[實(shí)用新型]硅片清洗系統(tǒng)

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201720890081.6
• 申請(qǐng)日: 2017-07-20
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN207170343U
• 公開(kāi)（公告）日: 2018-04-03
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 劉成中
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 阜寧協(xié)鑫光伏科技有限公司
• 主分類號(hào): B08B3/02
• 分類號(hào): B08B3/02;B08B3/08;B08B3/10;B08B3/14;B08B13/00
• 代理公司: 廣州華進(jìn)聯(lián)合專利商標(biāo)代理有限公司44224
• 代理人: 唐清凱

1.一種硅片清洗系統(tǒng)，包括慢提拉槽和設(shè)置在慢提拉槽之前的清水槽，所述慢提拉槽配備有在線加水裝置，其特征在于，所述清水槽還配備有在線噴淋裝置，所述在線噴淋裝置包括：儲(chǔ)水池、水泵、噴淋組件、設(shè)置在所述清水槽內(nèi)的感測(cè)器，其中所述儲(chǔ)水池與慢提拉槽通過(guò)溢流管道連通，儲(chǔ)水池與水泵連通，噴淋組件與水泵連通，所述感測(cè)器與交流接觸器電連接，所述交流接觸器與水泵的電控器電連接，所述感測(cè)器檢測(cè)到所述清水槽內(nèi)有硅片后使所述交流接觸器的磁芯和觸點(diǎn)吸合以使水泵啟動(dòng)。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的硅片清洗系統(tǒng)，其特征在于，所述儲(chǔ)水池內(nèi)設(shè)有液位傳感器，所述液位傳感器與交流接觸器及水泵的電控器電連接，所述液位傳感器檢測(cè)到儲(chǔ)水池內(nèi)低于預(yù)定水位時(shí)斷開(kāi)對(duì)所述水泵的供電。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的硅片清洗系統(tǒng)，其特征在于，所述儲(chǔ)水池還配置有排污管道。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的硅片清洗系統(tǒng)，其特征在于，所述噴淋組件包括多個(gè)噴淋管，所述噴淋管的出水口位于清水槽的上方且高于水面。

5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的硅片清洗系統(tǒng)，其特征在于，所述噴淋管的出水口處設(shè)置有過(guò)濾結(jié)構(gòu)。

6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的硅片清洗系統(tǒng)，其特征在于，所述感測(cè)器為激光距離傳感器、超聲波距離傳感器或接近開(kāi)關(guān)。

7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的硅片清洗系統(tǒng)，其特征在于，還包括機(jī)臺(tái)，所述慢提拉槽、清水槽及儲(chǔ)水池均設(shè)置機(jī)臺(tái)上。

8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的硅片清洗系統(tǒng)，其特征在于，所述在線加水裝置和在線噴淋裝置均設(shè)置在所述機(jī)臺(tái)上。