[實用新型]一種自動偏光片表面等離子處理設備

有效

• 申請號: 201721148837.6
• 申請日: 2017-09-08
• 公開（公告）號: CN207188339U
• 公開（公告）日: 2018-04-06
• 發明（設計）人: 肖鳳祥;鄭代祥;袁丹;吳雨柱;陸海東;徐恒軍
• 申請（專利權）人: 蘇州普洛泰科精密工業有限公司
• 主分類號: B08B3/08
• 分類號: B08B3/08;B08B7/00;B08B13/00
• 代理公司: 蘇州唯亞智冠知識產權代理有限公司32289
• 代理人: 宋秀麗

1.一種自動偏光片表面等離子處理設備，用于清洗LCD基板和觸摸控制機構(9)，其特征在于：包括IPA清洗機構(1)、純水清洗機構(2)、清洗平臺(3)、中轉搬送機構(4)、等離子清洗平臺(5)和等離子清洗機構(6)，

所述IPA清洗機構(1)和純水清洗機構(2)均與清洗平臺(3)配合設置，清洗平臺(3)上吸附待清洗的LCD基板，

所述中轉搬送機構(4)置于清洗平臺(3)和等離子清洗平臺(5)之間，用于將LCD基板在清洗平臺(3)和等離子清洗平臺(5)之間轉移，

所述等離子清洗機構(6)與等離子清洗平臺(5)配合設置，清洗等離子清洗平臺(5)上吸附待清洗的LCD基板。

2.根據權利要求1所述的一種自動偏光片表面等離子處理設備，其特征在于：設置有IPA液壓罐(7)與所述IPA清洗機構(1)相對應設置，IPA液壓罐(7)向IPA清洗機構(1)提供高壓IPA清洗液。

3.根據權利要求1所述的一種自動偏光片表面等離子處理設備，其特征在于：設置有純水液壓罐(8)與所述純水清洗機構(2)相對應設置，純水液壓罐(8)向純水清洗機構(2)提供高壓純水清洗液。

4.根據權利要求1所述的一種自動偏光片表面等離子處理設備，其特征在于：所述清洗平臺(3)和等離子清洗平臺(5)均設置在Y軸(10)上。

5.根據權利要求4所述的一種自動偏光片表面等離子處理設備，其特征在于：所述清洗平臺(3)包括清洗放置臺(34)、清洗臺Z軸(33)和清洗臺X軸(32)，清洗放置臺(34)安裝在清洗臺Z軸(33)上，清洗臺Z軸(33)安裝在清洗臺X軸(32)上，而清洗臺X軸(32)安裝在Y軸(10)上。

6.根據權利要求4所述的一種自動偏光片表面等離子處理設備，其特征在于：所述等離子清洗平臺(5)包括等離子清洗放置臺(55)、旋轉氣缸(54)、等離子清洗臺Z軸(53)和等離子清洗臺X軸(52)，等離子清洗放置臺(55)安裝在旋轉氣缸(54)上端，旋轉氣缸(54)裝在等離子清洗臺Z軸(53)上，而等離子清洗臺X軸(52)安裝在Y軸(10)上。

7.根據權利要求4所述的一種自動偏光片表面等離子處理設備，其特征在于：所述中轉搬送機構(4)包括搬運板(43)、搬運旋轉氣缸(42)和搬運機構Z軸(41)，搬運板(43)裝設在搬運旋轉氣缸(42)上端部，搬運旋轉氣缸(42)裝設在搬運機構Z軸(41)上。

8.根據權利要求7所述的一種自動偏光片表面等離子處理設備，其特征在于：所述搬運板(43)上設置有長度不同的齒條(44)。

9.根據權利要求1所述的一種自動偏光片表面等離子處理設備，其特征在于：所述IPA清洗機構(1)、純水清洗機構(2)均包括清洗帶供布電機(11)、清洗帶回收電機(12)、檢測清洗帶回收距離器(13)、壓頭氣缸(14)、直線軸承(15)和清洗頭(16)，其中，在清洗頭(16)下方設有防跑偏板(18)，壓頭氣缸(14)下壓時，清洗頭(16)與清洗帶(17)穿過防跑偏板(18)防止跑偏。

10.根據權利要求9所述的一種自動偏光片表面等離子處理設備，其特征在于：所述清洗帶供布電機(11)和清洗帶回收電機(12)周圍設置有四根導向清洗帶(17)的導桿(19)。