[實(shí)用新型]一種反應(yīng)倉(cāng)密封的真空鍍膜機(jī)

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201720774416.8
• 申請(qǐng)日: 2017-06-29
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN207002838U
• 公開(kāi)（公告）日: 2018-02-13
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 劉世文;熊翊世
• 申請(qǐng)（專(zhuān)利權(quán)）人: 深圳市森美協(xié)爾科技有限公司
• 主分類(lèi)號(hào): C23C16/06
• 分類(lèi)號(hào): C23C16/06;C23C16/44
• 代理公司: 暫無(wú)信息
• 代理人: 暫無(wú)信息

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及真空鍍膜機(jī)技術(shù)領(lǐng)域，具體涉及一種反應(yīng)倉(cāng)密封的真空鍍膜機(jī)。

背景技術(shù)

真空鍍膜是指在小于10^-3Pa的氣壓、600℃以上的溫度條件下，在真空反應(yīng)倉(cāng)內(nèi)，將復(fù)合金屬原子經(jīng)高溫?zé)峤夥磻?yīng)從加熱源的材料中置換出來(lái)，打到被鍍物體的表面上從而在待鍍的物體表面形成金屬薄膜。

現(xiàn)有的反應(yīng)倉(cāng)密封裝置往往僅使用橡膠密封圈進(jìn)行一次密封，密封性差，且密封圈受高溫易變型，使得倉(cāng)內(nèi)氣體容易發(fā)生外泄，需要花費(fèi)較長(zhǎng)時(shí)間抽真空，而且，倉(cāng)內(nèi)氣體外泄對(duì)人員和環(huán)境造成傷害和污染。由于密封性差，使得鍍膜時(shí)間過(guò)長(zhǎng)，鍍膜后的表面不光滑，影響產(chǎn)品質(zhì)量。

發(fā)明內(nèi)容

本申請(qǐng)?zhí)峁┮环N反應(yīng)倉(cāng)密封的真空鍍膜機(jī)，使得真空鍍膜機(jī)的反應(yīng)倉(cāng)密封效果好，防止工作氣體外泄，保證反應(yīng)倉(cāng)內(nèi)的真空度。

本申請(qǐng)?zhí)峁┮环N反應(yīng)倉(cāng)密封的真空鍍膜機(jī),該裝置包括：倉(cāng)體1、上蓋11，上蓋11蓋于倉(cāng)體1的倉(cāng)口之上，該裝置還包括：在倉(cāng)體1的倉(cāng)口，反應(yīng)倉(cāng)內(nèi)壁8與反應(yīng)倉(cāng)外壁12之間設(shè)置有第一T形凹槽和第二T形凹槽，所述第一T型凹槽內(nèi)設(shè)置有T型銅質(zhì)密封圈3，所述第二T型凹槽內(nèi)設(shè)置有橡膠密封圈2，緊貼反應(yīng)倉(cāng)外壁12內(nèi)側(cè)還設(shè)置有高溫加熱器5，所述高溫加熱器5對(duì)倉(cāng)體1進(jìn)行加熱時(shí)，所述T型銅質(zhì)密封圈3受熱膨脹體積變大，與所述第一T形凹槽和上蓋11嚴(yán)密的貼合。

在一些實(shí)施例，倉(cāng)體1底部還設(shè)置有用于調(diào)節(jié)倉(cāng)內(nèi)真空度的真空截流閥4。

在一些實(shí)施例，反應(yīng)倉(cāng)外壁12還設(shè)置有至少一個(gè)觀察窗10。

在一些實(shí)施例，倉(cāng)體1還設(shè)置有用于輸入保護(hù)氣體的第一通道7和用于催化劑混合氣體的第二通道9。

在一些實(shí)施例，第一通道7輸入的所述保護(hù)氣體為惰性氣體。

依據(jù)上述實(shí)施例，本申請(qǐng)?zhí)峁┑囊环N反應(yīng)倉(cāng)密封的真空鍍膜機(jī)由于在反應(yīng)倉(cāng)的倉(cāng)口的第一T形凹槽內(nèi)設(shè)置T型銅質(zhì)密封圈，巧妙利用真空鍍膜機(jī)使用過(guò)程中需對(duì)倉(cāng)體進(jìn)行的高溫加熱的原理，在對(duì)倉(cāng)體加熱的同時(shí)也對(duì)T型銅質(zhì)密封圈進(jìn)行加熱，加熱后的T型銅質(zhì)密封圈受熱膨脹體積變大，與第一T形凹槽和上蓋嚴(yán)密的貼合，實(shí)現(xiàn)對(duì)倉(cāng)體的一重密封，再在第二T形凹槽內(nèi)設(shè)置常規(guī)的橡膠密封圈，實(shí)現(xiàn)對(duì)倉(cāng)體的雙重密封，可有效防止工作氣體外泄，保證反應(yīng)倉(cāng)內(nèi)的真空度。

