[實用新型]一種干法刻蝕設備的粗抽管道結構有效
| 申請號: | 201720906971.1 | 申請日: | 2017-07-25 |
| 公開(公告)號: | CN207134330U | 公開(公告)日: | 2018-03-23 |
| 發明(設計)人: | 闞杰;沈吉;劉東升;朱駿;張旭升;張曉騰 | 申請(專利權)人: | 上海華力微電子有限公司 |
| 主分類號: | H01L21/67 | 分類號: | H01L21/67 |
| 代理公司: | 上海申新律師事務所31272 | 代理人: | 俞滌炯 |
| 地址: | 201203 上海市浦*** | 國省代碼: | 上海;31 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 刻蝕 設備 管道 結構 | ||
技術領域
本實用新型涉及集成電路制造設備技術領域,尤其涉及一種干法刻蝕設備的粗抽管道結構。
背景技術
在目前的半導休器件的制造過程中薄膜刻蝕有干法刻蝕和濕法刻蝕兩種,對于一般的a-Si、SiNx、SiOx,以及一些金屬膜的刻蝕多采用干法刻蝕。干法刻蝕設備包括反應室、電源、真空部分,工件送入被真空泵抽空的反應室。工藝氣體被導入反應室并在工件表面發生反應,反應的揮發性副產物被真空泵抽走。
在一些工廠內,為了節約空間和設備投入成本,將兩個刻蝕設備的反應室連通一個排氣管道將尾氣排到處理裝置,其中排氣管道與兩個反應室之間分別連接有粗抽管道,粗抽管道的尾端設置有干泵,用于對反應室初步抽真空,刻蝕設備的真空泵的出氣口與干泵的出氣口與排氣管道連通,當對其中一個設備的反應室進行預防性維護時需要使用粗抽管道上的干泵抽空反應室里的氣體,會導致兩個刻蝕設備的干泵尾端壓過大同時超出報警值,導致兩個干泵報警,進一步導致兩個真空泵減速,使得相關聯的反應室無法正常工作,因此在對一個反應室維護時,必須關閉相關聯的反應室,機臺利用率低。
發明內容
根據現有技術中存在的上述問題,現提供一種干法刻蝕設備的粗抽管道結構,包括:
反應室;
第一真空泵,與所述反應室連通;
第二真空泵,與所述反應室連通;
粗抽管道,兩端分別連通所述反應室和所述第二真空泵,所述第二真空泵通過所述粗抽管道與所述反應室連通;
調壓閥,設置于所述粗抽管道的中部。
較佳的,上述粗抽管道結構中,所述調壓閥為手動調壓閥。
較佳的,上述粗抽管道結構中,還包括一排氣管道,連通所述第一真空泵的出氣口和所述第二真空泵的出氣口。
較佳的,上述粗抽管道結構中,每兩個所述反應室共用一個所述排氣管道。
較佳的,上述粗抽管道結構中,所述第一真空泵為分子泵。
較佳的,上述粗抽管道結構中,所述第二真空泵為干泵。
一種干法刻蝕設備,其中,包括上述任一所述的粗抽管道結構。
上述技術方案的有益效果是:通過在粗抽管道上設置一調壓閥,調節干泵尾端的壓力,避免出現兩個相關聯的干泵同時報警導致分子泵減速的情況,使得在維護一個反應室時,不影響相關聯的反應室的正常工作,提高機臺的利用率,降低生產成本。
附圖說明
圖1是本實用新型的較佳的實施例中,一種干法刻蝕設備的粗抽管道結構的結構示意圖。
具體實施方式
下面結合附圖和具體實施例對本實用新型作進一步說明,但不作為本實用新型的限定。
本實用新型的較佳的實施例中,如圖1所示,一種干法刻蝕設備粗抽管道結構,包括:
反應室1;
第一真空泵2,與反應室1連通,用于對反應室1進行抽真空;
第二真空泵3,與反應室1連通,用于對反應室1進行抽真空;
粗抽管道4,兩端分別連通反應室1和第二真空泵3,即第二真空泵3通過粗抽管道4與反應室1連通;
調壓閥5,設置于粗抽管道4的中部,用于調節第二真空泵3的尾端的壓力,優選的,高壓閥5為一手動調壓閥。
本實用新型的較佳的實施例中,還包括一排氣管道,第一真空泵2的出氣口和第二真空泵3的出氣口均與上述排氣管道連通,并且每兩個反應室1共用一個上述排氣管道,通過兩個反應室共用一個排氣管道,有利于簡化設備管道的設置,進一步有利于節約空間和設備投入成本。
本實用新型的較佳的實施例中,第二真空泵3為干泵,用于對反應室1進行初步的抽真空;第一真空泵2為渦輪分子泵,在第二真空泵3對反應室1進行初步的抽真空后,由第一真空泵2對反應室1作進一步抽真空處理,使得反應室1內的真空環境滿足工作需求。
本實施例中,第二真空泵3還用于在對反應室1進行維護時對反應室1進行抽真空處理,由于兩個反應室共用一個排氣管道,對其中一個反應室進行維護時直接抽真空會造成兩個干泵尾端壓力同時超過報警值,導致干泵報警,分子泵減速,使相關聯的反應室無法正常工作,因此本實施例中,在粗抽管道4上設置有手動調壓閥5,用于在對反應室維護過程中抽真空時,調節干泵尾端的壓力,避免出現兩個相關聯的干泵同時報警導致分子泵減速的情況,使得在維護一個反應室時,不影響相關聯的反應室的正常工作,提高機臺的利用率,降低生產成本。
本實用新型的技術方案中,還包括一種干法刻蝕設備,該干法刻蝕設備使用上述的粗抽管道結構。
以上所述僅為本實用新型較佳的實施例,并非因此限制本實用新型的實施方式及保護范圍,對于本領域技術人員而言,應當能夠意識到凡運用本實用新型說明書及圖示內容所作出的等同替換和顯而易見的變化所得到的方案,均應當包含在本實用新型的保護范圍內。
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H01L21-67 .專門適用于在制造或處理過程中處理半導體或電固體器件的裝置;專門適合于在半導體或電固體器件或部件的制造或處理過程中處理晶片的裝置
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