制動導讀系統,由于引入了如機械加碼裝置,增強了其穩定性,同時利用光學放大原理讀數系統,將其精度提高為1萬分之一天平(即0.1mg),但還是存在著擺動的穩定問題。另外,當測量質量發生微小變化且對平衡條件不產生破壞時,而無法測得,其測量的靈敏度有待提高。同時由于測量時擺動影響其測量時間,使得測量時間較長。
第三類:電阻式天平。電阻應變式天平的測量元件一般由彈性元件(具有彈性應變特性的物體)、電阻應變片(在彈性元件上粘貼應變片作為應變敏感元件,隨著彈性體的變形而變形電阻應變片的阻值也隨著變化而變化)、測量電路和電子放大器等組成。采用與標準砝碼校準過稱量質量呈線性關系的電信號輸出,再根據電信號轉換成數值,可以記錄和顯現被稱物的質量大小。這種電阻式天平可以現去皮,故障報警、檢錯、自動較準、還可以有單位換算、累加、平均、百分比、最大值、最小值等功能,還可以連接打印機,計算機等。當微小的質量變化時,這種電阻天平的彈性元件的感知靈敏度比較低,因此其精度也比電光天平低。
第四類:電磁力平衡式天平。這類天平是通過導線在磁塊中受到向上的作用力來實現。在導線上加上秤盤,其重力方向朝下,而通電導線受到向上的電磁力,當通電導線值達到某一值時,這兩個力互相平衡,此時傳感器就處于平衡狀態即可確定被測物體的質量。其具有以上電阻式天平的功能外,它的精度非常高,但生產制造工藝要求非常高,生產成本也極高。
實用新型內容
本實用新型為克服上述現有技術中的不足,提供一種結構簡單、生產成本低,但其精度相對較高且快速穩定的測微分析天平。
本實用新型所采用的技術方案為:一種測微分析天平,其特征在于:所述天平包括壓力觸控組件,光波干涉系統,單片機系統,天平外殼組件;所述壓力觸控組件包括上承板、下板,豎直設置于上承板和下板之間的彈性元件,上承板上遠離彈性元件的一端設有托盤架及托盤,在上承板的彈性元件與托盤架之間且偏向彈性元件的位置設有刀口槽,下板上正對刀口槽的位置設有平衡架,平衡架的上端設有與刀口槽相適配的刀口,所述刀口插設在刀口槽內;所述光波干涉系統包括靜片、動片、靜腳、動腳、光源、半透半反鏡、攝像頭;所述靜片固定在下板上,動片的一端固定在靜片上形成靜腳,動片的另一端通過吊件與上承板上托盤架所在的位置相連接并形成動腳;所述動片的上部設有攝像頭,以及與攝像頭互成90度設置的光源,在攝像頭與光源之間設有半透半反鏡,所述半透半反鏡將光源所投射的光線反射至動片與靜片上,再由攝像頭拍下動片與靜片上反射回來光的干涉條紋圖像信息;所述單片機系統包括相互連接的單片機模塊、信息顯示模塊和鍵盤輸入模塊,其通過單片機模塊進行接收信息、處理信息和發送信息,通過顯示模塊和鍵盤輸入模塊實現人機信息交流,所述攝像頭與單片機模塊相連接,接收攝像頭傳輸的圖像信息,所述單片機模塊根據接收圖像信息及鍵盤輸入模塊的信號或指令進行數據處理后,傳輸給信息顯示模塊顯示出來。
所述天平還包括水平調節裝置,所述水平調節裝置包括設置在下板上的水平氣泡、以及下板下方的多個水平調整螺絲,用于調整天平的水平。
所述天平還包括保護裝置,所述保護裝置包括設置在下板上遠離彈性元件所在一端的卡槽支架,卡槽支架上設有卡槽,上承板未端剛好伸入卡槽內,且該卡槽具有允許上承板末端上下擺動的行程間隙。當超重和被測物品的重力變化超過其極限時起保護作用,以減少設備的損壞。
所述天平外殼組件包括配件箱和防風罩;所述配件箱將單片機系統封裝起來;防風罩將壓力觸控組件和光波干涉系統罩起來。以便在稱量時不受外界的干擾。
所述平衡支架上設有橫梁,橫梁的末端設有垂直的安裝板,所述攝像頭安裝在橫梁上,所述半透半反鏡及光源設置在安裝板上。
所述鍵盤輸入模塊上設置有啟動鍵,清零鍵,以及數據保存鍵和數據讀取鍵。
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息,商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于廣東海洋大學,未經廣東海洋大學許可,擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業授權和技術合作,請聯系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201721168311.4/2.html,轉載請聲明來源鉆瓜專利網。





