[實用新型]一種硅片清洗周轉盤

有效

• 申請號: 201720911481.0
• 申請日: 2017-07-26
• 公開（公告）號: CN206976300U
• 公開（公告）日: 2018-02-06
• 發明（設計）人: 徐明星
• 申請（專利權）人: 山東芯諾電子科技股份有限公司
• 主分類號: H01L21/67
• 分類號: H01L21/67;H01L21/673
• 代理公司: 青島發思特專利商標代理有限公司37212
• 代理人: 盧登濤

1.一種硅片清洗周轉盤，其特征在于，包括底座(1)、支撐板(2)、兩個放置架(3)，所述支撐板(2)豎直設置在底座(1)中軸線上，支撐板(2)兩側分別設置所述的兩個放置架(3)，所述放置架(3)均包括兩個相對的硅片放置部(5)，硅片放置部(5)由互成銳角夾角的放置架側板和放置架底板圍成，兩個硅片放置部(5)連接使放置架(3)縱剖面呈W形。

2.根據權利要求1所述的一種硅片清洗周轉盤，其特征在于，所述放置架(3)前后側均設置有擋板(8)。

3.根據權利要求2所述的一種硅片清洗周轉盤，其特征在于，所述擋板(8)的頂部低于放置架(3)的頂部。

4.根據權利要求1所述的一種硅片清洗周轉盤，其特征在于，所述放置架(3)內表面鋪設有橡膠墊。

5.根據權利要求1所述的一種硅片清洗周轉盤，其特征在于，所述支撐板(2)頂部設置有提手(7)。

6.根據權利要求1至5任一項所述的一種硅片清洗周轉盤，其特征在于，所述兩個硅片放置部(5)的連接處設有隔板(6)。

7.根據權利要求6所述的一種硅片清洗周轉盤，其特征在于，所述放置架側板和放置架底板成角45°-90°。