[實用新型]一種硅電池片濕法刻蝕排風裝置及包含該裝置的濕法刻蝕機有效
| 申請號: | 201721147255.6 | 申請日: | 2017-09-08 |
| 公開(公告)號: | CN207183305U | 公開(公告)日: | 2018-04-03 |
| 發明(設計)人: | 桑和偉;許濤;余志;任飛飛;紀羅文 | 申請(專利權)人: | 安徽越眾光伏科技有限公司 |
| 主分類號: | H01L31/18 | 分類號: | H01L31/18;C23F1/08;C23F1/24 |
| 代理公司: | 南京知識律師事務所32207 | 代理人: | 蔣海軍 |
| 地址: | 243000 安徽省馬鞍山市*** | 國省代碼: | 安徽;34 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 電池 濕法 刻蝕 裝置 包含 | ||
1.一種硅電池片濕法刻蝕排風裝置,包括設置于刻蝕機側壁的排風孔(4),其特征在于:上述排風孔(4)所在刻蝕機側壁的外側設有調節板(9),調節板(9)上加工有與排風孔(4)相對應的通孔,通過移動調節板(9)對排風孔(4)的大小進行調節。
2.根據權利要求1所述的一種硅電池片濕法刻蝕排風裝置,其特征在于:所述排風孔(4)所在刻蝕機側壁上設有滑槽(3),所述調節板(9)上安裝有調節手柄(2),該調節手柄(2)包括依次相連的調節部(201)、連接部(204)和固定部(202),其中固定部(202)與調節板(9)固定相連,所述連接部(204)安裝于滑槽(3)內,該連接部(204)與調節部(201)為螺紋連接,且調節部(201)的直徑大于所述滑槽(3)的寬度。
3.根據權利要求2所述的一種硅電池片濕法刻蝕排風裝置,其特征在于:該裝置還包括調節桿(8),調節桿(8)上加工有卡槽(803),所述調節部(201)的兩端對應設有與卡槽(803)相對應的調節耳(203)。
4.根據權利要求3所述的一種硅電池片濕法刻蝕排風裝置,其特征在于:所述的調節桿(8)包括操作手桿(801)以及與操作手桿(801)相連的卡合部(802),所述的卡槽(803)設于卡合部(802)。
5.根據權利要求2-4中任一項所述的一種硅電池片濕法刻蝕排風裝置,其特征在于:所述的滑槽(3)沿刻蝕機側壁水平或豎直設置。
6.根據權利要求2-4中任一項所述的一種硅電池片濕法刻蝕排風裝置,其特征在于:所述調節部(201)的外表面加工為階梯形,且靠近連接部(204)一端的直徑小于遠離連接部(204)一端的直徑。
7.根據權利要求1-4中任一項所述的一種硅電池片濕法刻蝕排風裝置,其特征在于:該裝置還包括集氣室(6),所述排風孔(4)與集氣室(6)相連通,且集氣室(6)的頂部設有排氣管(7)。
8.根據權利要求7所述的一種硅電池片濕法刻蝕排風裝置,其特征在于:所述排氣管(7)與抽風機(10)相連,且排氣管(7)上設有壓力計。
9.一種硅電池片濕法刻蝕機,包括刻蝕槽(1),刻蝕槽(1)內設有傳送裝置(5),其特征在于:該刻蝕機設有如權利要求1-8中任一項所述的排風裝置。
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H01L 半導體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L31-00 對紅外輻射、光、較短波長的電磁輻射,或微粒輻射敏感的,并且專門適用于把這樣的輻射能轉換為電能的,或者專門適用于通過這樣的輻射進行電能控制的半導體器件;專門適用于制造或處理這些半導體器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半導體本體為特征的
H01L31-04 .用作轉換器件的
H01L31-08 .其中的輻射控制通過該器件的電流的,例如光敏電阻器
H01L31-12 .與如在一個共用襯底內或其上形成的,一個或多個電光源,如場致發光光源在結構上相連的,并與其電光源在電氣上或光學上相耦合的





