[實用新型]用于檢測任意波長光學系統透射波前的干涉裝置及其系統

有效

• 申請號: 201721050571.1
• 申請日: 2017-08-22
• 公開（公告）號: CN207095826U
• 公開（公告）日: 2018-03-13
• 發明（設計）人: 韓森;張齊元;王全召
• 申請（專利權）人: 蘇州維納儀器有限責任公司
• 主分類號: G01M11/02
• 分類號: G01M11/02
• 代理公司: 上海德昭知識產權代理有限公司31204
• 代理人: 郁旦蓉

技術領域

本實用新型涉及一種光學干涉裝置，具體涉及一種用于檢測任意波長光學系統透射波前的干涉裝置及其系統。

背景技術

光學系統透射波前通常使用激光干涉儀檢測，激光干涉儀可以準確檢測特定波長光學系統(光學系統設計波長與干涉儀光源波長一致)，根據檢測需要，目前有不同類型波長的激光干涉儀，用于檢測不同類型的光學系統的透射波前。例如，248nm和363nm激光干涉儀用于檢測紫外透鏡系統，405nm激光干涉儀用于檢測DVD光學存儲和視聽設備的透鏡，1053nm激光干涉儀用于研究激光熔合、聚變等。

現有技術中，僅有上述幾種特定波長的激光干涉儀，因此，其他波段的光學系統無法使用激光干涉儀檢測，導致激光干涉儀的應用范圍較小。另外，激光干涉儀的研發難度較大，且特殊波長激光干涉儀的造價昂貴，因此，現有的特殊波長的激光干涉儀的種類較少。

此外，現有的激光干涉儀通常只能產生一種波長激光，測定該波長所對應的波長的光學系統，應用范圍較為局限。

實用新型內容

本實用新型是為了解決上述問題而進行的，目的在于提供一種用于檢測任意波長光學系統透射波前的干涉裝置及其系統。

本實用新型提供了一種用于檢測任意波長光學系統透射波前的干涉裝置，具有這樣的特征，包括：激光產生單元，用于產生至少兩種波長的激光光源；光源轉換單元，用于將激光光源轉換為點光源；準直單元，將點光源準直形成平行光束；標準鏡，用于透射平行或匯聚光束的一部分照射到光學系統上，并反射平行或匯聚光束的另一部分形成參考光束；反射單元，將經過光學系統的平行或匯聚光束的一部分反射形成測試光束；分光單元，透射點光源并接收參考光束以及測試光束進行反射；校正單元，對不同波長的光束的聚焦位置進行校正；以及成像單元，接收分光單元反射的參考光束以及測試光束進行干涉成像。

在本實用新型提供的用于檢測任意波長光學系統透射波前的干涉裝置中，還可以具有這樣的特征：其中，激光產生單元包括至少兩種波長激光器。

在本實用新型提供的用于檢測任意波長光學系統透射波前的干涉裝置中，還可以具有這樣的特征：其中，激光產生單元為調頻激光器，該調頻激光器用于產生至少兩種不同波長的激光光源。

在本實用新型提供的用于檢測任意波長光學系統透射波前的干涉裝置中，還可以具有這樣的特征：其中，校正單元設置在分光單元與準直單元之間靠近分光單元處，用于補償準直系統不同波長點光源位置并校正不同波長的參考光束和測試光束的聚焦位置。

在本實用新型提供的用于檢測任意波長光學系統透射波前的干涉裝置中，還可以具有這樣的特征：其中，校正單元設置在分光單元與成像單元之間靠近成像單元處，用于校正參考光束和測試光束的聚焦位置，并使不同波長光束的聚焦位置與點光源的產生位置形成共軛。

在本實用新型提供的用于檢測任意波長光學系統透射波前的干涉裝置中，還可以具有這樣的特征：其中，校正單元為兩個，分別設置在分光單元與成像單元之間以及分光單元與光源轉換單元之間，分別用于補償準直系統不同波長點光源位置，并校正不同波長的參考光束和測試光束的聚焦位置。

在本實用新型提供的用于檢測任意波長光學系統透射波前的干涉裝置中，還可以具有這樣的特征：其中，校正單元包括正透鏡與負透鏡中的一至多種。

在本實用新型提供的用于檢測任意波長光學系統透射波前的干涉裝置中，還可以具有這樣的特征：其中，校正單元包括擴束組件與縮束組件中的一至多種。

在本實用新型提供的用于檢測任意波長光學系統透射波前的干涉裝置中，還可以具有這樣的特征：其中，校正單元包括不同厚度平板的一至多種。

本實用新型還提供了一種用于檢測任意波長光學系統透射波前的干涉系統，具有這樣的特征，包括：干涉裝置，產生至少兩種的波長對任意波長的光學系統進行干涉成像；以及計算終端，根據干涉裝置的干涉成像計算波長的干涉系數進而得到任意波長的干涉波前，其中，干涉裝置為上述的干涉裝置。

實用新型的作用與效果