[實用新型]一種藍寶石襯底片雙面拋光裝置

有效

• 申請號: 201720959000.3
• 申請日: 2017-08-02
• 公開（公告）號: CN207372924U
• 公開（公告）日: 2018-05-18
• 發明（設計）人: 向齊濤;沈思情;劉浦鋒;宋洪偉;陳猛
• 申請（專利權）人: 上海超硅半導體有限公司
• 主分類號: B24B29/02
• 分類號: B24B29/02
• 代理公司: 北京品源專利代理有限公司 11332
• 代理人: 鞏克棟

本實用新型提供了一種藍寶石襯底片雙面拋光裝置，所述裝置由上至下依次包括上拋光組件、拋光定位模板和下拋光組件；其中上拋光組件包括拋頭，拋頭頂部設有拋頭固定器件以及與拋頭固定器件相連的氣缸轉動軸承，拋頭兩端設有貫通第一拋頭的磨料進入口；所述下拋光組件包括磨盤和拋光承載臺，磨盤置于拋光承載臺上，所述拋光承載臺下方中部設有轉動軸承，所述拋光承載臺一側設有貫通拋光承載臺的磨料回收管道。本實用新型所述裝置可以對貼合的兩片藍寶石襯底片進行單面拋光，增加了一次性拋光的藍寶石襯底片數量，提高生產效率。

技術領域

本實用新型屬于藍寶石加工領域，涉及一種藍寶石襯底片雙面拋光裝置。

背景技術

隨著電子和光電行業下游技術的不斷進步，對于藍寶石襯底片的需求量越來越高。在保證加工精度的同時，也要不斷地提高生產效率。

當前國內，對晶圓和藍寶石襯底片的加工以有蠟的化學機械拋光(CMP)為主。有蠟拋光又分固態蠟和液態蠟兩種方式，固態蠟的方式使我們對于藍寶石襯底片的加工精度不好掌控，而液態蠟可以均勻且有效的控制蠟膜厚度跟加工精度，但勻蠟機在涂覆過程中會造成很大一部分廢蠟，而且耗時久，效率低。在單面拋光工藝中，一般都是采用將藍寶石襯底片粘附在陶瓷板上，并通過一定粒徑的磨料將藍寶石襯底片的一面達到拋光的效果。這種方法很大的程度上限制了藍寶石襯底片單面拋光的生產力。

CN 102513906A公開了一種藍寶石襯底拋光裝置及拋光工藝，其將要拋光的藍寶石襯底用蠟粘貼在襯底固定盤上，通過單次拋光制得表面粗糙度達到納米級的藍寶石襯底。CN 101604666A公開了一種藍寶石襯底及拋光方法與應用。但是，現有藍寶石拋光均為單面拋光工藝，貼蠟拋光時間較長其大大降低了藍寶石的生產效率。并且，在生產過程中會產生大量的廢蠟，性能也參差不齊。

因此，如何快速對藍寶石襯底片進行單面拋光，提高生產效率是亟需解決的問題。

實用新型內容

針對現有藍寶石襯底片拋光工藝中存在的貼蠟拋光時間長，生產效率低的問題，本實用新型提供了一種藍寶石襯底片的雙面拋光裝置。本實用新型所述裝置可以對貼合的兩片藍寶石襯底片進行單面拋光，增加了一次性拋光的藍寶石襯底片數量，提高生產效率。

為達此目的，本實用新型采用以下技術方案：

本實用新型提供了一種藍寶石襯底片雙面拋光裝置，所述裝置由上至下依次包括上拋光組件、拋光定位模板和下拋光組件；其中上拋光組件包括拋頭，拋頭頂部設有拋頭固定器件以及與拋頭固定器件相連的氣缸轉動軸承，拋頭兩端設有貫通第一拋頭的磨料進入口；所述下拋光組件包括磨盤和拋光承載臺，磨盤置于拋光承載臺上，所述拋光承載臺下方中部設有轉動軸承，所述拋光承載臺一側設有貫通拋光承載臺的磨料回收管道。

其中，所述磨料回收管道用于回收拋光過程中流下的磨料；拋光定位模板中放置待拋光的藍寶石襯底片。

以下作為本實用新型優選的技術方案，但不作為本實用新型提供的技術方案的限制，通過以下技術方案，可以更好的達到和實現本實用新型的技術目的和有益效果。

作為本實用新型優選的技術方案，所述磨料進入口上方設有磨料輸送管，其用于向磨料進入口輸送磨料。

作為本實用新型優選的技術方案，所述拋光定位模板通過模板固定器件固定于拋光組件和承載組件之間。

作為本實用新型優選的技術方案，所述拋光定位模板與模板固定器件之間通過齒輪咬合。

作為本實用新型優選的技術方案，所述拋頭和磨盤上均貼有拋光布。

本實用新型所述的裝置的處理方法如下：