[實(shí)用新型]一種自動偏光片表面等離子處理設(shè)備

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201721148837.6
• 申請日: 2017-09-08
• 公開（公告）號: CN207188339U
• 公開（公告）日: 2018-04-06
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 肖鳳祥;鄭代祥;袁丹;吳雨柱;陸海東;徐恒軍
• 申請（專利權(quán)）人: 蘇州普洛泰科精密工業(yè)有限公司
• 主分類號: B08B3/08
• 分類號: B08B3/08;B08B7/00;B08B13/00
• 代理公司: 蘇州唯亞智冠知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司32289
• 代理人: 宋秀麗

技術(shù)領(lǐng)域

本實(shí)用新型屬于LCD制造技術(shù)領(lǐng)域，尤其涉及一種自動偏光片表面等離子處理設(shè)備。

背景技術(shù)

液晶與半導(dǎo)體IC制程是在人的參與下在凈化室中進(jìn)行，LCD基板制程的每一個步驟，包括沉積(濺射)、蝕刻、去光阻、氧化等，都是造成基板表面污染的來源，因而需要反復(fù)的清洗。傳統(tǒng)方法一般采用人工手動清潔方式。該方式一是容易造成LCD基板破碎，損傷，二是該人工手動清潔方式只能清除LCD基板上的有機(jī)物，無法對氧化物和油污經(jīng)行清潔。

隨著LCD基板清洗工藝的不斷發(fā)展，出現(xiàn)越來越多的清洗方式。目前，清洗基板的技術(shù)主要可分為干式清洗和濕式清洗兩種。濕式清洗分為物理清洗和化學(xué)清洗。干式清洗主要有物理清除法、熱處理法、蒸汽清除法、光化學(xué)清除法、等離子體清除法以及較新的低溫氣膠清除技術(shù)、激光輔助清除技術(shù)以及空氣吹除技術(shù)等。但現(xiàn)有設(shè)備在實(shí)際使用過程中，由于結(jié)構(gòu)設(shè)計不完善，清洗不徹底。有鑒于上述的缺陷，本設(shè)計人，積極加以研究創(chuàng)新，以期創(chuàng)設(shè)一種具有清洗徹底、防跑偏等優(yōu)點(diǎn)的自動偏光片表面等離子處理設(shè)備，使其更具有產(chǎn)業(yè)上的利用價值。

實(shí)用新型內(nèi)容

為解決上述技術(shù)問題，本實(shí)用新型的目的是提供一種自動偏光片表面等離子處理設(shè)備。本實(shí)用新型技術(shù)方案如下：

一種自動偏光片表面等離子處理設(shè)備，用于清洗LCD基板和觸摸控制機(jī)構(gòu)，包括IPA清洗機(jī)構(gòu)、純水清洗機(jī)構(gòu)、清洗平臺、中轉(zhuǎn)搬送機(jī)構(gòu)、等離子清洗平臺和等離子清洗機(jī)構(gòu)，所述IPA清洗機(jī)構(gòu)和純水清洗機(jī)構(gòu)均與清洗平臺配合設(shè)置，清洗平臺上吸附待清洗的LCD基板，所述中轉(zhuǎn)搬送機(jī)構(gòu)置于清洗平臺和等離子清洗平臺之間，用于將LCD基板在清洗平臺和等離子清洗平臺之間轉(zhuǎn)移，所述等離子清洗機(jī)構(gòu)與等離子清洗平臺配合設(shè)置，清洗等離子清洗平臺上吸附待清洗的LCD基板。

本實(shí)用新型自動偏光片表面等離子處理設(shè)備，進(jìn)一步地，設(shè)置有IPA液壓罐與所述IPA清洗機(jī)構(gòu)相對應(yīng)設(shè)置，IPA液壓罐向IPA清洗機(jī)構(gòu)提供高壓IPA清洗液。

本實(shí)用新型自動偏光片表面等離子處理設(shè)備，進(jìn)一步地，設(shè)置有純水液壓罐與所述純水清洗機(jī)構(gòu)相對應(yīng)設(shè)置，純水液壓罐向純水清洗機(jī)構(gòu)提供高壓純水清洗液。

