[實用新型]一種模塊化制造多用途卷繞式真空鍍膜機

有效

• 申請號: 201720979587.4
• 申請日: 2017-08-07
• 公開（公告）號: CN207362325U
• 公開（公告）日: 2018-05-15
• 發明（設計）人: 趙斌
• 申請（專利權）人: 惠州市烯谷新能源產業技術研究院有限公司
• 主分類號: C23C14/35
• 分類號: C23C14/35;C23C14/56;C23C14/54
• 代理公司: 深圳市德錦知識產權代理有限公司 44352
• 代理人: 丁敬偉

本實用新型公開提供一種模塊化制造多用途卷繞式真空鍍膜機,它包括至少兩個真空卷繞鍍膜系統單元，相鄰的兩個真空卷繞鍍膜系統單元之間通過真空聯結閥連接，待鍍膜的卷料由所述真空聯結閥穿過進入下一個空卷繞鍍膜系統單元；所述真空卷繞鍍膜系統單元包括有放卷室、鍍膜室、熱處理室及收卷室，四者均設有若干可用于張緊、傳送待鍍膜卷料、改變的待鍍膜的卷料纏繞方向的卷軸，鍍膜室設有鍍膜榖，待鍍膜的卷料在上一個真空卷繞鍍膜系統單元中實現一面鍍膜后因所述卷軸改變其纏繞方向在下一個真空卷繞鍍膜系統單元實現另一面鍍膜。

技術領域

本實用新型涉及真空鍍膜、電容器薄膜制造及光電顯示薄膜制造行業，針對柔性薄膜材料實現單/雙面鍍膜，尤其涉及一種模塊化制造多用途卷繞式真空鍍膜機。

背景技術

真空鍍膜是等離子技術應用的一種，即在真空環境下，使裝有待鍍材料的磁控濺射陰極啟輝(電阻蒸發方式是通電加熱膜料坩堝)，磁控陰極產生等離子體，高能離子轟擊靶面(膜料)濺射出要鍍膜料粒子，濺射出來的粒子沉積在被鍍工件上形成單質膜、化合物膜等。

卷繞式真空鍍膜技術廣泛應用于電容器、觸摸顯示器、裝飾包裝材料等柔性材料的功能及裝飾性薄膜制造領域。

常規的卷繞式真空鍍膜設備所采用的卷繞機構多為單腔體或多腔體，對于單腔體設備，其結構特點為：a.包括一個密封真空容器(圓形或矩形腔體)；b.容器內用金屬隔板隔離出1個放卷區、1個鍍膜區、1個收卷區；c.具有設計緊湊、占地面積小、造價低等優點；d.缺點是各區域氣氛隔離度差，工作中粉塵污染較多，生產膜系有限，產能低等。對于多腔體設備，其缺點是單鍍膜主轂生產，生產膜系有限，產品品種單一，設備只能按工藝訂制，制造成本較高等。

以上設備結構設計是目前常用的幾種卷繞式真空鍍膜設備方式，設備的設計制造都是在事先確定產品工藝的基礎上須獨立設計的專用設備，都只能鍍制單面成膜產品，生產雙面鍍膜產品時，就需要將待鍍膜(箔材)翻面二次加工，具有成品率低，生產效率低；生產簡單膜系產品時，設備利用率低等缺陷。

實用新型內容

本實用新型的目的在于針對現有技術的缺陷和不足，提供一種模塊化制造多用途卷繞式真空鍍膜機，它針對柔性薄膜材料實現單/雙面鍍膜。

為實現上述目的，本實用新型采用的技術方案是：

一種模塊化制造多用途卷繞式真空鍍膜機,包括至少兩個真空卷繞鍍膜系統單元，相鄰的兩個真空卷繞鍍膜系統單元之間通過真空聯結閥連接，待鍍膜的卷料由所述真空聯結閥穿過進入下一個空卷繞鍍膜系統單元；所述真空卷繞鍍膜系統單元包括有放卷室、鍍膜室、熱處理室及收卷室，四者均設有若干可用于張緊、傳送待鍍膜卷料、改變的待鍍膜的卷料纏繞方向的卷軸，鍍膜室設有鍍膜榖，待鍍膜的卷料在上一個真空卷繞鍍膜系統單元中實現一面鍍膜后因所述卷軸改變其纏繞方向在下一個真空卷繞鍍膜系統單元實現另一面鍍膜。

優選的，所述真空卷繞鍍膜系統單元還包括有控制鍍膜工藝參數的PLC控制系統。

優選的，所述放卷室、鍍膜室、熱處理室及收卷室均由獨立的抽真空設備進行抽真空，抽真空設備與所述PLC控制系統控制連接。

優選的，所述放卷室、鍍膜室由獨立的抽真空設備進行抽真空，熱處理室及收卷室共用一組抽真空設備，所有抽真空設備均與所述PLC控制系統控制連接。

優選的，所述鍍膜室設有多個磁控濺射靶，多個磁控濺射靶與所述PLC控制系統控制連接。

優選的，所述放卷室設有可拆卸的放卷輥，所述收卷室設有可拆卸的收卷輥。

優選的，所述熱處理室設有若干加熱裝置，若干加熱裝置與所述PLC控制系統控制連接。

優選的，所述放卷室與所述收卷室為對稱結構，兩者可對調從而改變收卷或放卷的位置。

優選的，所述放卷輥及收卷輥與所述PLC控制系統控制連接。