[實用新型]一種真空鍍膜生產線有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201721092253.1 | 申請日: | 2017-08-29 |
| 公開(公告)號: | CN208008894U | 公開(公告)日: | 2018-10-26 |
| 發(fā)明(設計)人: | 廖榮新;禤瑞彬;黃進高 | 申請(專利權)人: | 肇慶市前沿真空設備有限公司 |
| 主分類號: | C23C14/56 | 分類號: | C23C14/56;C23C14/35 |
| 代理公司: | 深圳市道臻知識產權代理有限公司 44360 | 代理人: | 陳琳 |
| 地址: | 526000 廣東省肇慶市*** | 國省代碼: | 廣東;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 鍍膜室 出片室 入片室 真空鎖 抽氣機組 真空鍍膜生產線 本實用新型 工件輸送 一端設置 節(jié)能效果 生產效率 依次連接 靶組件 真空室 鍍膜 廠房 室內 節(jié)約 投資 | ||
本實用新型公開了一種真空鍍膜生產線,所述生產線包括依次連接的入片室、鍍膜室、出片室;入片室、鍍膜室、出片室分別連接有入片室抽氣機組、鍍膜室抽氣機組、出片室抽氣機組;入片室的一端設置有第一真空鎖,入片室和鍍膜室之間設置有第二真空鎖,鍍膜室和出片室之間設置有第三真空鎖,出片室的一端設置有第四真空鎖;鍍膜室內設置有靶組件和可作往復運動的鍍膜室工件輸送組件。本實用新型真空鍍膜生產線減少了大量的真空室、抽氣機組和真空鎖,并設置可作往復運動的鍍膜室工件輸送組件,不僅提高了生產效率,而且大大節(jié)省了廠房、節(jié)約了投資,同時具有顯著的節(jié)能效果。
技術領域
本實用新型涉及真空鍍膜技術領域,尤其涉及一種真空鍍膜生產線。
背景技術
真空鍍膜技術發(fā)展很快,從蒸發(fā)鍍膜到磁控濺射鍍膜、多弧離子鍍膜等;應用范圍也越來越廣泛如:建筑玻璃領域,太陽能領域,電了產品領域、刀具生產領域等都應用到真空鍍膜技術;真空鍍膜設備也從單室間歇式真空鍍膜機發(fā)展到多室連續(xù)式真空鍍膜生產線。
現有技術比較典型的臥式連續(xù)磁控濺射真空鍍膜生產線包括:依次連接的入片架、入片室、前過渡室、前精抽室、前緩沖室、鍍膜室、后緩沖室、后精抽室、后過渡室、出片室、出片架,上述的各個室統(tǒng)稱為“真空室”;除前緩沖室、鍍膜室、后緩沖室共用一套鍍膜室抽氣機組外其它各真空室都相應的有一套抽氣機組分別為:入片室抽氣機組、前過渡室抽氣機組、前精抽室抽氣機組、后精抽室抽氣機組、后過渡室抽氣機組和出片室抽氣機組;除前緩沖室、鍍膜室、后緩沖室為依次連通無阻隔外其它真空室之間均設有真空鎖(一種真空閥門,當其關閉時相鄰兩真空室隔斷,當其開啟時相鄰兩真空室連通),入片室和出片室的最外側也分別設有真空鎖,從前向后有真空鎖1至真空鎖8共8套真空鎖;每個真空室分別設有工件輸送組件,其中鍍膜室還設有靶組件(用于鍍膜的組件:將鍍層材料濺射出來使之沉積于工件上表面成為鍍層)。
真空鍍膜過程:工件經清洗等鍍膜前處理后進入入片架(如同時鍍多片的還要在入片架將其排列好),當入片室真空鎖(真空鎖1)開啟時工件進入入片室,當工件完全進入入片室后關閉入片室真空鎖,入片室抽氣機組對入片室抽氣,當入片室氣壓達到一定數值時開啟前過渡室真空鎖(真空鎖2),工件進入前過渡室;就這樣工件依次進入各個真空室,各個真空室對應的抽氣機組按一定的程序抽氣;當工件走過鍍膜室后就鍍上了一層或多層薄膜再經一定的程序走出其它真空室來到出片架,這時可將工件從出片架上取下或通過其它機構將工件移動到下一工序;臥式連續(xù)磁控濺射真空鍍膜生產線運行過程中當某一真空室的工件走到后一個真空室后,前一個真空室的工件又會自動走入該真空室從而達到連續(xù)生產的目的。
現有技術臥式連續(xù)磁控濺射真空鍍膜生產線真空室比較多,所用的抽氣機組也比較多(一般有9個真空室和7套抽氣機組),所以有占地面積大、投資成本高、故障率高、能耗大、控制復雜、工件破損幾率高等不足之處。
因此,現有技術還有待于改進和發(fā)展。
實用新型內容
鑒于上述現有技術的不足,本實用新型的目的在于提供一種真空鍍膜生產線,從而克服現有技術中的真空鍍膜生產線占地面積大、投資成本高、能耗大等問題。
本實用新型的技術方案如下:
本實用新型提供了一種真空鍍膜生產線,包括依次連接的入片室、鍍膜室、出片室;所述入片室、所述鍍膜室、所述出片室分別連接有入片室抽氣機組、鍍膜室抽氣機組、出片室抽氣機組;所述入片室的一端設置有第一真空鎖,所述入片室和所述鍍膜室之間設置有第二真空鎖,所述鍍膜室和所述出片室之間設置有第三真空鎖,所述出片室的一端設置有第四真空鎖;所述鍍膜室內設置有靶組件和可作往復運動的鍍膜室工件輸送組件。
所述的真空鍍膜生產線,其中,所述真空鍍膜生產線還包括:與所述入片室連接的入片架,和/或與所述出片室連接的出片架。
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C23C 對金屬材料的鍍覆;用金屬材料對材料的鍍覆;表面擴散法,化學轉化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學氣相沉積法的一般鍍覆
C23C14-00 通過覆層形成材料的真空蒸發(fā)、濺射或離子注入進行鍍覆
C23C14-02 .待鍍材料的預處理
C23C14-04 .局部表面上的鍍覆,例如使用掩蔽物
C23C14-06 .以鍍層材料為特征的
C23C14-22 .以鍍覆工藝為特征的
C23C14-58 .后處理





