[實用新型]一種活性反應(yīng)離子鍍膜機有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201720734127.5 | 申請日: | 2017-06-22 |
| 公開(公告)號: | CN207091506U | 公開(公告)日: | 2018-03-13 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 王昱;黃振興 | 申請(專利權(quán))人: | 蘇州康頓環(huán)保科技有限公司泰州分公司 |
| 主分類號: | C23C14/30 | 分類號: | C23C14/30 |
| 代理公司: | 暫無信息 | 代理人: | 暫無信息 |
| 地址: | 225300 江蘇省泰州市*** | 國省代碼: | 江蘇;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 活性 反應(yīng) 離子 鍍膜 | ||
技術(shù)領(lǐng)域
本實有新型涉及弧光放電設(shè)備技術(shù)領(lǐng)域,具體涉及一種活性反應(yīng)離子鍍膜機。
背景技術(shù)
傳統(tǒng)的真空鍍膜設(shè)備擴散泵加熱是用耗電量比較高的電阻絲通過燒紅烘烤真空鍋爐底部,從而加熱里面的導(dǎo)熱油來使真空泵里面的溫度上升來達(dá)到設(shè)備的工作要求。這種加熱方式使得大部分的熱量散發(fā)到空氣中,導(dǎo)致?lián)p失大量的熱量,使得工作環(huán)境溫度變高。雖然制作成本低廉,但存在著加熱速度慢,容易斷絲,加熱效能低下,能耗大等諸多缺點。還有導(dǎo)線接入?yún)^(qū)域溫度過高會導(dǎo)致觸電區(qū)域極易氧化虛接以及人身觸電的危險。
因此,針對上述問題,本實用新型提出了一種新的技術(shù)方案。
實用新型內(nèi)容
本實用新型的目的是提供一種結(jié)構(gòu)簡單,設(shè)計合理,加熱速度快,效率高的活性反應(yīng)離子鍍膜機。
本實用新型是通過以下技術(shù)方案來實現(xiàn)的:
一種活性反應(yīng)離子鍍膜機,包括真空室、加熱裝置、工件、活化電極、活化電極電源、電子槍、電子槍電源、真空系統(tǒng)、偏壓電源和電子槍,所述工件位于真空室內(nèi),所述工件上端設(shè)有加熱裝置,所述加熱裝置連接位于真空室一側(cè)的偏壓電源,所述工件正下方設(shè)有活化電極,所述活化電極連接活化電極電源,所述活化電極下方設(shè)有電子槍,所述電子槍通過發(fā)出的電子束與安裝在一側(cè)的坩堝相連接,所述活化電極電源和電子槍電源相連接。
進(jìn)一步地,所述坩堝內(nèi)填充有金屬錠。
進(jìn)一步地,所述活化電極、活化電極電源、電子槍、電子槍電源和坩堝相配合。
進(jìn)一步地,所述真空室一側(cè)設(shè)有進(jìn)氣孔,所述真空室另一側(cè)設(shè)有真空系統(tǒng)。
本實有新型的有益效果是:本實用新型提出的鍍膜機結(jié)構(gòu)合理,操作方便,加熱速度快,效率高,降低了熱能的損失,同時,加熱效率好,保證了成膜質(zhì)量。
附圖說明
圖1為本實用新型的結(jié)構(gòu)示意圖。
其中:1、真空室,2、工件,3、加熱裝置,4、偏壓電源,5、活化電極,6、活化電極電源,7、電子槍,8、電子槍電源,9、坩堝,10、真空系統(tǒng),111、進(jìn)氣口。
具體實施方式
下面結(jié)合附圖說明對本實用新型做進(jìn)一步地說明。
如圖1所示,一種活性反應(yīng)離子鍍膜機,包括真空室1、加熱裝置3、工件2、活化電極5、活化電極電源6、電子槍7、電子槍電源8、真空系統(tǒng)10、偏壓電源4和電子槍7,工件2位于真空室1內(nèi),工件2上端設(shè)有加熱裝置3,加熱裝置3連接位于真空室1一側(cè)的偏壓電源4,工件2正下方設(shè)有活化電極5,活化電極5連接活化電極電源6,活化電極5下方設(shè)有電子槍7,電子槍7通過發(fā)出的電子束與安裝在一側(cè)的坩堝9相連接,活化電極電源6和電子槍電源8相連接。
在本技術(shù)方案中,坩堝9內(nèi)填充有金屬錠。
在本技術(shù)方案中,活化電極5、活化電極電源6、電子槍7、電子槍電源8和坩堝9相配合。
在本技術(shù)方案中,真空室1一側(cè)設(shè)有進(jìn)氣孔11,真空室1另一側(cè)設(shè)有真空系統(tǒng)10。
工作原理為:工件經(jīng)清洗入爐后抽真空。當(dāng)真空度達(dá)到6×10-3Pa后,開啟烘烤加熱電源,對工件進(jìn)行加熱。達(dá)到一定溫度后通入氬氣,真空度降至2~3Pa,接通工件偏壓電源,電壓調(diào)至1000V。此時產(chǎn)生輝光放電,獲得氬離子。氬離子在負(fù)偏壓電場的作用下,對工件進(jìn)行轟擊凈化。開啟活化極電源、關(guān)閉氬氣,通入反應(yīng)氣體氮氣,真空度調(diào)至(2~5)×10-2Pa。工作偏壓仍為1000V。最后接通電子槍電源。一般槍電壓10kV,束流0.3~1A。電子束達(dá)到坩堝后,其動能轉(zhuǎn)為熱能將金屬加熱、蒸發(fā),此時工件和活化電極上都產(chǎn)生輝光。隨著電子束電流的增加和活化極電壓的升高,輝光強度增大、活化極電流增大、工件偏流增大。活化極電流可達(dá)15~40A,活化極電壓50~80V。調(diào)整適當(dāng)?shù)膮?shù),可以獲得優(yōu)質(zhì)的氮化鈦等硬質(zhì)涂層。
以上所述僅為本實用新型的實施例,并非因此限制本實用新型的專利范圍,凡是利用本實用新型說明書及附圖內(nèi)容所作的等效結(jié)構(gòu)或等效流程變換,或直接或間接運用在其他相關(guān)的技術(shù)領(lǐng)域,均同理包括在本實用新型的專利保護(hù)范圍內(nèi)。
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C23C 對金屬材料的鍍覆;用金屬材料對材料的鍍覆;表面擴散法,化學(xué)轉(zhuǎn)化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆
C23C14-00 通過覆層形成材料的真空蒸發(fā)、濺射或離子注入進(jìn)行鍍覆
C23C14-02 .待鍍材料的預(yù)處理
C23C14-04 .局部表面上的鍍覆,例如使用掩蔽物
C23C14-06 .以鍍層材料為特征的
C23C14-22 .以鍍覆工藝為特征的
C23C14-58 .后處理





