[實(shí)用新型]用于檢測(cè)任意波長(zhǎng)光學(xué)系統(tǒng)透射波前的干涉裝置及其系統(tǒng)有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201721050571.1 | 申請(qǐng)日: | 2017-08-22 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN207095826U | 公開(kāi)(公告)日: | 2018-03-13 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 韓森;張齊元;王全召 | 申請(qǐng)(專(zhuān)利權(quán))人: | 蘇州維納儀器有限責(zé)任公司 |
| 主分類(lèi)號(hào): | G01M11/02 | 分類(lèi)號(hào): | G01M11/02 |
| 代理公司: | 上海德昭知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司31204 | 代理人: | 郁旦蓉 |
| 地址: | 215000 江蘇省蘇州市蘇*** | 國(guó)省代碼: | 江蘇;32 |
| 權(quán)利要求書(shū): | 查看更多 | 說(shuō)明書(shū): | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 用于 檢測(cè) 任意 波長(zhǎng) 光學(xué)系統(tǒng) 透射 干涉 裝置 及其 系統(tǒng) | ||
1.一種用于檢測(cè)任意波長(zhǎng)光學(xué)系統(tǒng)的透射波前的干涉裝置,用于對(duì)任意波長(zhǎng)光學(xué)系統(tǒng)進(jìn)行干涉成像,其特征在于,包括:
激光產(chǎn)生單元,用于產(chǎn)生至少兩種波長(zhǎng)的激光光源;
光源轉(zhuǎn)換單元,用于將所述激光光源轉(zhuǎn)換為點(diǎn)光源;
準(zhǔn)直單元,將所述點(diǎn)光源準(zhǔn)直形成平行光束;
標(biāo)準(zhǔn)鏡,用于透射所述平行或匯聚光束的一部分照射到光學(xué)系統(tǒng)上,并反射所述平行或匯聚光束的另一部分形成參考光束;
反射單元,將經(jīng)過(guò)所述光學(xué)系統(tǒng)的所述平行或匯聚光束的一部分反射形成測(cè)試光束;
分光單元,透射所述點(diǎn)光源并接收所述參考光束以及所述測(cè)試光束進(jìn)行反射;
校正單元,對(duì)不同波長(zhǎng)的光束的聚焦位置進(jìn)行校正;以及
成像單元,接收所述分光單元反射的所述參考光束以及所述測(cè)試光束進(jìn)行干涉成像。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的用于檢測(cè)任意波長(zhǎng)光學(xué)系統(tǒng)的透射波前的干涉裝置,其特征在于:
其中,所述激光產(chǎn)生單元包括至少兩種激光器。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的用于檢測(cè)任意波長(zhǎng)光學(xué)系統(tǒng)的透射波前的干涉裝置,其特征在于:
其中,所述激光產(chǎn)生單元為調(diào)頻激光器,該調(diào)頻激光器用于產(chǎn)生至少兩種不同波長(zhǎng)的激光光源。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的用于檢測(cè)任意波長(zhǎng)光學(xué)系統(tǒng)的透射波前的干涉裝置,其特征在于:
其中,所述校正單元設(shè)置在所述分光單元與所述準(zhǔn)直單元之間靠近所述分光單元處,用于補(bǔ)償準(zhǔn)直系統(tǒng)不同波長(zhǎng)點(diǎn)光源位置并校正不同波長(zhǎng)的參考光束和測(cè)試光束的聚焦位置。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的用于檢測(cè)任意波長(zhǎng)光學(xué)系統(tǒng)的透射波前的干涉裝置,其特征在于:
其中,所述校正單元設(shè)置在所述分光單元與所述成像單元之間靠近所述成像單元處,用于校正參考光束和測(cè)試光束的聚焦位置,并使不同波長(zhǎng)光束的聚焦位置與點(diǎn)光源的產(chǎn)生位置形成共軛。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的用于檢測(cè)任意波長(zhǎng)光學(xué)系統(tǒng)的透射波前的干涉裝置,其特征在于:
其中,所述校正單元為兩個(gè),分別設(shè)置在所述分光單元與所述成像單元之間以及所述分光單元與所述光源轉(zhuǎn)換單元之間,分別用于補(bǔ)償準(zhǔn)直系統(tǒng)不同波長(zhǎng)點(diǎn)光源位置,并校正不同波長(zhǎng)的參考光束和測(cè)試光束的聚焦位置。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的用于檢測(cè)任意波長(zhǎng)光學(xué)系統(tǒng)的透射波前的干涉裝置,其特征在于:
其中,所述校正單元包括正透鏡與負(fù)透鏡中的一至多種。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的用于檢測(cè)任意波長(zhǎng)光學(xué)系統(tǒng)的透射波前的干涉裝置,其特征在于:
其中,所述校正單元包括擴(kuò)束組件與縮小組件的一至多種。
9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的用于檢測(cè)任意波長(zhǎng)光學(xué)系統(tǒng)的透射波前的干涉裝置,其特征在于:
其中,所述校正單元包括不同厚度平板的一至多種。
10.一種用于檢測(cè)任意波長(zhǎng)光學(xué)系統(tǒng)的透射波前的干涉系統(tǒng),用于檢測(cè)任意波長(zhǎng)的光學(xué)系統(tǒng)的透射波前,其特征在于,包括:
干涉裝置,產(chǎn)生至少兩種的波長(zhǎng)對(duì)任意波長(zhǎng)的光學(xué)系統(tǒng)進(jìn)行干涉成像;以及
計(jì)算終端,根據(jù)所述干涉裝置的干涉成像計(jì)算所述波長(zhǎng)的干涉系數(shù)進(jìn)而得到所述任意波長(zhǎng)的干涉波前,
其中,所述干涉裝置為權(quán)利要求1~9中的干涉裝置。
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