[實用新型]光罩盒有效
| 申請號: | 201720650362.4 | 申請日: | 2017-06-06 |
| 公開(公告)號: | CN206819051U | 公開(公告)日: | 2017-12-29 |
| 發明(設計)人: | 邱銘隆;陳延方 | 申請(專利權)人: | 中勤實業股份有限公司 |
| 主分類號: | G03F1/66 | 分類號: | G03F1/66;G06K19/077 |
| 代理公司: | 北京泰吉知識產權代理有限公司11355 | 代理人: | 張雅軍,史瞳 |
| 地址: | 中國臺*** | 國省代碼: | 臺灣;71 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 光罩盒 | ||
技術領域
本實用新型涉及一種容器,特別是涉及一種設有無線識別裝置的金屬制光罩盒。
背景技術
隨著半導體產業的自動化程度日趨提升,現今一般光罩盒多設有無線識別裝置,例如RFID,以識別光罩盒及其內所容置的光罩的信息,并作為自動化制程的控制依據?,F有的光罩盒多是由塑料材質制成,無線識別裝置可以直接設在光罩盒的盒體上。
然而,塑料制的光罩盒具有許多不利半導體制程的特性,例如強度較低容易損壞或產生微粒污染、表面容易吸附水氣或其它雜質等。因此,近年開始有以金屬材質制作的光罩盒出現。但是當光罩盒為金屬材質制成時,又無法將無線識別裝置直接設在金屬盒體上,否則會因為無線識別裝置過于貼近金屬板面,導致無線識別裝置讀取器容易受到來自金屬板面的反射訊號干擾而無法正確讀取無線識別裝置的信息。也因而大大限制了金屬制光罩盒在高度自動化的半導體產業中的應用范圍。間接地,也使得半導體產業為了克服習知塑料制光罩盒的種種缺點,而在無形中增加了許多制造上的成本。
發明內容
本實用新型的其中一目的在于提供一種具有金屬材料高強度、低污染等優點,且又可避免干擾無線識別裝置的判讀的光罩盒。
本實用新型光罩盒在一些實施態樣中,是包含一第一盒體、一第二盒體、一鎖扣機構及一無線識別裝置。該第一盒體與該第二盒體由金屬材質制成,且該第二盒體可沿一第一方向相對該第一盒體開合,并與該第一盒體共同形成一容置空間。該鎖扣機構由絕緣材質制成,包括一設于該第一盒體的第一鎖扣件,及一設于該第二盒體的第二鎖扣件,該第一鎖扣件與該第二鎖扣件可釋鎖地相互鎖扣以將該第一盒體與該第二盒體鎖定于一閉合狀態。該無線識別裝置設于該第一鎖扣 件與該第二鎖扣件其中的一者,并與設有該無線識別裝置的該第一鎖扣件或該第二鎖扣件所設在的該第一盒體或該第二盒體間隔一段距離。
在一些實施態樣中,設有該無線識別裝置的該第一鎖扣件或該第二鎖扣件具有一凸部,該凸部還具有一收容槽,且該無線識別裝置位于該收容槽內。
在一些實施態樣中,該收容槽內具有至少一內間隔壁,以使該無線識別裝置與設有該無線識別裝置的該第一鎖扣件或該第二鎖扣件所設在的該第一盒體或該第二盒體間隔一段距離。
在一些實施態樣中,該第一鎖扣件包括一固定于該第一盒體且沿一與該第一方向相交的第二方向延伸的第一本體,及兩個與該第一本體連接且彼此沿該第二方向相間隔的第一扣接單元,該第二鎖扣件包括一固定于該第二盒體且沿該第二方向延伸的第二本體,及兩個與該第二本體連接且分別與該第一扣接單元相配合而可釋鎖地扣接的第二扣接單元,又,設有該無線識別裝置的該第一鎖扣件或該第二鎖扣件還具有一朝向遠離該容置空間的方向凸伸的凸部,且該無線識別裝置設于該凸部,該凸部位于對應的該第一扣接單元或該第二扣接單元之間且具有至少一內間隔壁,以使該無線識別裝置與設有該無線識別裝置的該第一鎖扣件或該第二鎖扣件所設在的該第一盒體或該第二盒體間隔一段距離。
在一些實施態樣中,該凸部具有一收容槽,且該無線識別裝置位于該收容槽內。
在一些實施態樣中,該凸部還包括一由設有該無線識別裝置的該第一鎖扣件或該第二鎖扣件所設在的該第一本體或該第二本體延伸的頂壁、一由該頂壁彎折延伸并與該內間隔壁相間隔的外側壁,及兩個彼此間隔相對且分別連接于該頂壁和該外側壁的兩端的端側壁,該內間隔壁由該頂壁延伸且介于該外側壁與對應的該第一盒體或該第二盒體之間并與該頂壁、該外側壁及該端側壁共同界定該收容槽。
在一些實施態樣中,該第一鎖扣件還具有兩個與該第一本體連接且彼此沿該第二方向相間隔的軌道部,各該第一扣接單元為一卡塊,所述第一扣接單元分別可滑動地結合于所述軌道部并可沿該第二方 向在一鎖扣位置及一釋鎖位置之間移動。
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G03F 圖紋面的照相制版工藝,例如,印刷工藝、半導體器件的加工工藝;其所用材料;其所用原版;其所用專用設備
G03F1-00 用于圖紋面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其專門適用于此的容器;其制備
G03F1-20 .用于通過帶電粒子束(CPB)輻照成像的掩膜或空白掩膜,例如通過電子束;其制備
G03F1-22 .用于通過100nm或更短波長輻照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射線掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制備
G03F1-36 .具有臨近校正特征的掩膜;其制備,例如光學臨近校正(OPC)設計工藝
G03F1-38 .具有輔助特征的掩膜,例如用于校準或測試的特殊涂層或標記;其制備





