[實用新型]硅片清洗機的供水裝置以及硅片生產系統

有效

• 申請號: 201721072488.4
• 申請日: 2017-08-24
• 公開（公告）號: CN207204744U
• 公開（公告）日: 2018-04-10
• 發明（設計）人: 吳流彬
• 申請（專利權）人: 常州協鑫光伏科技有限公司
• 主分類號: B08B3/10
• 分類號: B08B3/10;B08B13/00;F28D9/00
• 代理公司: 廣州華進聯合專利商標代理有限公司44224
• 代理人: 唐清凱

技術領域

本實用新型涉及光伏技術領域，特別是涉及一種硅片清洗機的供水裝置以及硅片生產系統。

背景技術

硅片生產過程是由錠檢、粘膠、切割、清洗、分選、包裝組成，其中硅片清洗過程中需要大量的清洗用水(包括自來水、純水)，且對清洗用水均有一定的溫度指標，一般清洗用水的水溫大約為60℃左右。

目前，在清洗工藝環節中，直接采用室溫下的清洗用水引入硅片清洗機中，在硅片清洗機中對清洗用水加熱，故而造成硅片清洗機的耗能非常大，同時也不利于硅片成本的降低。

實用新型內容

基于此，有必要針對現有硅片生產過程中能耗大、不利于硅片成本降低的問題，提供一種利用硅片生產過程中的余熱，進而降低硅片清洗機的能耗，同時有利于降低硅片成本的硅片清洗機的供水裝置。

一種硅片清洗機的供水裝置，包括清洗用水加熱機構以及余熱利用機構；

所述余熱利用機構包括：

熱媒水箱，用于存儲熱媒水；

空壓機余熱器，用于對熱媒水進行加熱；

以及熱媒水泵，用于將所述熱媒水箱中的熱媒水泵入所述空壓機余熱器中；

所述清洗用水加熱機構包括：

進水管路，用于引入清洗用水；

出水管路，用于將清洗用水引入硅片清洗機中；

以及板式換熱器，用于對清洗用水進行換熱升溫；所述板式換熱器具有與所述進水管路連通的清洗用水進口、與所述出水管路連通的清洗用水出口、與所述空壓機余熱器連通以將加熱后的熱媒水引入的熱媒水進口、以及用于將換熱后的熱媒水引出的熱媒水出口。

上述硅片清洗機的供水裝置，采用硅片生產過程中的空壓機所產生的余熱對清洗用水進行加熱升溫，從而使進入硅片清洗機中的清洗用水水溫較高，進而降低硅片清洗機的加熱所需的電量，降低能耗；同時有利于硅片成本的降低。

在其中一個實施例中，所述余熱利用機構還包括：

熱媒水回管，兩端分別與所述熱媒水出口、及所述熱媒水箱連通以將換熱后的熱媒水引回所述熱媒水箱中。

在其中一個實施例中，所述熱媒水回管上設有用于開關所述熱媒水回管的控制閥。

在其中一個實施例中，所述硅片清洗機的供水裝置還包括熱媒水預熱機構；

所述熱媒水預熱機構包括：

預熱換熱器，用工藝回水對熱媒水進行預熱；

工藝回水引管，用于將線切割產生的工藝回水引入所述預熱換熱器中；

工藝回水排管，用于將換熱后的工藝回水排出所述預熱換熱器；

熱媒水引管，用于將熱媒水引入所述預熱換熱器中；

以及熱媒水排管，用于將預熱后的熱媒水排入所述熱媒水箱中。

在其中一個實施例中，所述熱媒水箱上設有用于對所述熱媒水箱中的熱媒水進行保溫的隔熱保溫層。

在其中一個實施例中，所述熱媒水箱內設有對所述熱媒水箱中的熱媒水進行加熱的加熱器。

在其中一個實施例中，所述熱媒水箱內還設有對所述熱媒水箱中的熱媒水進行溫度檢測的水溫感測器；所述余熱利用機構還包括用于當所述水溫感測器檢測到熱媒水的溫度低于指定溫度時，控制所述加熱器加熱的控制器。

在其中一個實施例中，所述清洗用水加熱機構包括用于對硅片清洗機提供純水的純水子機構、以及用于對硅片清洗機提供自來水的自來水子機構。

在其中一個實施例中，所述熱媒水箱中設有用于在所述熱媒水箱的水位低于指定水位時關閉所述熱媒水泵的浮球機構。

本實用新型還提供了一種硅片生產系統。

一種硅片生產系統，包括本實用新型所提供的硅片清洗機的供水裝置。

上述硅片生產系統，采用空壓機所產生的余熱對清洗用水進行加熱升溫，從而使進入硅片清洗機中的清洗用水水溫較高，進而降低硅片清洗機的加熱所需的電量，降低能耗，從而使硅片生產的熱量有效回收利用；進而有利于降低硅片的生產成本。

附圖說明

圖1為本實用新型一實施例的硅片清洗機的供水裝置的結構示意圖。

具體實施方式

為了使本實用新型的目的、技術方案及優點更加清楚明白，以下結合具體實施方式，對本實用新型進行進一步詳細說明。應當理解，此處所描述的具體實施方式僅僅用以解釋本實用新型，并不用于限定本實用新型。