[實(shí)用新型]一種測微分析天平有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201721168311.4 | 申請日: | 2017-09-13 |
| 公開(公告)號: | CN207197654U | 公開(公告)日: | 2018-04-06 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 賴學(xué)輝;師文慶;安芬菊;李思東;黃江;楊文虎;王文華;謝玉萍;蘇文青 | 申請(專利權(quán))人: | 廣東海洋大學(xué) |
| 主分類號: | G01G21/28 | 分類號: | G01G21/28;G01G19/414;G01G1/18 |
| 代理公司: | 廣州粵高專利商標(biāo)代理有限公司44102 | 代理人: | 陳偉斌,劉瑤云 |
| 地址: | 524088 *** | 國省代碼: | 廣東;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 微分 天平 | ||
1.一種測微分析天平,其特征在于:所述天平包括壓力觸控組件,光波干涉系統(tǒng),單片機(jī)系統(tǒng),天平外殼組件;所述壓力觸控組件包括上承板(4)、下板(3),豎直設(shè)置于上承板(4)和下板(3)之間的彈性元件(5),上承板(4)上遠(yuǎn)離彈性元件(5)的一端設(shè)有托盤架(11)及托盤(14),在上承板(4)的彈性元件(5)與托盤架(11)之間且偏向彈性元件的位置設(shè)有刀口槽(8),下板(3)上正對刀口槽(8)的位置設(shè)有平衡架(6),平衡架(6)的上端設(shè)有與刀口槽(8)相適配的刀口(7),所述刀口(7)插設(shè)在刀口槽(8)內(nèi);所述光波干涉系統(tǒng)包括靜片(15)、動(dòng)片(16)、靜腳(17)、動(dòng)腳(18)、光源(19)、半透半反鏡(10)、攝像頭(20);所述靜片固定在下板上,動(dòng)片的一端固定在靜片上形成靜腳,動(dòng)片的另一端通過吊件(23)與上承板(4)上托盤架(11)所在的位置相連接并形成動(dòng)腳(18);所述動(dòng)片的上部設(shè)有攝像頭,以及與攝像頭互成90度設(shè)置的光源,在攝像頭與光源之間設(shè)有半透半反鏡,所述半透半反鏡將光源所投射的光線反射至動(dòng)片與靜片上,再由攝像頭拍下動(dòng)片與靜片上反射回來光的干涉條紋圖像信息;所述單片機(jī)系統(tǒng)包括相互連接的單片機(jī)模塊、信息顯示模塊和鍵盤輸入模塊,其通過單片機(jī)模塊進(jìn)行接收信息、處理信息和發(fā)送信息,通過顯示模塊和鍵盤輸入模塊實(shí)現(xiàn)人機(jī)信息交流,所述攝像頭與單片機(jī)模塊相連接,接收攝像頭傳輸?shù)膱D像信息,所述單片機(jī)模塊根據(jù)接收圖像信息及鍵盤輸入模塊的信號或指令進(jìn)行數(shù)據(jù)處理后,傳輸給信息顯示模塊顯示出來。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的測微分析天平,其特征在于:所述天平還包括水平調(diào)節(jié)裝置,所述水平調(diào)節(jié)裝置包括設(shè)置在下板上的水平氣泡、以及下板下方放置多個(gè)水平調(diào)整螺絲。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的測微分析天平,其特征在于:所述天平還包括保護(hù)裝置,所述保護(hù)裝置包括設(shè)置在下板上遠(yuǎn)離彈性元件所在一端的卡槽支架(12),卡槽支架(12)上設(shè)有卡槽(13),上承板未端剛好伸入卡槽內(nèi),且該卡槽(13)具有允許上承板末端上下擺動(dòng)的行程間隙。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的測微分析天平,其特征在于:所述天平外殼組件包括配件箱和防風(fēng)罩;所述配件箱將單片機(jī)系統(tǒng)封裝起來;防風(fēng)罩將壓力觸控組件和光波干涉系統(tǒng)罩起來。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的測微分析天平,其特征在于:所述平衡支架上設(shè)有橫梁,橫梁的末端設(shè)有垂直的安裝板,所述攝像頭安裝在橫梁上,所述半透半反鏡及光源設(shè)置在安裝板上。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的測微分析天平,其特征在于:所述鍵盤輸入模塊上設(shè)置有啟動(dòng)鍵,清零鍵,以及數(shù)據(jù)保存鍵和數(shù)據(jù)讀取鍵。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的測微分析天平,其特征在于:所述彈性元件為彈簧或具有彈性的材料。
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