[實用新型]光罩有效
| 申請號： | 201720768783.7 | 申請日： | 2017-06-28 |
| 公開（公告）號： | CN207164461U | 公開（公告）日： | 2018-03-30 |
| 發明（設計）人： | 謝生林;王毅 | 申請（專利權）人： | 揚州揚杰電子科技股份有限公司 |
| 主分類號： | G03F1/38 | 分類號： | G03F1/38 |
| 代理公司： | 揚州市蘇為知識產權代理事務所(普通合伙)32283 | 代理人： | 周全 |
| 地址： | 225008 江蘇*** | 國省代碼： | 江蘇;32 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 光罩 | ||
【權利要求書】：
1.光罩，包括基板和設在基板上的、由光阻層構成的圖案，其特征在于，所述基板上、所述圖案的周圍設有一條閉環的蝕刻槽，所述蝕刻槽內設有圓環型的彈性擋板和彈性密封膜，所述彈性擋板通過若干與蝕刻槽的槽底平行的連接桿連接在蝕刻槽的外側壁上，所述連接桿伸出基板；
所述連接桿上設有若干凹槽，所述基板的側壁上、連接桿伸出的開口處設有卡件；
所述彈性密封膜的內邊固定在彈性擋板的上部，所述彈性密封膜的外邊固定連接在蝕刻槽的外側壁上。
2.根據權利要求1所述的光罩，其特征在于，所述卡件為彎鉤，所述彎鉤的鉤體內側可適配在凹槽中，所述彎鉤的非鉤體端旋轉連接在基板的側壁上。
3.根據權利要求1所述的光罩，其特征在于，所述卡件為對稱設置的兩個可適配在凹槽中的卡扣，所述卡扣滑動連接在基板的側壁上。
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G03 攝影術；電影術；利用了光波以外其他波的類似技術；電記錄術；全息攝影術
G03F 圖紋面的照相制版工藝，例如，印刷工藝、半導體器件的加工工藝；其所用材料；其所用原版；其所用專用設備
G03F1-00 用于圖紋面的照相制版的原版，例如掩膜，光掩膜；其所用空白掩膜或其所用薄膜；其專門適用于此的容器；其制備
G03F1-20 .用于通過帶電粒子束(CPB)輻照成像的掩膜或空白掩膜，例如通過電子束；其制備
G03F1-22 .用于通過100nm或更短波長輻照成像的掩膜或空白掩膜，例如 X射線掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM]；PSM空白；其制備
G03F1-36 .具有臨近校正特征的掩膜；其制備，例如光學臨近校正(OPC)設計工藝
G03F1-38 .具有輔助特征的掩膜，例如用于校準或測試的特殊涂層或標記；其制備
G03F 圖紋面的照相制版工藝，例如，印刷工藝、半導體器件的加工工藝；其所用材料；其所用原版；其所用專用設備
G03F1-00 用于圖紋面的照相制版的原版，例如掩膜，光掩膜；其所用空白掩膜或其所用薄膜；其專門適用于此的容器；其制備
G03F1-20 .用于通過帶電粒子束(CPB)輻照成像的掩膜或空白掩膜，例如通過電子束；其制備
G03F1-22 .用于通過100nm或更短波長輻照成像的掩膜或空白掩膜，例如 X射線掩膜、深紫外
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