本實(shí)用新型自動偏光片表面等離子處理設(shè)備，進(jìn)一步地，所述清洗平臺和等離子清洗平臺均設(shè)置在Y軸上。

本實(shí)用新型自動偏光片表面等離子處理設(shè)備，更進(jìn)一步地，所述清洗平臺包括清洗放置臺、清洗臺Z軸和清洗臺X軸，清洗放置臺安裝在清洗臺Z軸上，清洗臺Z軸安裝在清洗臺X軸上，而清洗臺X軸安裝在Y軸上。

本實(shí)用新型自動偏光片表面等離子處理設(shè)備，更進(jìn)一步地，所述等離子清洗平臺包括等離子清洗放置臺、旋轉(zhuǎn)氣缸、等離子清洗臺Z軸和等離子清洗臺X軸，等離子清洗放置臺安裝在旋轉(zhuǎn)氣缸上端，旋轉(zhuǎn)氣缸裝在等離子清洗臺Z軸上，而等離子清洗臺X軸安裝在Y軸上。

本實(shí)用新型自動偏光片表面等離子處理設(shè)備，更進(jìn)一步地，所述中轉(zhuǎn)搬送機(jī)構(gòu)包括搬運(yùn)板、搬運(yùn)旋轉(zhuǎn)氣缸和搬運(yùn)機(jī)構(gòu)Z軸，搬運(yùn)板裝設(shè)在搬運(yùn)旋轉(zhuǎn)氣缸上端部，搬運(yùn)旋轉(zhuǎn)氣缸裝設(shè)在搬運(yùn)機(jī)構(gòu)Z軸上。

本實(shí)用新型自動偏光片表面等離子處理設(shè)備，更進(jìn)一步地，所述搬運(yùn)板上設(shè)置有長度不同的齒條。

本實(shí)用新型自動偏光片表面等離子處理設(shè)備，進(jìn)一步地，所述IPA清洗機(jī)構(gòu)、純水清洗機(jī)構(gòu)均包括清洗帶供布電機(jī)、清洗帶回收電機(jī)、檢測清洗帶回收距離器、壓頭氣缸、直線軸承和清洗頭，其中，在清洗頭下方設(shè)有防跑偏板，壓頭氣缸下壓時，清洗頭與清洗帶穿過防跑偏板防止跑偏。

本實(shí)用新型自動偏光片表面等離子處理設(shè)備，更進(jìn)一步地，所述清洗帶供布電機(jī)和清洗帶回收電機(jī)周圍設(shè)置有四根導(dǎo)向清洗帶的導(dǎo)桿。

借由上述方案，本實(shí)用新型至少具有以下優(yōu)點(diǎn)：

本實(shí)用新型控制機(jī)構(gòu)結(jié)合IPA清洗、純水清洗、等離子清洗三種方式，清洗徹底，自動化程度高；

本實(shí)用新型控制機(jī)構(gòu)通過X、Y、Z三個方向控制各部件的位移，可實(shí)現(xiàn)多品種自由切換，提高生產(chǎn)效率；

中轉(zhuǎn)搬送機(jī)構(gòu)的搬運(yùn)裝置結(jié)構(gòu)設(shè)計巧妙，齒狀設(shè)計方便轉(zhuǎn)移基板；

清洗機(jī)構(gòu)含有防跑偏裝置及檢測清洗帶回收距離器，既能保證有效清洗，又能自動控制清洗過程。

由于振動篩密封性好，對檢測結(jié)果更加準(zhǔn)確，環(huán)境友好，避免粉塵溢出，對環(huán)境沒有污染，其自動化程度高，靈活組裝，滿足不同篩分需要從而大大降低了人工成本。

上述說明僅是本實(shí)用新型技術(shù)方案的概述，為了能夠更清楚了解本實(shí)用新型的技術(shù)手段，并可依照說明書的內(nèi)容予以實(shí)施，以下以本實(shí)用新型的較佳實(shí)施例并配合附圖詳細(xì)說明如后。

附圖說明