[實(shí)用新型]蒸鍍用金屬掩模

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201720954355.3
• 申請(qǐng)日: 2017-08-02
• 公開（公告）號(hào): CN207619515U
• 公開（公告）日: 2018-07-17
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 西剛廣
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 凸版印刷株式會(huì)社
• 主分類號(hào): C23C14/04
• 分類號(hào): C23C14/04;C23C14/24
• 代理公司: 永新專利商標(biāo)代理有限公司 72002
• 代理人: 徐殿軍

蒸鍍用金屬掩模具備包括多個(gè)掩模孔的掩模區(qū)域，位于掩模區(qū)域的中央以外的位置的各掩模孔的連接部具有遍及掩模孔的整周地朝向掩模孔的內(nèi)側(cè)突出的形狀，由作為掩模區(qū)域的中央附近的部分的第1部分、和作為掩模區(qū)域的端部附近的部分的第2部分構(gòu)成。第1部分與掩模區(qū)域的背面之間的距離是第1臺(tái)階高度，端部區(qū)域中的第1臺(tái)階高度比中央?yún)^(qū)域中的第1臺(tái)階高度小。

技術(shù)領(lǐng)域

本方案涉及蒸鍍用金屬掩模、蒸鍍用金屬掩模的制造方法及顯示裝置的制造方法。

背景技術(shù)

蒸鍍用金屬掩模具備表面和背面，背面是與基板等的蒸鍍對(duì)象接觸的面，表面是與背面相反側(cè)的面。從表面貫通到背面的掩模孔具備包括表面上的開口即大開口的大孔、和包括背面上的開口即小開口的小孔。劃分掩模孔的內(nèi)周面在大孔與小孔的連接部處具有向掩模孔的內(nèi)側(cè)突出的形狀。在使用蒸鍍用金屬掩模的成膜中，蒸鍍物質(zhì)從大開口朝向小開口穿過掩模孔而向蒸鍍對(duì)象堆積。由此，在蒸鍍對(duì)象上形成遵循小開口的位置及形狀的蒸鍍圖案(例如，參照專利文獻(xiàn)1)。

現(xiàn)有技術(shù)文獻(xiàn)

專利文獻(xiàn)

專利文獻(xiàn)1：日本特開2014－148744號(hào)公報(bào)

順便說一下，在蒸鍍裝置中，對(duì)于多個(gè)掩模孔使用1個(gè)蒸鍍?cè)础＠纾翦冄b置具備1個(gè)蒸鍍?cè)矗远鄠€(gè)掩模孔中的位于中央的掩模孔與1個(gè)蒸鍍?cè)聪嗷?duì)置的方式配置蒸鍍用金屬掩模。或者，蒸鍍裝置具備多個(gè)蒸鍍?cè)矗?個(gè)掩模區(qū)域中包含的相互不同的掩模孔群中的位于中央的掩模孔與1個(gè)蒸鍍?cè)聪嗷?duì)置的方式配置蒸鍍用金屬掩模。或者，蒸鍍裝置具備多個(gè)蒸鍍?cè)矗?個(gè)掩模區(qū)域中包含的多個(gè)掩模孔中的位于中央的掩模孔與1個(gè)蒸鍍?cè)聪嗷?duì)置的方式、并且以另1個(gè)掩模區(qū)域中包含的多個(gè)掩模孔中的位于中央的掩模孔與另1個(gè)蒸鍍?cè)聪嗷?duì)置的方式配置蒸鍍用金屬掩模。

在上述結(jié)構(gòu)中，從1個(gè)蒸鍍?cè)闯蛭挥谥醒氲难谀？椎姆较蚺c從1個(gè)蒸鍍?cè)闯蚱渌谀？椎姆较蛳嗷ゲ煌２⑶遥瑥恼翦冊(cè)瘁尫诺恼翦兾镔|(zhì)的量通常在與蒸鍍?cè)磳?duì)置的位置處最大，并且在上述方向的范圍內(nèi)具有偏差。因此，穿過掩模孔的蒸鍍物質(zhì)的量在蒸鍍用金屬掩模內(nèi)具有偏差，由此，按照掩模孔形成的蒸鍍圖案的膜厚在蒸鍍用金屬掩模內(nèi)具有偏差。

實(shí)用新型內(nèi)容

本實(shí)用新型的目的是提供一種能夠使按照掩模孔形成的蒸鍍圖案的膜厚的均勻性在蒸鍍用金屬掩模內(nèi)提高的蒸鍍用金屬掩模。

用來解決上述課題的蒸鍍用金屬掩模具備包括多個(gè)掩模孔的掩模區(qū)域。上述掩模區(qū)域具備中央?yún)^(qū)域和端部區(qū)域；上述中央?yún)^(qū)域包括上述掩模區(qū)域的中央，并且包括用來與蒸鍍?cè)磳?duì)置的多個(gè)上述掩模孔；上述端部區(qū)域位于比上述中央?yún)^(qū)域更靠上述掩模區(qū)域的端部側(cè)，并且包括與上述中央?yún)^(qū)域中包含的上述掩模孔不同的多個(gè)上述掩模孔。上述掩模區(qū)域具備：表面，包含上述各掩模孔的大開口；以及背面，包含上述各掩模孔的小開口。上述各掩模孔包括：大孔，包含上述大開口，具有朝向上述小開口而前端變細(xì)的形狀；小孔，包含上述小開口，具有朝向上述大開口而前端變細(xì)的形狀；以及連接部，將上述大孔與上述小孔連接。位于上述掩模區(qū)域的中央以外的位置的上述各連接部由第1部分和第2部分構(gòu)成，上述第1部分具有遍及上述掩模孔的整周地朝向上述掩模孔的內(nèi)側(cè)突出的形狀，并且上述第1部分是上述掩模區(qū)域的中央附近的部分，上述第2部分是上述掩模區(qū)域的端部附近的部分。上述第1部分與上述背面之間的距離是第1臺(tái)階高度，上述端部區(qū)域中的上述第1臺(tái)階高度比上述中央?yún)^(qū)域中的上述第1臺(tái)階高度小。

根據(jù)上述結(jié)構(gòu)，在蒸鍍用金屬掩模中，不論是1個(gè)掩模區(qū)域與1個(gè)蒸鍍?cè)磳?duì)置的情況，還是單獨(dú)的蒸鍍?cè)聪鄬?duì)于多個(gè)掩模區(qū)域?qū)χ玫那闆r，中央?yún)^(qū)域中包含的掩模孔的第1部分與端部區(qū)域中包含的掩模孔的第1部分相比，都能夠抑制蒸鍍物質(zhì)穿過。因此，能夠使按照掩模孔形成的蒸鍍圖案的膜厚的均勻性在蒸鍍用金屬掩模內(nèi)提高。