附圖說(shuō)明

圖1為本申請(qǐng)?zhí)峁┮环N反應(yīng)倉(cāng)密封的真空鍍膜機(jī)結(jié)構(gòu)圖俯視圖；

圖2為本申請(qǐng)?zhí)峁┮环N反應(yīng)倉(cāng)密封的真空鍍膜機(jī)結(jié)構(gòu)圖側(cè)視圖；

附圖標(biāo)記：1、倉(cāng)體，2、橡膠密封圈，3、T型銅質(zhì)密封圈，4、真空節(jié)流閥，5、高溫加熱器，7、第一通道，8、反應(yīng)倉(cāng)內(nèi)壁，9、第二通道，11、上蓋，12、反應(yīng)倉(cāng)外壁。

具體實(shí)施方式

下面通過(guò)具體實(shí)施方式結(jié)合附圖對(duì)本發(fā)明作進(jìn)一步詳細(xì)說(shuō)明。其中不同實(shí)施方式中類(lèi)似元件采用了相關(guān)聯(lián)的類(lèi)似的元件標(biāo)號(hào)。在以下的實(shí)施方式中，很多細(xì)節(jié)描述是為了使得本申請(qǐng)能被更好的理解。然而，本領(lǐng)域技術(shù)人員可以毫不費(fèi)力的認(rèn)識(shí)到，其中部分特征在不同情況下是可以省略的，或者可以由其他元件、材料、方法所替代。在某些情況下，本申請(qǐng)相關(guān)的一些操作并沒(méi)有在說(shuō)明書(shū)中顯示或者描述，這是為了避免本申請(qǐng)的核心部分被過(guò)多的描述所淹沒(méi)，而對(duì)于本領(lǐng)域技術(shù)人員而言，詳細(xì)描述這些相關(guān)操作并不是必要的，他們根據(jù)說(shuō)明書(shū)中的描述以及本領(lǐng)域的一般技術(shù)知識(shí)即可完整了解相關(guān)操作。

實(shí)施例一：

參考圖1和圖2，本申請(qǐng)?zhí)峁┮环N反應(yīng)倉(cāng)密封的真空鍍膜機(jī)，包括：倉(cāng)體1、上蓋11，上蓋11蓋于倉(cāng)體1的倉(cāng)口之上，還包括：在倉(cāng)體1的倉(cāng)口，反應(yīng)倉(cāng)內(nèi)壁8與反應(yīng)倉(cāng)外壁12之間設(shè)置有第一T形凹槽和第二T形凹槽，第一T型凹槽內(nèi)設(shè)置有T型銅質(zhì)密封圈3，第二T型凹槽內(nèi)設(shè)置有橡膠密封圈2，緊貼反應(yīng)倉(cāng)外壁12內(nèi)側(cè)還設(shè)置有高溫加熱器5，高溫加熱器5對(duì)倉(cāng)體1進(jìn)行加熱時(shí)，T型銅質(zhì)密封圈3受熱膨脹體積變大，與第一T形凹槽和上蓋11嚴(yán)密的貼合。

在一些實(shí)施例，倉(cāng)體1底部還設(shè)置有用于調(diào)節(jié)倉(cāng)內(nèi)真空度的真空截流閥4。

在一些實(shí)施例，反應(yīng)倉(cāng)外壁12還設(shè)置有至少一個(gè)觀察窗10。

在一些實(shí)施例，倉(cāng)體1還設(shè)置有用于輸入保護(hù)氣體的第一通道7和用于催化劑混合氣體的第二通道9。

在一些實(shí)施例，第一通道7輸入的保護(hù)氣體為惰性氣體。

該反應(yīng)倉(cāng)密封的真空鍍膜機(jī)的工作原理為：