[實用新型]銅濃度管理系統有效
| 申請號： | 201720671153.8 | 申請日： | 2017-06-09 |
| 公開（公告）號： | CN207331070U | 公開（公告）日： | 2018-05-08 |
| 發明（設計）人： | 陳國銘 | 申請（專利權）人： | 巨鈦科技股份有限公司 |
| 主分類號： | C23F1/46 | 分類號： | C23F1/46;C25C1/12;C25C7/06 |
| 代理公司： | 北京北翔知識產權代理有限公司 11285 | 代理人： | 鄭建暉;潘飛 |
| 地址： | 中國臺*** | 國省代碼： | 暫無信息 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 濃度 管理 系統 | ||
【權利要求書】：
1.一種銅濃度管理系統，其特征在于，所述銅濃度管理系統包括：
一銅源單元，其用以容置含有銅離子的溶液；
一銅量測單元，其耦接所述銅源單元，用以量測所述溶液的光吸收度，以獲得銅離子濃度；
一控制單元，其耦接所述銅量測單元，且所述控制單元根據所述銅離子濃度產生一控制信號；以及
一提銅單元，其耦接所述控制單元以及所述銅源單元，其中所述提銅單元用以根據所述控制信號進行電解步驟，以調整所述溶液的所述銅離子濃度。
2.根據權利要求1所述的銅濃度管理系統，其特征在于，所述控制單元提供一高銅離子預設濃度以及一低銅離子預設濃度，且所述控制單元將所述銅離子濃度、所述高銅離子預設濃度以及所述低銅離子預設濃度互相比對，以產生所述控制信號。
3.根據權利要求1所述的銅濃度管理系統，其特征在于，所述銅濃度管理系統進一步包括：
一溫控單元，其耦接所述銅源單元以及所述控制單元，用以偵測所述銅源單元的溫度，其中所述控制單元根據所述溫度產生一溫控信號，且所述提銅單元根據所述溫控信號停止所述電解步驟。
4.根據權利要求1所述的銅濃度管理系統，其特征在于，所述銅濃度管理系統進一步包括：
一界面單元，其耦接所述控制單元，用以接受多個外部信號。
5.根據權利要求1所述的銅濃度管理系統，其特征在于，所述控制單元包括可編程邏輯控制器控制元件。
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