[實用新型]蒸鍍用金屬掩模

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201720954355.3
• 申請日: 2017-08-02
• 公開（公告）號: CN207619515U
• 公開（公告）日: 2018-07-17
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 西剛廣
• 申請（專利權(quán)）人: 凸版印刷株式會社
• 主分類號: C23C14/04
• 分類號: C23C14/04;C23C14/24
• 代理公司: 永新專利商標代理有限公司 72002
• 代理人: 徐殿軍

1.一種蒸鍍用金屬掩模，其特征在于，

具備包括多個掩模孔的掩模區(qū)域，

上述掩模區(qū)域具備中央?yún)^(qū)域和端部區(qū)域，

上述中央?yún)^(qū)域包括上述掩模區(qū)域的中央，并且包括用來與蒸鍍源對置的多個上述掩模孔，

上述端部區(qū)域位于比上述中央?yún)^(qū)域更靠上述掩模區(qū)域的端部側(cè)，并且包括與上述中央?yún)^(qū)域中包含的上述掩模孔不同的多個上述掩模孔，

上述掩模區(qū)域具備：

表面，包含上述各掩模孔的大開口；以及

背面，包含上述各掩模孔的小開口，

上述各掩模孔包括：

大孔，包含上述大開口，具有朝向上述小開口而前端變細的形狀；

小孔，包含上述小開口，具有朝向上述大開口而前端變細的形狀；以及

連接部，將上述大孔與上述小孔連接，

位于上述掩模區(qū)域的中央以外的位置的上述各連接部由第1部分和第2部分構(gòu)成，上述第1部分具有遍及上述掩模孔的整周地朝向上述掩模孔的內(nèi)側(cè)突出的形狀，并且上述第1部分是上述掩模區(qū)域的中央附近的部分，上述第2部分是上述掩模區(qū)域的端部附近的部分，

上述第1部分與上述背面之間的距離是第1臺階高度，上述端部區(qū)域中的上述第1臺階高度比上述中央?yún)^(qū)域中的上述第1臺階高度小。

2.如權(quán)利要求1所述的蒸鍍用金屬掩模，其特征在于，

上述端部區(qū)域是包括上述掩模區(qū)域的上述端部的區(qū)域。

3.一種蒸鍍用金屬掩模，其特征在于，

由蒸鍍用金屬掩模具備的多個掩模孔的全部構(gòu)成1個掩模區(qū)域，

上述掩模區(qū)域具備中央?yún)^(qū)域和端部區(qū)域，

上述端部區(qū)域包括上述掩模區(qū)域的端部和多個上述掩模孔，

上述中央?yún)^(qū)域位于比上述端部區(qū)域更靠上述掩模區(qū)域的中央側(cè)，并且包括與上述端部區(qū)域中包含的上述掩模孔不同且用來與蒸鍍源對置的多個上述掩模孔，

上述掩模區(qū)域具備：

表面，包含上述各掩模孔的大開口；以及

背面，包含上述各掩模孔的小開口，

上述各掩模孔包括：

大孔，包含上述大開口，具有朝向上述小開口而前端變細的形狀；

小孔，包含上述小開口，具有朝向上述大開口而前端變細的形狀；以及

連接部，將上述大孔與上述小孔連接，

位于上述掩模區(qū)域的中央以外的位置的上述各連接部由第1部分和第2部分構(gòu)成，上述第1部分具有遍及上述掩模孔的整周地朝向上述掩模孔的內(nèi)側(cè)突出的形狀，并且上述第1部分是上述掩模區(qū)域的中央附近的部分，上述第2部分是上述掩模區(qū)域的端部附近的部分，

上述第1部分與上述背面之間的距離是第1臺階高度，上述端部區(qū)域中的上述第1臺階高度比上述中央?yún)^(qū)域中的上述第1臺階高度小。

4.如權(quán)利要求1或3所述的蒸鍍用金屬掩模，其特征在于，

上述第2部分與上述背面之間的距離是第2臺階高度；

在上述各掩模孔中，上述第2臺階高度大于等于上述第1臺階高度。

5.如權(quán)利要求1或3所述的蒸鍍用金屬掩模，其特征在于，

與上述表面正交的截面中的上述大孔的內(nèi)周面具有弧狀，

上述截面中的上述小孔的內(nèi)周面具有弧狀，

在上述截面中，上述表面的法線中，穿過上述大開口的中央的上述法線是大孔法線，穿過上述小開口的中央的上述法線是小孔法線，

屬于上述各掩模孔的上述大孔法線位于與屬于同一個上述掩模孔的上述小孔法線相同的位置、或位于比屬于同一個上述掩模孔的上述小孔法線更靠上述掩模區(qū)域的中央附近的位置，屬于同一個上述掩模孔的上述大孔法線與上述小孔法線之間的距離是法線間距離，

上述端部區(qū)域中的上述法線間距離比上述中央?yún)^(qū)域中的上述法線間距離大。

6.如權(quán)利要求5所述的蒸鍍用金屬掩模，其特征在于，

上述蒸鍍用金屬掩模具備多個上述端部區(qū)域，

上述各端部區(qū)域沿著上述掩模孔排列的方向排列，

在多個上述端部區(qū)域中，距上述中央?yún)^(qū)域的距離越大，上述端部區(qū)域中的上述法線間距離越大。