[實用新型]一種限流真空中心圈

有效

• 申請號: 201720907425.X
• 申請日: 2017-07-25
• 公開（公告）號: CN207134331U
• 公開（公告）日: 2018-03-23
• 發明（設計）人: 袁鵬華;李炯;劉東升;朱駿;張旭升
• 申請（專利權）人: 上海華力微電子有限公司
• 主分類號: H01L21/67
• 分類號: H01L21/67
• 代理公司: 上海申新律師事務所31272
• 代理人: 俞滌炯

1.一種限流真空中心圈，其特征在于：包括外圈(1)、O型環(2)、與所述O型環(2)適配的圓環片狀內圈(3)、與所述O型環(2)通過兩端支持桿(41)連接且位于所述內圈(3)同一水平面的中間轉動閥片(4)、位于所述中間轉動閥片(4)上方的半圓弧形帶氣流縫的氣流限流片(5)和與所述氣流限流片(5)上表面設置的桿尾指向圓心的限位桿(51)；所述轉動閥片(4)為半徑與所述內圈(3)內徑一致的左半圓片(42)和半徑小于所述內圈(3)內徑而大于所述氣流限流片(5)內圓弧半徑且重量重于所述左半圓片(42)的右半圓片(43)一體成型而成；所述右半圓片(43)與所述氣流限流片(5)處于內圈(3)相同半圓側。

2.根據權利要求1所述的限流真空中心圈，其特征在于：所述內圈(3)對稱兩側設比所述支持桿桿體稍大的凹槽(31)。

3.根據權利要求1所述的限流真空中心圈，其特征在于：所述轉動閥片(4)的左半圓片(42)和右半圓片(43)的相交直徑線與氣流限流片(5)的半圓直徑線位于同一垂直線。

4.根據權利要求1所述的限流真空中心圈，其特征在于：所述轉動閥片(4)的右半圓片(43)厚度比左半圓片(42)厚。

5.根據權利要求1所述的限流真空中心圈，其特征在于：所述轉動閥片(4)的右半圓片(43)底部設半圓形加厚片。

6.根據權利要求1所述的限流真空中心圈，其特征在于：所述氣流縫方向為指向所述內圈(3)圓心處方向。

7.根據權利要求6所述的限流真空中心圈，其特征在于：所述氣流縫延伸到所述氣流限流片(5)的內圓弧側。

8.根據權利要求1所述的限流真空中心圈，其特征在于：所述氣流限流片(5)上設凹孔(52)，所述凹孔(52)為盲孔或通孔。

9.根據權利要求8所述的限流真空中心圈，其特征在于：所述限位桿(51)底面設與所述凹孔適配的突起部(53)。

10.根據權利要求1所述的限流真空中心圈，其特征在于：所述氣流限流片(5)與所述限位桿(51)螺紋連接。