[實用新型]光罩盒有效
| 申請號: | 201720650362.4 | 申請日: | 2017-06-06 |
| 公開(公告)號: | CN206819051U | 公開(公告)日: | 2017-12-29 |
| 發明(設計)人: | 邱銘隆;陳延方 | 申請(專利權)人: | 中勤實業股份有限公司 |
| 主分類號: | G03F1/66 | 分類號: | G03F1/66;G06K19/077 |
| 代理公司: | 北京泰吉知識產權代理有限公司11355 | 代理人: | 張雅軍,史瞳 |
| 地址: | 中國臺*** | 國省代碼: | 臺灣;71 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 光罩盒 | ||
1.一種光罩盒,包含:一由金屬材質制成的第一盒體及一由金屬材質制成的第二盒體,且該第二盒體可沿一第一方向相對該第一盒體開合,并與該第一盒體共同形成一容置空間;其特征在于:該光罩盒還包含:
一鎖扣機構,由絕緣材質制成,包括一設于該第一盒體的第一鎖扣件,及一設于該第二盒體的第二鎖扣件,該第一鎖扣件與該第二鎖扣件可釋鎖地相互鎖扣以將該第一盒體與該第二盒體鎖定于一閉合狀態;及
一無線識別裝置,設于該第一鎖扣件與該第二鎖扣件其中的一者,并與設有該無線識別裝置的該第一鎖扣件或該第二鎖扣件所設在的該第一盒體或該第二盒體間隔一段距離。
2.根據權利要求1所述光罩盒,其特征在于:設有該無線識別裝置的該第一鎖扣件或該第二鎖扣件具有一凸部,該凸部還具有一收容槽,且該無線識別裝置位于該收容槽內。
3.根據權利要求2所述光罩盒,其特征在于:該收容槽內具有至少一內間隔壁,以使該無線識別裝置與設有該無線識別裝置的該第一鎖扣件或該第二鎖扣件所設在的該第一盒體或該第二盒體間隔一段距離。
4.根據權利要求1所述光罩盒,其特征在于:該第一鎖扣件包括一固定于該第一盒體且沿一與該第一方向相交的第二方向延伸的第一本體,及兩個與該第一本體連接且彼此沿該第二方向相間隔的第一扣接單元,該第二鎖扣件包括一固定于該第二盒體且沿該第二方向延伸的第二本體,及兩個與該第二本體連接且分別與該第一扣接單元相配合而可釋鎖地扣接的第二扣接單元,又,設有該無線識別裝置的該第一鎖扣件或該第二鎖扣件還具有一朝向遠離該容置空間的方向凸伸的凸部,且該無線識別裝置設于該凸部,該凸部位于對應的該第一扣接單元或該第二扣接單元之間且具有至少一內間隔壁,以使該無線識別裝置與設有該無線識別裝置的該第一鎖扣件或該第二鎖扣件所設在的該第一盒體或該第二盒體間隔一段距離。
5.根據權利要求4所述光罩盒,其特征在于:該凸部具有一收 容槽,且該無線識別裝置位于該收容槽內。
6.根據權利要求5所述光罩盒,其特征在于:該凸部還包括一由設有該無線識別裝置的該第一鎖扣件或該第二鎖扣件的該第一本體或該第二本體延伸的頂壁、一由該頂壁彎折延伸并與該內間隔壁相間隔的外側壁,及兩個彼此間隔相對且分別連接于該頂壁和該外側壁的兩端的端側壁,該內間隔壁由該頂壁延伸且介于該外側壁與對應的該第一盒體或該第二盒體之間并與該頂壁、該外側壁及該端側壁共同界定該收容槽。
7.根據權利要求4至6其中任一項所述光罩盒,其特征在于:該第一鎖扣件還具有兩個與該第一本體連接且彼此沿該第二方向相間隔的軌道部,各該第一扣接單元為一卡塊,所述第一扣接單元分別可滑動地結合于所述軌道部并可沿該第二方向在一鎖扣位置及一釋鎖位置之間移動。
8.根據權利要求7所述光罩盒,其特征在于:各該第一扣接單元具有一可滑動地結合于對應的該軌道部的操作部,及一由該操作部朝向該容置空間凸伸的擋止部,各該第二扣接單元為一卡勾并具有一可受擠壓而彈性變形地靠向該第二盒體的彈性段,且該彈性段的末端形成一抵靠部;其中,當各該第一扣接單元位于該鎖扣位置時,各該第一扣接單元的該擋止部位于對應的該第二扣接單元的該抵靠部沿該第一方向移動的路徑上,且在該第二盒體由一與該第一盒體相對打開的開啟狀態轉換至一與該第一盒體相對蓋合的閉合狀態的過程中,該卡勾的該彈性段于通過該擋止部時因受其擠壓而彈性變形地靠向該第二盒體并于通過該擋止部后回復原狀,而使該抵靠部抵靠于該擋止部并為該擋止部所擋止,以將該第二盒體固定于與該第一盒體相對蓋合的閉合狀態;當各該第一扣接單元位于該釋鎖位置時,各該第一扣接單元的該擋止部不在對應的該第二扣接單元的該抵靠部沿該第一方向移動的路徑上。
9.根據權利要求8所述光罩盒,其特征在于:各該第二扣接單元的該彈性段具有一可相對于對應的該第一扣接單元的該擋止部滑動的導引面。
10.根據權利要求9所述光罩盒,其特征在于:各該第二扣接單 元還具有一沿著該第二盒體表面朝向該第一盒體方向延伸的固定段,及一由該固定段往遠離該容置空間方向彎折延伸的連接段,且該彈性段由該連接段彎折而與該固定段相對并使該導引面漸往遠離該固定段方向斜向延伸。
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G03F 圖紋面的照相制版工藝,例如,印刷工藝、半導體器件的加工工藝;其所用材料;其所用原版;其所用專用設備
G03F1-00 用于圖紋面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其專門適用于此的容器;其制備
G03F1-20 .用于通過帶電粒子束(CPB)輻照成像的掩膜或空白掩膜,例如通過電子束;其制備
G03F1-22 .用于通過100nm或更短波長輻照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射線掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制備
G03F1-36 .具有臨近校正特征的掩膜;其制備,例如光學臨近校正(OPC)設計工藝
G03F1-38 .具有輔助特征的掩膜,例如用于校準或測試的特殊涂層或標記;其制備





