[實用新型]利用MOCVD尾氣制氫的裝置有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201720732974.8 | 申請日： | 2017-06-22 |
| 公開（公告）號： | CN207227005U | 公開（公告）日： | 2018-04-13 |
| 發(fā)明（設計）人： | 劉祥林;羅湘桂;鮑堅仁;吳福水 | 申請（專利權）人： | 湖南高安新材料有限公司 |
| 主分類號： | C01B3/56 | 分類號： | C01B3/56 |
| 代理公司： | 北京正理專利代理有限公司11257 | 代理人： | 趙曉丹 |
| 地址： | 414009 湖南省*** | 國省代碼： | 湖南;43 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 利用 mocvd 尾氣 裝置 | ||
【權利要求書】：
1.利用MOCVD尾氣制氫的裝置，其特征在于，所述裝置包含：氣體壓縮機、第一變溫吸附凈化設備、第一變壓吸附提氫器和氣體二次純化裝置；
其中，所述氣體壓縮機、第一變溫吸附凈化設備、第一變壓吸附提氫器和氣體二次純化裝置依次連接。
2.根據權利要求1所述的裝置，其特征在于，所述氣體二次純化裝置由第二變溫吸附凈化設備和/或第二變壓吸附提氫器組成；
其中，當所述氣體二次純化裝置由第二變溫吸附凈化設備和第二變壓吸附提氫器組成時，所述第一變壓吸附提氫器、第二變溫吸附凈化設備和第二變壓吸附提氫器依次連接；或，所述第一變壓吸附提氫器、第二變壓吸附提氫器和第二變溫吸附凈化設備依次連接。
3.根據權利要求2所述的裝置，其特征在于，所述裝置還包含：靶觸媒催化反應裝置，所述靶觸媒催化反應裝置設于第二變溫吸附凈化設備內。
4.根據權利要求1所述的裝置，其特征在于，所述第一變壓吸附提氫器上設有解析氣出口，第一變溫吸附凈化設備上設有再生進氣口；所述第一變壓吸附提氫器的解析氣出口與第一變溫吸附凈化設備的再生進氣口連接。
5.根據權利要求2所述的裝置，其特征在于，所述第二變壓吸附提氫器上設有解析氣出口；第二變壓吸附提氫器的解析氣出口與氣體壓縮機的進氣口連接。
6.根據權利要求1所述的裝置，其特征在于，所述氣體壓縮機的壓力范圍為8～50bar。
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