[實用新型]一種模塊化制造多用途卷繞式真空鍍膜機

有效

• 申請號: 201720979587.4
• 申請日: 2017-08-07
• 公開（公告）號: CN207362325U
• 公開（公告）日: 2018-05-15
• 發明（設計）人: 趙斌
• 申請（專利權）人: 惠州市烯谷新能源產業技術研究院有限公司
• 主分類號: C23C14/35
• 分類號: C23C14/35;C23C14/56;C23C14/54
• 代理公司: 深圳市德錦知識產權代理有限公司 44352
• 代理人: 丁敬偉

1.一種模塊化制造多用途卷繞式真空鍍膜機,其特征在于包括至少兩個真空卷繞鍍膜系統單元，相鄰的兩個真空卷繞鍍膜系統單元之間通過真空聯結閥連接，待鍍膜的卷料由所述真空聯結閥穿過進入下一個空卷繞鍍膜系統單元；所述真空卷繞鍍膜系統單元包括有放卷室、鍍膜室、熱處理室及收卷室，四者均設有若干可用于張緊、傳送待鍍膜卷料、改變的待鍍膜的卷料纏繞方向的卷軸，鍍膜室設有鍍膜榖，待鍍膜的卷料在上一個真空卷繞鍍膜系統單元中實現一面鍍膜后因所述卷軸改變其纏繞方向在下一個真空卷繞鍍膜系統單元實現另一面鍍膜。

2.根據權利要求1所述的一種模塊化制造多用途卷繞式真空鍍膜機,其特征在于所述真空卷繞鍍膜系統單元還包括有控制鍍膜工藝參數的PLC控制系統。

3.根據權利要求2所述的一種模塊化制造多用途卷繞式真空鍍膜機,其特征在于所述放卷室、鍍膜室、熱處理室及收卷室均由獨立的抽真空設備進行抽真空，抽真空設備與所述PLC控制系統控制連接。

4.根據權利要求2所述的一種模塊化制造多用途卷繞式真空鍍膜機,其特征在于所述放卷室、鍍膜室由獨立的抽真空設備進行抽真空，熱處理室及收卷室共用一組抽真空設備，所有抽真空設備均與所述PLC控制系統控制連接。

5.根據權利要求2所述的一種模塊化制造多用途卷繞式真空鍍膜機,其特征在于所述鍍膜室設有多個磁控濺射靶，多個磁控濺射靶與所述PLC控制系統控制連接。

6.根據權利要求2所述的一種模塊化制造多用途卷繞式真空鍍膜機,其特征在于所述放卷室設有可拆卸的放卷輥，所述收卷室設有可拆卸的收卷輥。

7.根據權利要求2所述的一種模塊化制造多用途卷繞式真空鍍膜機,其特征在于所述熱處理室設有若干加熱裝置，若干加熱裝置與所述PLC控制系統控制連接。

8.根據權利要求1-7任一項所述的一種模塊化制造多用途卷繞式真空鍍膜機,其特征在于所述放卷室與所述收卷室為對稱結構，兩者可對調從而改變收卷或放卷的位置。

9.根據權利要求6所述的一種模塊化制造多用途卷繞式真空鍍膜機,其特征在于所述放卷輥及收卷輥與所述PLC控制系統控制連接。