[實用新型]一種電子元件生產(chǎn)的離子注入裝置

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201720725315.1
• 申請日: 2017-06-21
• 公開（公告）號: CN206961791U
• 公開（公告）日: 2018-02-02
• 發(fā)明（設計）人: 徐月苗
• 申請（專利權）人: 諸暨越博企業(yè)管理咨詢有限公司
• 主分類號: H01J37/317
• 分類號: H01J37/317;H01J37/14;H01J37/20;H01J37/09
• 代理公司: 濮陽華凱知識產(chǎn)權代理事務所(普通合伙)41136
• 代理人: 王傳明

1.一種電子元件生產(chǎn)的離子注入裝置，其特征在于：包括離子源(1)，所述離子源(1)上端安裝有離子噴槍(2)，所述離子源(1)上端連接有離子通道(3)，所述離子通道(3)上設置有離子過濾孔隙(4)，所述離子過濾孔隙(4)右端設置有聚焦器(5)，所述聚焦器(5)右端設置有磁鏡(6)，所述磁鏡(6)右端連接有離子加速器(7)，所述離子加速器(7)內(nèi)設置有晶片夾具(8)；

所述晶片夾具(8)包括基板(9)，所述基板(9)內(nèi)設置有晶片插槽(10)，所述基板(9)內(nèi)設置有若干個遮擋凹槽(11)，所述遮擋凹槽(11)內(nèi)插入遮擋板(12)，所述遮擋板(12)與遮擋凹槽(11)可拆卸連接。

2.根據(jù)權利要求1所述的一種電子元件生產(chǎn)的離子注入裝置，其特征在于：所述聚焦器(5)右端設置有兩個靜電偏轉器(13)，所述靜電偏轉器(13)相互平行設置。

3.根據(jù)權利要求1所述的一種電子元件生產(chǎn)的離子注入裝置，其特征在于：所述離子通道(3)內(nèi)設置有折射段(14)，所述折射段(14)為圓弧形結構。

4.根據(jù)權利要求1所述的一種電子元件生產(chǎn)的離子注入裝置，其特征在于：所述聚焦器(5)內(nèi)部設置有四個聚焦磁鐵(15)。

5.根據(jù)權利要求1所述的一種電子元件生產(chǎn)的離子注入裝置，其特征在于：所述晶片插槽(10)內(nèi)部設置有硅膠墊片(16)，所述硅膠墊片(16)上設置有防滑紋路(17)。

6.根據(jù)權利要求1所述的一種電子元件生產(chǎn)的離子注入裝置，其特征在于：所述基板(9)下端設置有旋轉軸(18)。