[實(shí)用新型]一種密封蓋結(jié)構(gòu)及濕法刻蝕設(shè)備

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201720698267.1
• 申請日: 2017-06-15
• 公開（公告）號: CN207165525U
• 公開（公告）日: 2018-03-30
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 吳智翔;張弢;劉鵬
• 申請（專利權(quán)）人: 上海華力微電子有限公司
• 主分類號: H01L21/67
• 分類號: H01L21/67
• 代理公司: 上海申新律師事務(wù)所31272
• 代理人: 俞滌炯

1.一種密封蓋結(jié)構(gòu)，適用于蓋合濕法刻蝕設(shè)備的處理槽，所述處理槽具有向上的開口，其特征在于，所述密封蓋結(jié)構(gòu)包括：

伸縮單元，設(shè)置于所述開口兩側(cè)，所述伸縮單元設(shè)置有一處于伸出狀態(tài)的第一位置及一處于縮回狀態(tài)的第二位置；

密封蓋本體，連接于所述伸縮單元上，并于所述伸縮單元處于第二位置時(shí)封蓋所述開口，以及于所述伸縮單元處于所述第一位置時(shí)使所述開口打開；

驅(qū)動裝置，連接所述伸縮單元用以驅(qū)動所述伸縮單元伸出以及縮回。

2.如權(quán)利要求1所述的密封蓋結(jié)構(gòu)，其特征在于，所述驅(qū)動裝置為氣缸及油缸中的一種。

3.如權(quán)利要求2所述的密封蓋結(jié)構(gòu)，其特征在于，所述伸縮單元為活塞桿。

4.如權(quán)利要求1所述的密封蓋結(jié)構(gòu)，其特征在于，所述驅(qū)動裝置設(shè)置有一對，一對所述驅(qū)動裝置設(shè)置于所述開口兩側(cè)。

5.如權(quán)利要求1所述的密封蓋結(jié)構(gòu)，其特征在于，還包括軌道，所述軌道設(shè)置于所述開口的至少一側(cè)，所述密封蓋本體的至少一側(cè)邊緣可滑動的嵌設(shè)于所述軌道內(nèi)。

6.一種濕法刻蝕設(shè)備，其特征在于，包括如權(quán)利要求1-5中任一所述的密封蓋結(jié)構(gòu)。