[實(shí)用新型]一種限流真空中心圈有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201720907425.X | 申請(qǐng)日: | 2017-07-25 |
| 公開(公告)號(hào): | CN207134331U | 公開(公告)日: | 2018-03-23 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 袁鵬華;李炯;劉東升;朱駿;張旭升 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 上海華力微電子有限公司 |
| 主分類號(hào): | H01L21/67 | 分類號(hào): | H01L21/67 |
| 代理公司: | 上海申新律師事務(wù)所31272 | 代理人: | 俞滌炯 |
| 地址: | 201203 上海市浦*** | 國省代碼: | 上海;31 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 限流 真空 中心 | ||
技術(shù)領(lǐng)域
本實(shí)用新型涉及一種真空圈,尤其涉及一種限流真空中心圈。
背景技術(shù)
TEL Vigus機(jī)臺(tái)主要用于氧化膜刻蝕工藝,該機(jī)臺(tái)工藝腔體一般要求真空狀態(tài),只有在維護(hù)時(shí)處于大氣狀態(tài)。大氣到真空的步驟:
先開啟粗抽閥門V36,干泵通過真空管路抽走空氣,壓力下降到數(shù)百毫Torr關(guān)閉粗抽閥。
開啟V37閥門,開啟APC,通過分子泵把腔體壓力抽到0毫Torr真空。
步驟缺陷:開啟粗抽閥門瞬時(shí),大量空氣流經(jīng)干泵,被干泵壓縮排向尾氣處理裝置。由于干泵尾端排氣管管徑較細(xì)和尾氣處理裝置能力有限,對(duì)瞬間流過的大量空氣不能及時(shí)排出,致使干泵尾端壓力過高,雖然是瞬時(shí)升高,并由隨著腔體內(nèi)壓力下降,干泵尾端壓力能快速下降。但是由于干泵保護(hù)機(jī)制的作用,尾端壓力過高的情況下,干泵本身會(huì)報(bào)警并停止工作。導(dǎo)致設(shè)備主機(jī)臺(tái)報(bào)警,聯(lián)動(dòng)分子泵停機(jī)。需要等分子泵停止工作后,重新開啟干泵和分子泵,重復(fù)腔體抽真空過程。極大的浪費(fèi)時(shí)間。
某些情況下,兩個(gè)Tel Vigus腔體共用一個(gè)尾排管路。因?yàn)槲才艍毫Φ膱?bào)警會(huì)導(dǎo)致兩臺(tái)干泵報(bào)警,所以一個(gè)腔體在維護(hù)后的抽真空步驟前,需要停止整機(jī)作業(yè),把共用尾排管路的另一個(gè)腔體的真空泵處有閑置狀態(tài),防止作業(yè)過程中的報(bào)警影響工藝,導(dǎo)致制品報(bào)廢。極大的浪費(fèi)產(chǎn)能。
實(shí)用新型內(nèi)容
本實(shí)用新型所要解決的技術(shù)問題是針對(duì)現(xiàn)有技術(shù)的缺陷,提供一種能控制真空壓力緩沖的限流真空中心圈。
本實(shí)用新型為解決上述技術(shù)問題采用以下技術(shù)方案:
一種限流真空中心圈,包括外圈、O型環(huán)、與所述O型環(huán)適配的圓環(huán)片狀內(nèi)圈、與所述O型環(huán)通過兩端支持桿連接且位于所述內(nèi)圈同一水平面的中間轉(zhuǎn)動(dòng)閥片、位于所述中間轉(zhuǎn)動(dòng)閥片上方的半圓弧形帶氣流縫的氣流限流片和與所述氣流限流片上表面設(shè)置的桿尾指向圓心的限位桿;所述轉(zhuǎn)動(dòng)閥片為半徑與所述內(nèi)圈內(nèi)徑一致的左半圓片和半徑小于所述內(nèi)圈內(nèi)徑而大于所述氣流限流片內(nèi)圓弧半徑且重量重于所述左半圓片的右半圓片一體成型而成;所述右半圓片與所述氣流限流片處于內(nèi)圈相同半圓側(cè)。
