[實用新型]一種清洗系統及手提式清洗裝置

有效

• 申請號: 201720977193.5
• 申請日: 2017-08-07
• 公開（公告）號: CN207494152U
• 公開（公告）日: 2018-06-15
• 發明（設計）人: 張明
• 申請（專利權）人: 武漢新芯集成電路制造有限公司
• 主分類號: B08B9/032
• 分類號: B08B9/032
• 代理公司: 上海申新律師事務所 31272
• 代理人: 俞滌炯

本實用新型提供了一種清洗系統以及手提式清洗裝置，應用于半導體制造設備的氣體管道中，氣體管道包括進氣口以及出氣口；其中，包括：液體箱，液體箱設置有一出水口以及入水口；氣體泵，一端通過一液體管道與出水口連接，另一端與氣體管道的進氣口連接，出氣口通過一液體管道與入水口連接；氣體泵用以將液體箱箱中的液體抽出至氣體管道，并回流至液體箱。其技術方案的有益效果在于，克服了現有技術中對對氣體管道進行清洗時，需要拆卸管道存在的操作不便，以及對拆卸的管道需要額外提供容積龐大的清洗槽進行清洗費時費力的缺陷。

技術領域

本實用新型涉及一種半導體制造設備技術領域，尤其涉及一種用于半導體制造設備氣體管路的清洗系統及手提式清洗裝置。

背景技術

在半導體器件的制備過程中，往往會涉及一些需要氣體參與反應的工藝，例如刻蝕工藝中的，三氟化硼(BF3)作為等離子刻蝕氣體，NF3、NF3/Ar、NF3/He用于硅化合物MoSi2的蝕刻氣體等，還包括化學氣象沉積工藝，其主要利用揮發性化合物，通過氣相化學反應淀積某種單質和化合物的一種方法，即應用氣相化學反應的一種成膜方法。依據成膜種類，使用的化學氣相淀積(CVD)氣體也不同，鍺烷(GeH4)氣體等，如硅烷(SiH4)+氫等，而在反應中氣體則是通過半導體設備中的氣體管道輸出，隨著機臺的逐漸老化，氣體管道污染帶來的問題越來越多，污染物大部分是易于被氧化的氣體由于微漏或是原始氣體供應不純產生的氧化物附著在氣體管道的管壁上，化學氣相沉積機臺大多數的氣體管路中的氧化物為SIO2易溶入水，對于管路中出現的污染，現有的做法是對污染的全部氣體管道通過拆裝進行清洗或是換新，但是一般管氣體管道難于拆裝，而在清洗時需要提供容積非常龐大的清洗槽，清洗非常不便。

發明內容

針對現有技術中在去除氣體管道中的污染物存在的上述問題，現提供一種方便對氣體管路中的污染物進行去除，且操作簡單的清洗系統及手提式清洗裝置。

具體技術方案如下：

一種清洗系統，應用于半導體制造設備的氣體管道中，所述氣體管道包括進氣口以及出氣口；其中，包括：

液體箱，所述液體箱設置有一出水口以及入水口；

氣體泵，一端通過一液體管道與所述出水口連接，另一端與所述氣體管道的所述進氣口連接，所述出氣口通過一液體管道與所述入水口連接；

所述氣體泵用以將所述液體箱箱中的液體抽出至所述氣體管道，并回流至所述液體箱。

優選的，還包括一過濾器，所述過濾器通過液體管道連接與所述氣體泵以及所述進氣口之間。

優選的，所述液體箱中存儲的液體為水。

優選的，所述進氣口設置有第一密封接頭；

所述液體管道與所述進氣口連接的一端設置有與所述第一密封接頭適配的所述第二密封接頭。

優選的，所述出氣口設置有第一密封接頭；

所述液體管道與所述出氣口連接的一端設置有與所述第一密封接頭適配的所述第二密封接頭。

優選的，所述第一密封接頭與所述第二密封接頭為VCR接頭。

優選的，所述第一密封接頭以及所述第二密封接頭由塑料材質制成。

還包括一種手提式清洗裝置，包括上述的清洗系統，其中，包括：

箱體本體，所述箱體本體內設置有一容置空間；

所述液體箱固定設置于所述容置空間的底部；

第一通孔，設置于所述箱體本體的側壁并對應所述進水口的位置；

所述氣體泵固定設置于所述容置空間的底部，并位于所述液體箱的一側；