[實用新型]曝光機的光學裝置有效
| 申請號: | 201720929820.8 | 申請日: | 2017-07-28 |
| 公開(公告)號: | CN207516722U | 公開(公告)日: | 2018-06-19 |
| 發明(設計)人: | 李致齊 | 申請(專利權)人: | 科毅科技股份有限公司 |
| 主分類號: | G03F7/20 | 分類號: | G03F7/20 |
| 代理公司: | 北京匯澤知識產權代理有限公司 11228 | 代理人: | 黃挺 |
| 地址: | 中國臺灣桃園市*** | 國省代碼: | 中國臺灣;71 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 發光二極管燈板 轉向反射鏡 復眼透鏡組 投射 光學裝置 投射路徑 曝光機 配置 本實用新型 層疊排列 垂直投射 光束反射 水平光束 平行光 | ||
本實用新型提供一種曝光機的光學裝置,其包含一發光二極管燈板、一復眼透鏡組及一轉向反射鏡;發光二極管燈板用以朝向一水平方向投射一光束;復眼透鏡組配置在發光二極管燈板的投射路徑上且與發光二極管燈板層疊排列;轉向反射鏡配置在發光二極管燈板的投射路徑上且復眼透鏡組配置在發光二極管燈板與轉向反射鏡之間,轉向反射鏡用以將發光二極管燈板投射的光束反射而向下轉向一垂直方向;由此將發光二極管燈板所投射的水平光束轉向為垂直投射且調整為平行光。
技術領域
本實用新型是有關于一種曝光機,尤其是關于一種能夠垂直轉向投射平行光束的曝光機的光學裝置。
背景技術
曝光機為一般印刷電路板或半導體芯片在進行曝光顯影制程時常用的設備。曝光機投射的光束必需要以透鏡組修正為平行光再投射至工作對象上,如此方能確保工作對象受到均勻光照。一般而言,曝光機工作時,工作對象平放而光束自工作對象上方向下投射以照射工作對象。工作對象上方需要配置光源以及透鏡組并且預留光束投射路徑的空間,因此,曝光機一般而言占用相當大的空間,而且其設備高度過高不易維護。
實用新型內容
本實用新型提供一種能夠垂直轉向投射平行光束的曝光機的光學裝置。
本實用新型提供一種曝光機的光學裝置,其包含一發光二極管燈板、一復眼透鏡組及一轉向反射鏡。發光二極管燈板用以朝向一水平方向投射一光束。復眼透鏡組配置在發光二極管燈板的投射路徑上且與發光二極管燈板層疊排列。轉向反射鏡,配置在發光二極管燈板的投射路徑上且復眼透鏡組配置在發光二極管燈板與轉向反射鏡之間,轉向反射鏡用以將發光二極管燈板投射的光束反射而向下轉向一垂直方向。
本實用新型的曝光機的光學裝置,其中復眼透鏡組包含一聚光復眼透鏡,聚光復眼透鏡配置在發光二極管燈板的投射路徑上用以聚集發光二極管燈板發出的光束。聚光復眼透鏡與發光二極管燈板緊鄰且相互間隔配置。復眼透鏡組包含一均化復眼透鏡,均化復眼透鏡配置在發光二極管燈板的投射路徑上,且聚光復眼透鏡配置在發光二極管燈板與均化復眼透鏡之間,均化復眼透鏡用以均化通過聚光復眼透鏡聚集的光束。均化復眼透鏡與聚光復眼透鏡緊鄰且相互間隔配置。聚光復眼透鏡為數個子聚光透鏡排列構成,均化復眼透鏡為數個子均化透鏡排列構成,且子均化透鏡的單位面積排列密度大于子聚光透鏡的單位面積排列密度。
本實用新型的曝光機的光學裝置還包含一聚光透鏡,聚光透鏡配置在發光二極管燈板的投射路徑上用以聚集轉向反射鏡反射的光束。
本實用新型的曝光機的光學裝置還包含一光圈,光圈配置在發光二極管燈板的投射路徑上用以限制光束的投射截面范圍。
本實用新型的曝光機的光學裝置,其轉向反射鏡為平面鏡。
本實用新型的曝光機的光學裝置,由復眼透鏡組及轉向反射鏡配合而能夠將發光二極管燈板所投射的水平光束轉向為垂直投射且調整為平行光。因此能夠緊密配置組件,由此縮減曝光機設備占用空間。
附圖說明
圖1為本實用新型曝光機的光學裝置的較佳實施例的立體示意圖。
圖2為本實用新型曝光機的光學裝置的較佳實施例中的聚光復眼透鏡的立體示意圖。
圖3為本實用新型曝光機的光學裝置的較佳實施例中的均化復眼透鏡的立體示意圖。
圖中符號表示:
10 光束;11 水平方向;12 垂直方向;100 發光二極管燈板;200 復眼透鏡組;210聚光復眼透鏡;211 子聚光透鏡;220 均化復眼透鏡;221 子均化透鏡;300 轉向反射鏡;400 聚光透鏡;500 光圈。
具體實施方式
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