為了進(jìn)一步優(yōu)化上述技術(shù)方案,本實(shí)用新型所采取的技術(shù)措施為:
優(yōu)選的,所述內(nèi)圈對(duì)稱兩側(cè)設(shè)比所述支持桿桿體稍大的凹槽;
優(yōu)選的,所述轉(zhuǎn)動(dòng)閥片的左半圓片和右半圓片的相交直徑線與氣流限流片的半圓直徑線位于同一垂直線;
優(yōu)選的,所述轉(zhuǎn)動(dòng)閥片的右半圓片厚度比左半圓片厚;
優(yōu)選的,所述轉(zhuǎn)動(dòng)閥片的右半圓片底部設(shè)半圓形加厚片;
優(yōu)選的,所述氣流縫方向?yàn)橹赶蛩鰞?nèi)圈圓心處方向;
優(yōu)選的,所述氣流縫延伸到所述氣流限流片的內(nèi)圓弧側(cè);
優(yōu)選的,所述氣流限流片上設(shè)凹孔,所述凹孔為盲孔或通孔;
優(yōu)選的,所述限位桿底面設(shè)與所述凹孔適配的突起部;
優(yōu)選的,所述氣流限流片與所述限位桿螺紋連接。
本實(shí)用新型采用以上技術(shù)方案,與現(xiàn)有技術(shù)相比,具有如下技術(shù)效果:
在TEL Vigus機(jī)臺(tái)的真空管路里用一個(gè)限流真空中心圈代替原來的中心圈,使大氣到真空的抽真空過程中氣流能夠平緩的通過干泵,不會(huì)引起尾排氣體壓力的報(bào)警同時(shí)不影響整機(jī)產(chǎn)能;同時(shí)該限流真空中心圈可以根據(jù)的腔體壓力的大小自動(dòng)調(diào)節(jié)限流的大小,在低壓力下對(duì)機(jī)臺(tái)的性能表現(xiàn)沒有任何影響。按照目前腔體每月PM一次計(jì)算,此設(shè)計(jì)可減少整機(jī)停機(jī)時(shí)間,提升uptime 0.1%,增加FAB產(chǎn)能。
附圖說明
圖1為本實(shí)用新型的一種優(yōu)選實(shí)施例的限流真空中心圈的結(jié)構(gòu)示意圖;
圖2為本實(shí)用新型的一種優(yōu)選實(shí)施例的限流真空中心圈的剖視圖;
圖3為本實(shí)用新型的一種優(yōu)選實(shí)施例的轉(zhuǎn)動(dòng)閥片和氣流限流片的結(jié)構(gòu)示意圖;
圖4為本實(shí)用新型的一種優(yōu)選實(shí)施例的限位桿的結(jié)構(gòu)示意圖;
圖5為本實(shí)用新型的一種優(yōu)選實(shí)施例的內(nèi)圈的結(jié)構(gòu)示意圖;
其中的附圖標(biāo)記為:
1外圈;2O型環(huán);3內(nèi)圈;4轉(zhuǎn)動(dòng)閥片;5氣流限流片;31凹槽;41支持桿;42左半圓片;43右半圓片;51限位桿;52凹孔;53突起部。
具體實(shí)施方式
下面結(jié)合附圖對(duì)本實(shí)用新型的技術(shù)方案做進(jìn)一步的詳細(xì)說明。
實(shí)施例一
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H01L 半導(dǎo)體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L21-00 專門適用于制造或處理半導(dǎo)體或固體器件或其部件的方法或設(shè)備
H01L21-02 .半導(dǎo)體器件或其部件的制造或處理
H01L21-64 .非專門適用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各組的單個(gè)器件所使用的除半導(dǎo)體器件之外的固體器件或其部件的制造或處理
H01L21-66 .在制造或處理過程中的測(cè)試或測(cè)量
H01L21-67 .專門適用于在制造或處理過程中處理半導(dǎo)體或電固體器件的裝置;專門適合于在半導(dǎo)體或電固體器件或部件的制造或處理過程中處理晶片的裝置
H01L21-70 .由在一共用基片內(nèi)或其上形成的多個(gè)固態(tài)組件或集成電路組成的器件或其部件的制造或處理;集成電路器件或其特殊部件的制造





