[實(shí)用新型]用于平板式PECVD設(shè)備的蓋板開啟機(jī)構(gòu)有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201720652386.3 | 申請日: | 2017-06-07 |
| 公開(公告)號: | CN207062376U | 公開(公告)日: | 2018-03-02 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 傅林堅(jiān);石剛;洪昀;高振波;王偉星;祝廣輝;吳威 | 申請(專利權(quán))人: | 浙江晶盛機(jī)電股份有限公司 |
| 主分類號: | C23C16/54 | 分類號: | C23C16/54 |
| 代理公司: | 杭州中成專利事務(wù)所有限公司33212 | 代理人: | 周世駿 |
| 地址: | 312300 浙江*** | 國省代碼: | 浙江;33 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 用于 平板 pecvd 設(shè)備 蓋板 開啟 機(jī)構(gòu) | ||
1.用于平板式PECVD設(shè)備的蓋板開啟機(jī)構(gòu),包括雙作用液壓缸,以及安裝在提升拉臂安裝座上的提升拉臂;雙作用液壓缸的推桿與提升拉臂、提升板和蓋板依次連接,連接處設(shè)活動(dòng)鉸鏈;其特征在于,提升拉臂的中部通過活動(dòng)鉸鏈與提升拉臂安裝座連接,并以連接處作為提升拉臂的轉(zhuǎn)動(dòng)軸心;當(dāng)提升拉臂分別位于轉(zhuǎn)動(dòng)行程起始位和終止位時(shí),提升拉臂分別與位于提升拉臂安裝座兩側(cè)的接觸位置相接,在該兩個(gè)接觸位置處各設(shè)置一組電氣-機(jī)械限位保護(hù)組件;每組電氣-機(jī)械限位保護(hù)組件均包括一個(gè)電氣限位開關(guān)和至少一個(gè)機(jī)械限位塊,電氣限位開關(guān)通過導(dǎo)線連接至雙作用液壓缸的驅(qū)動(dòng)液壓泵;在提升拉臂轉(zhuǎn)動(dòng)并接近提升拉臂安裝座的過程中,將先觸發(fā)電氣限位開關(guān),再與機(jī)械限位塊接觸。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的蓋板開啟機(jī)構(gòu),其特征在于,所述電氣限位開關(guān)和機(jī)械限位塊安裝方式是下述的任意一種:
(1)電氣限位開關(guān)和一個(gè)機(jī)械限位塊均安裝在提升拉臂上;
(2)電氣限位開關(guān)和一個(gè)機(jī)械限位塊均安裝在提升拉臂安裝座上;
(3)電氣限位開關(guān)和一個(gè)機(jī)械限位塊分別安裝在提升拉臂安裝座和提升拉臂上。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的蓋板開啟機(jī)構(gòu),其特征在于,所述機(jī)械限位塊有兩個(gè),分別設(shè)置在提升拉臂安裝座和提升拉臂上的相對位置。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的蓋板開啟機(jī)構(gòu),其特征在于,所述電氣限位開關(guān)具有觸發(fā)限位塊,觸發(fā)限位塊設(shè)在提升拉臂安裝座和提升拉臂上與電氣限位開關(guān)相對的位置。
5.根據(jù)權(quán)利要求1至4任意一項(xiàng)中所述的蓋板開啟機(jī)構(gòu),其特征在于,當(dāng)提升拉臂分別位于轉(zhuǎn)動(dòng)行程起始位和終止位時(shí),蓋板呈開啟或閉合狀態(tài)。
6.根據(jù)權(quán)利要求1至4任意一項(xiàng)中所述的蓋板開啟機(jī)構(gòu),其特征在于,所述雙作用液壓缸安裝在液壓缸安裝座上且通過鉸鏈連接,雙作用液壓缸能實(shí)現(xiàn)限定幅度內(nèi)的擺動(dòng)。
7.根據(jù)權(quán)利要求1至4任意一項(xiàng)中所述的蓋板開啟機(jī)構(gòu),其特征在于,所述蓋板安裝在蓋板安裝座或轉(zhuǎn)軸上,蓋板的一側(cè)通過活動(dòng)鉸鏈與蓋板安裝座或轉(zhuǎn)軸連接,并以其作為蓋板的轉(zhuǎn)動(dòng)軸心。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于浙江晶盛機(jī)電股份有限公司,未經(jīng)浙江晶盛機(jī)電股份有限公司許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請聯(lián)系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201720652386.3/1.html,轉(zhuǎn)載請聲明來源鉆瓜專利網(wǎng)。
- 同類專利
- 專利分類
C23C 對金屬材料的鍍覆;用金屬材料對材料的鍍覆;表面擴(kuò)散法,化學(xué)轉(zhuǎn)化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆
C23C16-00 通過氣態(tài)化合物分解且表面材料的反應(yīng)產(chǎn)物不留存于鍍層中的化學(xué)鍍覆,例如化學(xué)氣相沉積
C23C16-01 .在臨時(shí)基體上,例如在隨后通過浸蝕除去的基體上
C23C16-02 .待鍍材料的預(yù)處理
C23C16-04 .局部表面上的鍍覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金屬材料的沉積為特征的
C23C16-22 .以沉積金屬材料以外之無機(jī)材料為特征的
- 傳感設(shè)備、檢索設(shè)備和中繼設(shè)備
- 簽名設(shè)備、檢驗(yàn)設(shè)備、驗(yàn)證設(shè)備、加密設(shè)備及解密設(shè)備
- 色彩調(diào)整設(shè)備、顯示設(shè)備、打印設(shè)備、圖像處理設(shè)備
- 驅(qū)動(dòng)設(shè)備、定影設(shè)備和成像設(shè)備
- 發(fā)送設(shè)備、中繼設(shè)備和接收設(shè)備
- 定點(diǎn)設(shè)備、接口設(shè)備和顯示設(shè)備
- 傳輸設(shè)備、DP源設(shè)備、接收設(shè)備以及DP接受設(shè)備
- 設(shè)備綁定方法、設(shè)備、終端設(shè)備以及網(wǎng)絡(luò)側(cè)設(shè)備
- 設(shè)備、主設(shè)備及從設(shè)備
- 設(shè)備向設(shè)備轉(zhuǎn)發(fā)





