[實用新型]一種反應(yīng)倉密封的真空鍍膜機

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201720774416.8
• 申請日: 2017-06-29
• 公開（公告）號: CN207002838U
• 公開（公告）日: 2018-02-13
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 劉世文;熊翊世
• 申請（專利權(quán)）人: 深圳市森美協(xié)爾科技有限公司
• 主分類號: C23C16/06
• 分類號: C23C16/06;C23C16/44
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

1.一種反應(yīng)倉密封的真空鍍膜機，包括倉體(1)和上蓋(11)，上蓋(11)蓋于倉體(1)的倉口之上，其特征在于還包括：在倉體(1)的倉口，反應(yīng)倉內(nèi)壁(8)與反應(yīng)倉外壁(12)之間設(shè)置有第一T形凹槽和第二T形凹槽，所述第一T形凹槽內(nèi)設(shè)置有T型銅質(zhì)密封圈(3)，所述第二T形凹槽內(nèi)設(shè)置有橡膠密封圈(2)，緊貼反應(yīng)倉外壁(12)內(nèi)側(cè)還設(shè)置有高溫加熱器(5)，所述高溫加熱器(5)對倉體(1)進行加熱時，所述T形銅質(zhì)密封圈(3)受熱膨脹體積變大，與所述第一T形凹槽和上蓋(11)嚴(yán)密的貼合。

2.如權(quán)利要求1所述的真空鍍膜機，倉體(1)底部還設(shè)置有用于調(diào)節(jié)倉內(nèi)真空度的真空截流閥(4)。

3.如權(quán)利要求1所述的真空鍍膜機，反應(yīng)倉外壁(12)還設(shè)置有至少一個觀察窗(10)。

4.如權(quán)利要求1所述的真空鍍膜機，倉體(1)還設(shè)置有用于輸入保護氣體的第一通道(7)和用于催化劑混合氣體的第二通道(9)。

5.如權(quán)利要求4所述的真空鍍膜機，第一通道(7)輸入的所述保護氣體為惰性氣體。